Patterning: Principles and some new developments

Advanced Materials

Volumn 16, Issue 15 SPEC. ISS., 2004, Pages 1249-1269

  Geissler, Matthias ^a   Xia, Younan ^a  

^a UNIVERSITY OF WASHINGTON   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COLLOIDS; DATA STORAGE EQUIPMENT; LATTICE CONSTANTS; LITHOGRAPHY; MAGNETIC FIELD EFFECTS; MASKS; MICROELECTROMECHANICAL DEVICES; MOLDING; NANOTECHNOLOGY; SELF ASSEMBLY;

EMBOSSING; PATTERNING PRINCIPLES; PHOTONIC CRYSTALS; POWER CONSUMPTION;

MATERIALS SCIENCE;

EID: 4544300248     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200400835     Document Type: Review

References (469)

1. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
2. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
3. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
4. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
5. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
6. General introduction to microfabrication: a) S. M. Sze, Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley, New York 1985. b) W. M. Moreau, Semiconductor Lithography: Principles and Materials, Plenum, New York 1988. Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication (Ed: P. Rai-Choudhury), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 1997. Microlithography - Science and Technology (Eds: J. R. Sheats, B. W. Smith), Marcel Dekker. New York 1998. e) W. Menz, J. Mohr, O. Paul Microsystem Technology, 2nd ed., Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2001. f) M J. Madou, Fundamentals of Microfabrication: The Science of Miniaturization, 2nd ed., CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
7. The International Technology Roadmap for Semiconductors, Semiconductor Industry Association, San Jose, CA 2003.
8. General reviews on MEMS: a) N. C. MacDonald, Microelectron. Eng. 1996, 32, 49. b) Microelectromechanical Systems: Technology and Applications, a special issue of MRS Bull. 2001, 26, 282. The MEMS handbook (Ed: M. Gad-El-Hak), CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
9. General reviews on MEMS: a) N. C. MacDonald, Microelectron. Eng. 1996, 32, 49. b) Microelectromechanical Systems: Technology and Applications, a special issue of MRS Bull. 2001, 26, 282. The MEMS handbook (Ed: M. Gad-El-Hak), CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
10. General reviews on MEMS: a) N. C. MacDonald, Microelectron. Eng. 1996, 32, 49. b) Microelectromechanical Systems: Technology and Applications, a special issue of MRS Bull. 2001, 26, 282. The MEMS handbook (Ed: M. Gad-El-Hak), CRC Press, Boca Raton, FL 2001.
11. For example: I. Fraden, Handbook of Modern Sensors: Physics, Designs, and Applications, 3rd ed., Springer Verlag, New York 2004.
12. General reviews on biochips: a) Nanofabrication and Biosystems: Integrating Materials Science, Engineering, and Biology (Eds: H. C. Hoch, L. W. Jelinski, H. G. Craighead), Cambridge University Press, New York 1996. b) D. J. Lockhart, E. A. Winzeler, Nature 2000, 405, 827. D. S. Wilson, S. Nock, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 494. Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices (Eds: O. Geschke, H. Klank, P. Telleman), Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2004.
13. General reviews on biochips: a) Nanofabrication and Biosystems: Integrating Materials Science, Engineering, and Biology (Eds: H. C. Hoch, L. W. Jelinski, H. G. Craighead), Cambridge University Press, New York 1996. b) D. J. Lockhart, E. A. Winzeler, Nature 2000, 405, 827. D. S. Wilson, S. Nock, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 494. Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices (Eds: O. Geschke, H. Klank, P. Telleman), Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2004.
14. General reviews on biochips: a) Nanofabrication and Biosystems: Integrating Materials Science, Engineering, and Biology (Eds: H. C. Hoch, L. W. Jelinski, H. G. Craighead), Cambridge University Press, New York 1996. b) D. J. Lockhart, E. A. Winzeler, Nature 2000, 405, 827. D. S. Wilson, S. Nock, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 494. Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices (Eds: O. Geschke, H. Klank, P. Telleman), Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2004.
15. General reviews on biochips: a) Nanofabrication and Biosystems: Integrating Materials Science, Engineering, and Biology (Eds: H. C. Hoch, L. W. Jelinski, H. G. Craighead), Cambridge University Press, New York 1996. b) D. J. Lockhart, E. A. Winzeler, Nature 2000, 405, 827. D. S. Wilson, S. Nock, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 494. Microsystem Engineering of Lab-on-a-Chip Devices (Eds: O. Geschke, H. Klank, P. Telleman), Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2004.
16. General reviews on photolithography: a) Optical Lithography, a special issue of IBM J. Res. Dev. 1997, 1-2, 3. b) T. Ito, S. Okazaki, Nature 2000, 406, 1027. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (Ed: A. K.-K. Wong), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 2001. A. K. Bates, M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, M. Switkes, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 605.
17. General reviews on photolithography: a) Optical Lithography, a special issue of IBM J. Res. Dev. 1997, 1-2, 3. b) T. Ito, S. Okazaki, Nature 2000, 406, 1027. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (Ed: A. K.-K. Wong), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 2001. A. K. Bates, M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, M. Switkes, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 605.
18. General reviews on photolithography: a) Optical Lithography, a special issue of IBM J. Res. Dev. 1997, 1-2, 3. b) T. Ito, S. Okazaki, Nature 2000, 406, 1027. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (Ed: A. K.-K. Wong), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 2001. A. K. Bates, M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, M. Switkes, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 605.
19. General reviews on photolithography: a) Optical Lithography, a special issue of IBM J. Res. Dev. 1997, 1-2, 3. b) T. Ito, S. Okazaki, Nature 2000, 406, 1027. Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (Ed: A. K.-K. Wong), SPIE Optical Engineering Press, Bellingham, WA 2001. A. K. Bates, M. Rothschild, T. M. Bloomstein, T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, V. Liberman, M. Switkes, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 605.
20. a) E. Reichmanis, L. F. Thompson, Chem. Rev. 1989, 59, 1273.
21. b) E. Reichmanis, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, T. X. Neenan, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 83.
22. c) S. A. MacDonald, C. Willson, J. M. J. Fréchet, Acc. Chem. Res. 1994, 27, 151.
23. d) A. Reiser, H.-Y. Shih, T.-F. Yeh, J.-P. Huang, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1996, 35, 2428.
24. e) J. M. Shaw, J. D. Gelorme, N. C. LaBianca, W. E. Conley, S. J. Holmes, IBM. I Res. Dev. 1997, 1-2, 81.
25. f) Micro- and Nanopatterning Polymers (Eds: H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, T. Ueno), American Chemical Society, Washington, DC 1998.
26. g) H. Ito, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 683.
27. a) Y. Xia, J. A. Rogers, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Chem. Rev. 1999, 99, 1823.
28. b) Emerging Methods for Micro- and Nanofabrication, a special issue of MRS Bull. 2001, 26, 506.
29. a) N. L. Abbott, J. P. Folkers, G. M. Whitesides, Science 1992, 257, 1380.
30. b) N. L. Abbott, D. R. Rolison, G. M. Whitesides, Langmuir 1994, 8, 267.
31. c) N. L. Abbott, A. Kumar, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1994, 6, 596.
32. Reviews on scanning probe lithography: a) R. M. Nyffenegger, R. M. Penner, Chem. Rev. 1997, 97, 1195. b) G.-Y. Liu, S. Xu, Y. Qian, Acc. Chem. Res. 2000, 33, 457. S. Krämer, R. R. Fuierer, C. B. Gorman. Chem. Rev. 2003, 103, 4367.
33. Reviews on scanning probe lithography: a) R. M. Nyffenegger, R. M. Penner, Chem. Rev. 1997, 97, 1195. b) G.-Y. Liu, S. Xu, Y. Qian, Acc. Chem. Res. 2000, 33, 457. S. Krämer, R. R. Fuierer, C. B. Gorman. Chem. Rev. 2003, 103, 4367.
34. Reviews on scanning probe lithography: a) R. M. Nyffenegger, R. M. Penner, Chem. Rev. 1997, 97, 1195. b) G.-Y. Liu, S. Xu, Y. Qian, Acc. Chem. Res. 2000, 33, 457. S. Krämer, R. R. Fuierer, C. B. Gorman. Chem. Rev. 2003, 103, 4367.
35. a) G. Binnig, M. Despont, U. Drechsler, W. Häberle, M. Lutwyche, P. Vettiger, H. J. Mamin, B. W. Chui, T. W. Kenny, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 1329.
36. b) P. Vettiger, M. Despont, U. Drechsler, U Dürig, W. Häberle, M. I. Lutwyche, H. E. Rothuizen, R. Stutz, R. Widmer, G. K. Binnig, IBM J. Res. Dev. 2000, 44, 323.
37. c) F. Iwata, K. Kobayashi, A. Sasaki, Y. Kawata, C. Egami, O. Sugihara, M. Tuchimori, O. Watanabe, Nanotechnology 2002, 13, 138.
38. d) F. Iwata, M. Yamaguchi, A. Sasaki, Wear 2003, 254, 1050.
39. See, for example: a) T. Suomomogi, T. Endo, K. Kuwahara, R. Kaneko, T. Miyamoto, J. Vac. Sci. Technol. B 1994, 12, 1876. b) L. Santinacci, T. Djenizian, P. Schmuki, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1882.
40. See, for example: a) T. Suomomogi, T. Endo, K. Kuwahara, R. Kaneko, T. Miyamoto, J. Vac. Sci. Technol. B 1994, 12, 1876. b) L. Santinacci, T. Djenizian, P. Schmuki, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1882.
41. a) S. Xu, S. Miller, P. E. Laibinis, G.-Y. Liu, Langmuir 1999, 15, 7244.
42. b) J. R. Kenseth, J. A. Harnisch, V. W. Jones, M. D. Porter, Langmuir 2001, 27, 4105.
43. c) J.-F. Liu, S. Cruchon-Dupeyrat, J. C. Garno, J. Frommer, G.-Y. Liu, Nano Lett. 2002,2, 937.
44. d) G.-Y. Liu, N. A. Amro, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2002, 99, 5165.
45. e) J. C. Garno, Y. Yang, N. A. Amro, S. Cruchon-Dupeyrat, S. Chen, G.-Y. Liu, Nano Lett. 2003, 3, 389.
46. f) M. Kaholek, W.-K. Lee, B. LaMattina, K. C. Caster, S. Zauscher, Nano Lett. 2004, 4, 373.
47. R. Resch, C. Baur, A. Bugacov, B. E. Koel, A. Madhukar, A. A. G. Requicha, P. Will, Langmuir 1998, 14, 6613.
48. a) Laser Processing and Chemistry (Ed: D. Bäuerle), 3rd ed., Springer Verlag, Berlin, Germany 2000.
49. b) D. Ashkenasi, G. Müller, A. Rosenfeld, R. Stoian, I. V. Hertel, N. M. Bulgakova, E. E. B. Campbell, Appl. Phys. A 2003, 77, 223.
50. c) K. Sugioka, K. Obata, M. H. Hong, D. J. Wu, L. L. Wong, Y. F. Lu, T. C. Chong, K. Midorokawa, Appl. Phys. A 2003, 77, 251.
51. d) P. E. Dyer, S. M. Maswadi, C. D. Walton, M. Erosz, P. D. I. Fletcher, V. N. Paunov, Appl. Phys. A 2003, 77, 391.
52. a) P. E. Dyer, Appl. Phys. A 2003, 77, 167.
53. b) T. Lippert, M. Hauer, C. R. Phipps, A. Wokaun, Appl. Phys. A 2003, 77, 259.
54. a) D. Haefliger, B. P. Cahill, A. Stemmer, Microelectron. Eng. 2003, 67/68, 473.
55. b) H. F. Hamann, S. I. Woods, S. Sun, Nano Lett. 2003, 3, 1643.
56. A review on NSOM: H. Heinzelmann, D. W. Pohl, Appl. Phys. A 1994, 59, 89.
57. a) G. Krausch, S. Wegschneider, A. Kirsch, H. Bielefeldt, J. C. Meiners, J. Mlynek, Opt. Commun. 1995, 119, 283.
58. b) I. I. Smolyaninov, D. L. Mazzoni, C. C. Davis. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3859.
59. c) S. Wegschneider, A. Kirsch, J. Mlynek, G. Krausch, Thin Solid Films 1995, 264, 264.
60. See, for example: S. Jiang, J. Ichihashi, H. Monobe, M. Fujihara, M. Ohtsu, Opt. Commun. 1994, 106, 173.
61. For example: S. Sun, K. S. L. Chong, G. J. Leggett, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 2414.
62. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
63. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
64. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
65. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
66. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
67. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
68. For electron-beam lithography, see: a) Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication (Ed: G. R. Brewer), Academic Press. New York 1980. b) R. G. Jones, P. C. M. Tate, Adv. Mater. Opt. Electron. 1994, 4, 139. A. N. Broers, A. C. F. Hoole, J. M. Ryan, Microelectron. Eng. 1996, 32, 131. F. Cerrina, C. Marrian, MRS Bull. 1996.21, December. 56. e) J. M. Gibson, Phys. Today 1997, October. 56. f) R. S. Dhaliwal, W. A. Enichen, S. D. Golladay, M. S. Gordon, R. A. Kendall, J. E. Lieberman, H. C. Pfeiffer, D. J. Pinckney, C. F. Robinson, J. D. Rockrohr, W. Stickel, E. V. Tressler, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 615. g) A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf. 2003, 26, 141.
69. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
70. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
71. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
72. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
73. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
74. For ion-beam lithography, see a) Ion-Assisted Processing of Electronic Materials, a special issue of MRS Bull. 1992, 17, June, 23. b) D. Brambley, B. Martin, P. D. Prewett. Adv. Mater. Opt. Electron. 1994.4, 55. K. Gamo, Microelectron. Eng. 1996, 32, 159. S. Matsui, Y. Ochiai, Nanotechnology 1996, 7, 247. e) Focused MeV Ion Beams for Materials Analysis and Microfabrication, a special issue of MRS Bull. 2000, 25, February, 11. f) F. Frost, B. Rauschenbach, Appl. Phys. A 2003, 77, 1.
75. For lithography with atoms see: a) R. Pool. Science 1992, 255, 1513. b) K. K. Berggren, A. Bard, J. L. Wilbur, J. D. Gillaspy, A. G. Helg, J. J. McClelland, S. L. Rolston, W. D. Phillips, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Science 1995, 269, 1255. R. Younkin, K. K. Berggren, K. S. Johnson, M. Prentiss, D. C. Ralph, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1261.
76. For lithography with atoms see: a) R. Pool. Science 1992, 255, 1513. b) K. K. Berggren, A. Bard, J. L. Wilbur, J. D. Gillaspy, A. G. Helg, J. J. McClelland, S. L. Rolston, W. D. Phillips, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Science 1995, 269, 1255. R. Younkin, K. K. Berggren, K. S. Johnson, M. Prentiss, D. C. Ralph, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1261.
77. For lithography with atoms see: a) R. Pool. Science 1992, 255, 1513. b) K. K. Berggren, A. Bard, J. L. Wilbur, J. D. Gillaspy, A. G. Helg, J. J. McClelland, S. L. Rolston, W. D. Phillips, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Science 1995, 269, 1255. R. Younkin, K. K. Berggren, K. S. Johnson, M. Prentiss, D. C. Ralph, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1261.
78. a) S. W. Kuan, C. W. Franck, Y. H. Yen Lee, T. Eimori, D. R. Allee, R. F. W. Pease, R. Browning, J. Vac. Sci Technol. B 1989, 7, 1745.
79. b) D. A. Muller, Y. Tzou, R. Raj, J. Silcox, Nature 1993, 366, 725.
80. c) P. E. Batson, Nature 1993, 366, 727.
81. Y. Chen, C. Vieu, H. Launois, Condens. Matter Phys. 1998, 6, 22.
82. See, for example: J. Fujita, H. Watanabe, Y. Ochiai, S. Manako, J. S. Tsai, S. Matsui, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 3065.
83. a) M. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh, D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 2823.
84. b) J. A. M. Sondag-Huethorst, H. R. J. van Helleputte, L. G. Fokkink, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 285.
85. c) G. Gillen, S. Wight, J. Bennett, M. J. Tarlov, Appl. Phys. Lett. 1994.65, 534.
86. d) M. J. Lercel, H. G. Craighead, A. N. Parikh, K. Seshadri, D. L. Allara, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 1504.
87. D. R. Medeiros, A. Aviram, C. R. Guarnieri, W.-S. Huang, R. Kwong, C. K. Magg, A. P. Mahorowala, W. M. Moreau, K. E. Petrillo, M. Angelopoulos, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 639.
88. a) A. J. Bard, G. Denault, C. Lee, D. Mandler, D. O. Wipf, Acc. Chem. Res. 1990, 23, 357.
89. b) Scanning Electrochemical Microscopy (Eds: A. J. Bard, M. V. Mirkin), Marcel Dekker. New York 2001.
90. a) G. Wittstock, W. Schumann, Anal. Chem. 1997, 69, 5059.
91. b) H. Shiku, I. Uchida, T. Matsue, Langmuir 1997, 13, 7239.
92. For example: G. S. Hsiao, R. M. Penner, J. Kingsley. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1350.
93. a) S. Kondo, M. Lutwyche, Y. Wada, Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 39.
94. b) S. Kondo, S. Heike, M. Lutwyche, Y. Wada, J. Appl. Phys. 1995, 78, 156.
95. a) D. M. Eigler, E. K. Schweizer, Nature 1990, 344, 524.
96. b) M. F. Crommie, C. P. Lutz, D. M. Eigler, Science 1993, 262, 218.
97. c) H. C. Manoharan, C. P. Lutz, D. M. Eigler, Nature 2000, 403, 512.
98. d) J. A. Heinrich, C. P. Lutz, D. M. Eigler, Science 2002, 298, 1381.
99. a) E. S. Snow, P. M. Campbell, Science 1995, 270, 1639.
100. b) E. S. Snow, P. M. Campbell, P. J. McMarr, Nanotechnology 1996, 7, 434.
101. c) P. Avouris, T. Hertel, R. Martel, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 285.
102. J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, H. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 271.
103. e) J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, K. Matsumoto, H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 1998, 84, 6891.
104. f) E. S. Snow, P. M. Campbell, F. K. Perkins. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1476.
105. g) M. Calleja, J. Anguita, R. García, K. Birkelund, F. Peẃrez-Murano, J. A. Dagata, Nanotechnology 1999, 10, 34.
106. h) F. S.-S. Chien, C.-L. Wu, Y.-C. Chou, T. T. Chen, S. Gwo, W.-F. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 1999, 75. 2429.
107. i)E. S. Snow, P. M. Campbell, M. Twigg, F. K. Perkins, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1109.
108. j) F. S.-S. Chien, W.-F. Hsieh, S. Gwo, A. E. Vladar, J. A. Dagata, J. Appl. Phys. 2002, 19, 10044.
109. k) H. Kuramochi, F. Pérez-Murano, J. A. Dagata, H. Yokoyama, Nanotechnology 2004, 15, 297.
110. a) E. B. Cooper, S. R. Manalis, H. Fang, H. Dai, K. Matsumoto, S. C. Minne, T. Hunt, C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3566.
111. b) F. S.-S. Chien, Y. C. Cou, T. T. Chen, W.-F. Hsieh, T.-S. Chao, S. Gwo, J. Appl. Phys. 2001, 89, 2465.
112. c) S. Lemshko, S. Gavrilov, V. Shevyakov, V. Roschin, R. Solomatenko, Nanotechnology 2001, 12, 273.
113. d)M. Rolandi, C. F. Quate, H. Dai, Adv. Mater. 2002, 14, 191.
114. e) N. Farkas, G. Zhang, E. A. Evans, R. D. Ramsier, J. A. Dagata., J. Vac. Sci. Technol. A 2003, 21, 1188.
115. a) K. Wilder, C. F. Quate, D. Adderton, R. Bernstein, V. Elings, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2527.
116. b) K. Wilder, H. T. Soh, A. Atalar, C. F. Quate, Rev. Sci. Instrum. 1999, 70, 2822.
117. a) R. Maoz, S. R. Cohen, J. Sagiv, Adv. Mater. 1999, 11, 55.
118. b) R. Maoz, E. Frydman, S. R. Cohen, J. Sagiv, Adv. Mater. 2000, 12, 424.
119. c) R. Maoz, E. Frydman, S. R. Cohen, J. Sagiv, Adv. Mater. 2000, 12, 725.
120. d)S. Hoeppener, R. Maoz, S. R. Cohen, L. Chi, H. Fuchs, J. Sagiv, Adv. Mater. 2002, 14, 1036.
121. e) S. Liu, R. Maoz, G. Schmid, J. Sagiv, Nano Lett. 2002, 2, 1055.
122. a) C. B. Gorman, R. L. Carroll, R. R. Fuierer, Langmuir 2001, 17. 6923.
123. b) R. R. Fuierer, R. L. Carroll, D. L. Feldheim, C. B. Gorman, Adv. Mater. 2002, 14, 154.
124. c) G. M. Credo, A. K. Boal, K. Das, T. H. Galow, V. M. Rotello, D. L. Feldheim, C. B. Gorman, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 9036.
125. H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn, H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 138.
126. a) A. D. Kent, T. M. Shaw, S. von Molnár, D. D. Awschalom, Science 1993, 262, 1249.
127. b) D. D. Awschalom, D. P. DiVincenzo, Phys. Today 1995. April. 43.
128. a) K. G. Ashar, Magnetic Disk Drive Technology-Heads, Media, Channel, Interfaces, and Integration. IEEE Press. Piscataway, NJ 1996.
129. b) S. Wang, A. Taratorin, Magnetic Information Storage Technology, Academic Press. San Diego, CA 1999.
130. c) U. Hartmann, Annu. Rev. Mater. Sci. 1999, 29, 53.
131. d)D. Weller, M. F. Doerner, Annu. Rev. Mater. Sci. 2000, 30, 611.
132. e) Tape Storage Systems and Technology, a special issue of IBM J. Res. Dev. 2003, 47, 371.
133. The Physics of Ultra-High-Density Magnetic Recording (Eds: M. L. Plumer, I. Van Ek. D. Weller), Springer Verlag, Berlin, Germany 2001.
134. C. L. Dennis, R. P. Borges, L. D. Buda, U. Ebels, J. F. Gregg, M. Hehn, E. Jouguelet, K. Ounadjela, I. Petej, I. L. Prejbeanu, M. J. Thornton, J. Phys. Condens. Matter 2002, 14, R1175.
135. C. B. Murray, S. H. Sun, H. Doyle, T. Betley, MRS Bull. 2001, 26, 985.
136. C. A. Ross, Annu. Rev. Mater. Sci. 2001, 31, 203.
137. a) Laser Microfabication- Thin Film Processes and Lithography (Eds: D. J. Ehrlich, J. Y. Tsao), Academic Press, Boston, MA 1989.
138. b) A. Miehr, R. A. Fischer, O. Lehmann, M. Stuke, Adv. Mater. Opt. Electron. 1996, 6, 27.
139. A. Lachish-Zalait, D. Zbaida, E. Klein, M. Elbaum, Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 218.
140. A. G. Schrott, B. Braren, E. J. M. O'Sullivan, R. F. Saraf, P. Bailey, J. Roldan, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 944.
141. A. Miehr, R. A. Fisher, O. Lehmann, M. Stuke, Adv. Mater. Opt. Electron. 1996, 6, 27.
142. A recent review: D. Bäuerle, R. Denk, J. D. Pedarnig, K. Piglmayer, J. Heitz, G. Schrems, Appl. Phys. A 2003, 77, 203.
143. See, for example: M. T. Reetz, M. Winter, G. Dumpich, J. Lohau, S. Friedrichowski, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 4539.
144. Recent reviews: a) P. Calvert. Chem. Mater. 2001, 13, 3299. b) Inkjet Printing of Functional Materials, a special issue of MRS Bull. 2003, 28, 802. B.-J. de Gans, P. C. Duineveld, U. S. Schubert, Adv. Mater. 2004, 16, 203.
145. Recent reviews: a) P. Calvert. Chem. Mater. 2001, 13, 3299. b) Inkjet Printing of Functional Materials, a special issue of MRS Bull. 2003, 28, 802. B.-J. de Gans, P. C. Duineveld, U. S. Schubert, Adv. Mater. 2004, 16, 203.
146. Recent reviews: a) P. Calvert. Chem. Mater. 2001, 13, 3299. b) Inkjet Printing of Functional Materials, a special issue of MRS Bull. 2003, 28, 802. B.-J. de Gans, P. C. Duineveld, U. S. Schubert, Adv. Mater. 2004, 16, 203.
147. a) H. Sirringhaus, T. Kawase, R. H. Friend, T. Shimoda, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, Science 2000, 290, 2123.
148. b) J. Z. Wang, Z. H. Zheng, H. W. Li, W. T. S. Huck, H. Sirringhaus, Nat. Mater. 2004, 3, 171.
149. a) A. P. Blanchard, R. J. Kaiser, L. E. Hood. Biosens. Bioelectron. 1996, 11, 687.
150. b) A. V. Lemmo, J. T. Fisher, H. M. Geysen, D. J. Rose, Anal. Chem. 1997, 69, 543.
151. c) T. Okamoto, T. Suzuki, N. Yamamoto, Nat. Biotechnol. 2000, 18, 438.
152. F. G. Zaugg, P. Wagner, MRS Bull. 2003, 28, 837.
153. A recent review: D. S. Ginger, H. Zhang, C. A. Mirkin, Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 30.
154. a) R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. Hong, C. A. Mirkin, Science 1999, 253, 661.
155. b) S. Hong, J. Zhu, C. A. Mirkin, Science 1999, 286, 523.
156. c) D. A. Weinberger, S. Hong, C. A. Mirkin, B. W. Wessels, T. B. Higgins, Adv. Mater. 2000, 12, 1601.
157. H. Zhang, S.-W. Chung, C. A. Mirkin, Nano Lett. 2003, 3, 43.
158. a) M. B. Ali, T. Ondarcuhu, M. Brust, C. Joachim, Langmuir 2002, 18, 872.
159. b) J. C. Garno, Y. Y. Yang, N. A. Amro, S. Cruchon-Dupeyrat, S. W. Chen, G.-Y. Liu, Nano Lett. 2003, 3, 389.
160. c) L. Fu, X. Liu, Y. Zhang, V. P. Dravid, C. A. Mirkin, Nano Lett. 2003, 3, 757.
161. a) Y. Li, B. W. Maynor, J. Liu, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 2105.
162. b) B. W. Maynor, J. Liu, Langmuir 2001, 17, 2575.
163. c) L. A. Porter, H. C. Choi, J. M. Schmeltzer, A. E. Ribbe, L. C. C. Elliott, J. M. Buriak, Nano Lett. 2002, 2, 1369.
164. a) B. W. Maynor, S. F. Filocamo, M. W. Grinstaff, J. J. Liu, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 522.
165. b) J. H. Lim, C. A. Mirkin, Adv. Mater. 2002, 14, 1474.
166. c) A. Noy, A. E. Miller, J. E. Klare, B. L. Weeks, B. W. Woods, J. J. De Yoreo, Nano Lett. 2002, 2, 109.
167. a) D. L. Wilson, R. Martin, S. Hong, M. Cronin-Golomb, C. A. Mirkin, D. L. Kaplan, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2001, 98, 13660.
168. b) L. M. Demers, S.-J. Park, T. A. Taton, Z. Li, C. A. Mirkin, Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 3071.
169. c) K.-B. Lee, S.-J. Park, C. A. Mirkin, J. C. Smith, M. Mrksich, Science 2002, 295, 1702.
170. d)L. M. Demers, D. S. Ginger, S.-J. Park, Z. Li, S.-W. Chung, C. A. Mirkin, Science 2002, 296, 1836.
171. e) J. H. Lim, D. S. Ginger, K.-B. Lee, J. Heo, J. M. Nam, C. A. Mirkin, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 2309.
172. f) K.-B. Lee, J.-H. Lim, C. A. Mirkin, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 5588.
173. a) J.-M. Lehn, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1990, 29, 1304.
174. b) G. M. Whitesides, J. P. Mathias, C. T. Seto, Science 1991, 254, 1312.
175. c) G. M. Whitesides, Sci. Am. 1995, 273, 146.
176. G. M. Whitesides, B. A. Grzybowski, Science 2002, 295, 2418.
177. L. Isaacs, D. N. Chin, N. Bowden, Y. Xia, O. M. Whitesides, in Supermolecular Materials and Technologies (Ed: D. N. Reinhoudt), John Wiley & Sons, New York 1999, p. 1.
178. a) T. E. Creigton, Proteins: Structures and Molecular Properties, Freeman, New York 1983,
179. b) A. Klug, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1983, 22, 565.
180. c) W. Sanger, Principles of Nucleic Acid Structures, Springer-Verlag, New York 1986.
181. H. Ringsdorf, B. Schlarb, J. Venzmer, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1988, 27, 113.
182. a) J.-M. Lehn, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1988, 27, 89.
183. b) J. S. Lindsey, New J. Chem. 1991, 15, 153.
184. c) E. E. Simanek, J. P. Mathias, C. T. Seto, D. Chin, M. Mammen, D. M. Gordon, G. M. Whitesides, Acc. Chem. Res. 1995, 28, 37.
185. D. Philp, J. F. Stoddart, Angew. Chem. Int. Ed. Engl 1996, 35, 1154.
186. a) H. Fan, K. Yang, D. M. Boye, T. Sigmon, K. J. Malloy, H. Xu, G. P. Lopez, C. J. Brinker, Science 2004, 304, 567.
187. b) S. Park, J.-H. Lim, S.-W. Chung, C. A. Mirkin, Science 2004, 303, 348.
188. a) N. Bowden, A. Terfort, J. Carbeck, G. M. Whitesides, Science 1997, 276,233.
189. b) J. Tien, T. L. Breen, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 12670.
190. c) T. L. Breen, J. Tien, S. R. J. Oliver, T. Hadzic, G. M. Whitesides, Science 1999, 284, 948.
191. d)N. Bowden, I. S. Choi, B. A. Grzybowski, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1999, 127, 5373.
192. e) I. S. Choi, N. Bowden, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1999, 38, 3078.
193. f) D. H. Gracias, J. Tien, T. L. Breen, C. Hsu, G. M. Whitesides, Science 2000, 289, 1170.
194. g) N. B. Bowden, M. Weck, I. S. Choi, G. M. Whitesides, Ace. Chem. Res. 2001, 34, 231.
195. A. Terfort, N. Bowden, G. M. Whitesides, Nature 1997, 356, 162.
196. H. O. Jacobs, A. R. Tao, A. Schwartz, D. H. Gracias, G. M. White-sides, Science 2002, 296, 323.
197. B. A. Grzybowski, H. A. Stone, G. M. Whitesides, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2002, 99, 4147.
198. Y. Xia, Y. Yin, Y. Lu, J. McLellan, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 907.
199. a) S. Förster, M. Antonietti, Adv. Mater. 1998, 10, 195.
200. b) F. S. Bates, G. H. Fredrickson, Phys. Today 1999, February. 32.
201. c) M. J. Fasolka, A. M. Mayes, Annu. Rev. Mater. Res, 2001, 37, 323.
202. a) H. Yokoyama, T. E. Mates, E. J. Kramer, Macromolecules 2000, 33, 1888.
203. b) T. Thurn-Albrecht, R. Steiner, J. DeRouchey, C. M. Stafford, E. Huang, M. Bal, M. Tuominen, C. J. Hawker, T. P. Russell, Adv. Mater. 2000, 12, 787.
204. c) K. W. Guarini, C. T. Black, S. H. I. Yeung, Adv. Mater. 2002, 14, 1290.
205. R. A. Segalman, A. Hexemer, R. C. Hayward, E. J. Kramer, Macromolecules 2003, 36, 3272.
206. e) R. A. Segalman, K. E. Schaefer, G. H. Fredrickson, E. J. Kramer, S. Magonov, Macromolecules 2003, 36, 4498.
207. M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Science 1997, 276, 1401.
208. a) P. Mansky, C. K. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, N. Yao, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2586.
209. b) R. P. Li, P. D. Dapkus, M. E. Thompson, W. G. Jeong, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1689.
210. c) T. Thurn-Albrecht, J. Schotter, G. A. Kästle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krustin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, T. P. Russell, Science 2000, 290, 2126.
211. H.-C. Kim, X. Jia, C. M. Stafford, D. H. Kim, T. J. McCarthy, M. Tuominen, C. J. Hawker, T. P. Russell. Adv. Mater. 2001, 13, 795.
212. W. A. Lopes, H. M. Jaeger, Nature 2001, 414, 735.
213. T. L. Morkved, M. Lu, A. M. Urbas, E. E. Ehrichs, H. M. Jaeger, P. Mansky, T. P. Russell, Science 1996, 273, 931.
214. S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovic, N. J. Ferrier, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Nature 2003, 424, 411.
215. B. Francois, O. Pitois, J. Francois, Adv. Mater. 1995, 7, 1041.
216. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
217. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
218. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
219. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
220. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
221. Early studies: a) Y. C. Fisher, H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 881. b) H. W. Deckman, J. H. Dunsmuir, Appl. Phys. Lett. 1982, 41, 377. b) C. B. Roxlo, H. W. Deckman, B. Abeles, Phys. Rev. Lett. 1986, 57, 2462. C. B. Roxlo, H. W. Deckman, J. Gland, S. D. Cameron, R. R. Chianelli. Science 1987, 235, 1629. e) H. W. Deckman, T. D. Moustakas, J. Vac. Sci. Technol. 1988, B6, 316. f) H. Fang, R. Zeller, P. J. Stiles, Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1433.
222. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
223. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
224. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
225. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
226. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
227. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
228. Recent studies: a) M. Green, M. Garcia-Parajo, F. Khaleque, Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 264. b) J. Boneberg, F. Burmeister, C. Schafle, P. Leiderer, D. Reim, A. Fery, S. Herminghaus, Langmuir 1997, 13. 7080. R. Wiesendanger, M. Bode, M. Kleiber, M. Lohndorf, P. R. A. Wadas, D. Weiss, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1330. F. Burmeister, C. Schafle, B. Keilhofer, C. Bechinger, J. Boneberg, P. Leiderer, Adv. Mater. 1998, 10, 495. e) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854. f) W. Frey, C. K. Woods, A. Chilkoti, Adv. Mater. 2001, 13, 1515. g) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599.
229. C. L. Haynes, A. D. McFarland, M. T. Smith, J. C. Hulteen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1898.
230. J. M. McLellan, M. Geissler, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc., in press.
231. S. P. A. Fodor, J. L. Read, M. C. Pirrug, L. Stryer, A. T. Lu, D. Solas, Science 1991, 251, 761.
232. a) J. Huang, J. C. Hemminger, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 3342.
233. b) M. J. Tarlov, D. R. F. Burgess, Jr., G. Gillen, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 5305.
234. c) E. W. Wollman, C. D. Frisbie, M. S. Wrighton, Langmuir 1993, 9, 1517.
235. d)J. Huang, D. A. Dahlgren, J. C. Hemminger, Langmuir 1994, 10, 626.
236. e) S.-W. Tam-Chang, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides, N. Jeon, R. G. Nuzzo Langmuir 1995, 11, 4371.
237. f) K. C. Chan, T. Kim, J. K. Schoer, R. M. Crooks, J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 5875.
238. g) D. J. Pritchard, H. Morgan, J. M. Cooper, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, 91
239. h) D. A. Hutt, E. Cooper, L. Parker, G. J. Leggett, T. L. Parker, Langmuir 1996, 12, 5494.
240. S. Friebel, J. Aizenberg, S. Abad, P. Wiltzius. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2406.
241. a) X.-D. Xiang, X. Sun, G. Briceño, Y. Lou, K.-A. Wang, H. Chang, W. G. Wallace-Freedman, S.-W. Chen, F. G. Schultz, Science 1995, 268, 1738.
242. b) C. Stamm, F. Marty, A. Vaterlaus, V. Weich, S. Egger, U. Meier, U. Ramsperger, H. Fuhrmann, D. Pescia, Science 1998, 252, 449.
243. c) M. M. Deshmukh, D. C. Ralph, M. Thomas, J. Silcox, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1631.
244. d)J. Köhler, M. Albrecht, C. R. Musil, E. Bucher, Phys. E 1999, 4, 196.
245. e) J. Brugger, J. W. Berenschot, S. Kuiper, W. Nijdam, B. Otter, M. Elwenspoek, Microelectron. Eng. 2000, 53, 403.
246. f) M. Kölbel, R. W. Tjerkstra, J. Brugger, C. J. M. van Rijn, W. Nijdam, J. Huskens, D. N. Reinhoudt, Nano Lett. 2002, 2, 1339.
247. g) Y. X. Zhou, A. T. Johnson, Jr., J. Hone, W. F. Smith, Nano Lett. 2003, 3, 1371.
248. a) D. H. Pearson, R. J. Tonucci, Adv. Mater. 1996, 8, 1031,
249. b) G. Cheng, M. Moskovits, Adv. Mater. 2002, 14, 1567.
250. H. Masuda, K. Yasui, K. Nishio, Adv. Mater. 2000, 12, 1031.
251. a) Y. Xia, E. Kim, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 1558.
252. b) R. J. Jackman, D. C. Duffy, O. Cherniavskaya, G. M. Whitesides, Langmuir 1999, 15, 2973.
253. A. Tourovskaya, T. Barber, B. T. Wickes, D. Hirdes, B. Grin, D. G. Castner, K. E. Healy, A. Folch, Langmuir 2003, 19, 4754.
254. W. Kern, C. A. Deckert, in Thin Film Processes (Eds: J. L. Vossen, W. Kern), Academic Press, New York 1978, p. 401.
255. a) K. E. Petersen, Proc. IEEE 1982, 70,420.
256. b) Y. Xia, G. M. White-sides. Adv. Mater. 1996, 8, 765.
257. a) Y. Xia, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37, 550.
258. b) Y. Xia, G. M. Whitesides, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28, 153.
259. B. Michel, A. Bernard, A. Bietsch, E. Delamarche, M. Geissler, D. Juncker, H. Kind, J.-P. Renault, H. Rothuizen, H. Schmid, P. Schmidt-Winkel, R. Stutz, H. Wolf, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 697.
260. a) H. W. Lehmann, R. Widmer, M. Ebnoether, A. Wokaun, M. Meier, S. K. Miller, J. Vac. Sci. Technol. B 1983, 1. 1207.
261. b) M. Emmelius, G. Pawlowski, H. W. Vollmann, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1989, 28, 1445.
262. c) K.-H. Schlereth, H. Böttner, J. Vac. Sci. Technol. B 1992, 10. 114.
263. d)S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
264. e) H. Tan, A. Gilbertson, S. Y. Chou, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3926.
265. f) H. Schulz, H.-C. Scheer, T. Hoffmann, C. M. Sotomayor Torres, K. Pfeiffer, G. Bleidiessel, G. Grützner, C. Cardinaud, F. Gaboriau, M.-C. Peignon, J. Ahopelto, B. Heidari, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 1861.
266. g) H. Schulz, D. Lyebyedyev, H.-C. Scheer, K. Pfeiffer, G. Bleidiessel, G. Grützner, J. Ahopelto, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 3582.
267. h) S. Y. Chou, MRS Bull. 2001, 26, 512.
268. a) K. Y. Sub, Y. S. Kim, H. H. Lee. Adv. Mater. 2001, 13, 1386.
269. b) A. Khademhosseini, S. Jon, K. Y. Suh, T.-N. T. Tran, G. Eng, J. Yeh, J. Seong, R. Langer, Adv. Mater. 2003, 15, 1995.
270. S. Y. Chou, C. Keimel, J. Gu, Nature 2002, 417, 835.
271. a) H. C. Haverkorn van Rijsewijk, P. E. J. Legierse, G. E. Thomas, Philips Tech. Rev. 1982, 40, 287.
272. b) J. G. Kloosterboer, G. J. M. Lippus, H. C. Meinders, Philips Tech. Rev. 1982, 40, 198.
273. B. D. Terris, H. J. Mamin, M. E. Best, J. A Logan, D. Rugar, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4262.
274. a) Y. Xia, E. Kim, X.-M. Zhao, J. A. Rogers, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Science 1996, 273, 347.
275. b) Y. Xia, J. J. McClelland, R. Gupta, D. Qin, X.-M. Zhao, L. L. Sohn, R. J. Celotta, G. M. Whitesides. Adv. Mater. 1997, 9, 147.
276. B. D. Gates, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14986.
277. a) X.-M. Zhao, Y. Xia, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1996, 8, 837.
278. b) P. M. Moran, F. F. Lange, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 1332.
279. R. C. Bailey, K. J. Stevenson, J. T. Hupp, Adv. Mater. 2000, 12, 1930.
280. M. Cavallini, M. Murgia, F. Biscarini, Nano Lett. 2001, 1, 193.
281. E. Kim, Y. Xia, X.-M. Zhao, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1997, 9, 651.
282. a) J. A. Rogers, Z. Bao, L. Dhar, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 294.
283. b) F. Zhang, T. Nyberg, O. Inganäs, Nano Lett. 2002, 2, 1373.
284. a) E. Kim, Y. Xia, G. M. Whitesides, Nature 1995, 376, 581.
285. b) E. Kim, Y. Xia, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 5722.
286. W. S. Beh, I. T. Kim, D. Qin, Y. Xia, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1999, 11, 1038.
287. a) E. Kim, Y. Xia, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1996, 8, 245.
288. b) J. A. Rogers, Z. Bao, V. R. Raju, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2716.
289. a) W. S. Beh, Y. Xia, D. Qin, J. Mater. Res. 1999, 14, 3995.
290. b) M. Heule, L. J. Gauckler, Adv. Mater. 2001, 13, 1790.
291. a) P. Yang, G. Wirnsberger, H. C. Huang, S. R. Cordero, M. D. McGehee, B. Scott, T. Deng, G. M. Whitesides, B. F. Chmelka, S. K. Buratto, G. D. Stucky, Science 2000, 287, 465.
292. b) P. Yang, A. H. Rizvi, B. Messer, B. F. Chmelka, G. M. Whitesides, G. D. Stucky, Adv. Mater. 2001, 13, 427.
293. a) A. Kumar, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2002.
294. b) A. Kumar, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides. Langmuir 1994, 10, 1498.
295. c) C. B. Gorman, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1995, 7, 252.
296. d)A. Kumar, N. L. Abbott, E. Kim, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides, Acc. Chem. Res. 1995, 28, 219.
297. e) Y. Xia, X.-M. Zhao, G. M. Whitesides, Microelectron. Eng. 1996, 32, 255.
298. f) N. B. Larsen, H. Biebuyck, E. Delamarche, B. Michel, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 3017.
299. g) E. Delamarche, H. Schmid, A. Bietsch, N. B. Larsen, H. Rothuizen, B. Michel, H. Biebuyck, J. Phys. Chem. B 1998, 102, 3324.
300. h) L. Libioulle, A. Bietsch, H. Schmid, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 1999, 15, 300.
301. i)J. Aizenberg, A. J. Black, G. M. Whitesides, Nature 1999, 398, 495.
302. j) M. Geissler, H. Wolf, R. Stutz, E. Delamarche, U.-W. Grummt, B. Michel, A. Bietsch. Langmuir 2003, 19, 6301.
303. a) C. D. Bain, E. B. Troughton, Y.-T. Tao, J. Evall, G. M. Whitesides, R. G. Nuzzo, J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 321.
304. b) G. M. Whitesides, P. E. Laibinis. Langmuir 1990, 6, 87.
305. c) L. H. Dubois, R. G. Nuzzo, Annu. Rev. Phys. Chem. 1992, 43, 437.
306. d) A. R. Bishop, R. G. Nuzzo, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 1996, 1, 127.
307. e) E. Delamarche, B. Michel, H. A. Biebuyck, C. Gerber, Adv. Mater. 1996, 8, 719.
308. Microcontact printing of alkanethiols on silver: a) Y. Xia, E. Kim, G. M. Whitesides, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 1070. b) X. M. Yang, A. A. Tryk, K. Hasimoto, A. Fujishima, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4020. J. Tate, J. A. Rogers, C. D. W. Jones, B. Vyas, D. W. Murphy, W. Li, Z. Bao, R. E. Slusher, A. Dodabalapur, H. E. Katz, Langmuir 2000, 16, 6054.
309. Microcontact printing of alkanethiols on silver: a) Y. Xia, E. Kim, G. M. Whitesides, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 1070. b) X. M. Yang, A. A. Tryk, K. Hasimoto, A. Fujishima, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4020. J. Tate, J. A. Rogers, C. D. W. Jones, B. Vyas, D. W. Murphy, W. Li, Z. Bao, R. E. Slusher, A. Dodabalapur, H. E. Katz, Langmuir 2000, 16, 6054.
310. Microcontact printing of alkanethiols on silver: a) Y. Xia, E. Kim, G. M. Whitesides, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 1070. b) X. M. Yang, A. A. Tryk, K. Hasimoto, A. Fujishima, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4020. J. Tate, J. A. Rogers, C. D. W. Jones, B. Vyas, D. W. Murphy, W. Li, Z. Bao, R. E. Slusher, A. Dodabalapur, H. E. Katz, Langmuir 2000, 16, 6054.
311. Microcontact printing of alkanethiols on copper: a) T. P. Moffat, H. Yang, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L220. b) Y. Xia, E. Kim, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 601. M. Geissler, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2374. E. Delamarche, M. Geissler, R. H. Magnuson, H. Schmid, B. Michel, Langmuir 2003, 19, 5892. e) E. Delamarche, J. Vichiconti, S. A. Hall, M. Geissler, W. Graham, B. Michel, R. Nunes, Langmuir 2003, 19, 6567.
312. Microcontact printing of alkanethiols on copper: a) T. P. Moffat, H. Yang, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L220. b) Y. Xia, E. Kim, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 601. M. Geissler, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2374. E. Delamarche, M. Geissler, R. H. Magnuson, H. Schmid, B. Michel, Langmuir 2003, 19, 5892. e) E. Delamarche, J. Vichiconti, S. A. Hall, M. Geissler, W. Graham, B. Michel, R. Nunes, Langmuir 2003, 19, 6567.
313. Microcontact printing of alkanethiols on copper: a) T. P. Moffat, H. Yang, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L220. b) Y. Xia, E. Kim, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 601. M. Geissler, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2374. E. Delamarche, M. Geissler, R. H. Magnuson, H. Schmid, B. Michel, Langmuir 2003, 19, 5892. e) E. Delamarche, J. Vichiconti, S. A. Hall, M. Geissler, W. Graham, B. Michel, R. Nunes, Langmuir 2003, 19, 6567.
314. Microcontact printing of alkanethiols on copper: a) T. P. Moffat, H. Yang, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L220. b) Y. Xia, E. Kim, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 601. M. Geissler, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2374. E. Delamarche, M. Geissler, R. H. Magnuson, H. Schmid, B. Michel, Langmuir 2003, 19, 5892. e) E. Delamarche, J. Vichiconti, S. A. Hall, M. Geissler, W. Graham, B. Michel, R. Nunes, Langmuir 2003, 19, 6567.
315. Microcontact printing of alkanethiols on copper: a) T. P. Moffat, H. Yang, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, L220. b) Y. Xia, E. Kim, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Chem. Mater. 1996, 8, 601. M. Geissler, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2374. E. Delamarche, M. Geissler, R. H. Magnuson, H. Schmid, B. Michel, Langmuir 2003, 19, 5892. e) E. Delamarche, J. Vichiconti, S. A. Hall, M. Geissler, W. Graham, B. Michel, R. Nunes, Langmuir 2003, 19, 6567.
316. Microcontact printing of alkanethiols on palladium: a) A. Carvalho, M. Geissler, H. Schmid, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2002, 18, 2406.
317. b) J. C. Love, D. B. Wolfe, M. L. Chabinyc, K. E. Paul, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 1576,
318. D. B. Wolfe, J. C. Love, K. E. Paul, M. L. Chabinyc, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2222.
319. a) N. L. Jeon, R. G. Nuzzo, Y. Xia, M. Mrksich, G. M. Whitesides, Langmuir 1995, 11, 3024.
320. b) P. M. St. John, H. G. Craighead, Appl. Phys. Lett. 1996, 65, 1022.
321. c) N. L. Jeon, K. Finnie, K. Branshaw, R. G. Nuzzo, Langmuir 1997, 13, 3382.
322. d) D. Wang, S. G. Thomas, K. L. Wang, Y. Xia, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1593.
323. e) N. L. Jeon, I. S. Choi, G. M. Whitesides, N. Y. Kim, P. E. Laibinis, Y. Harada, K. R. Finnie, G. S. Girolami, R. G. Nuzzo, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 4201.
324. f) K. Ha, Y.-J. Lee, D.-Y. Jung, J. H. Lee, K. B. Yoon, Adv. Mater. 2000, 12, 1614.
325. g) K. R. Finnie, R. Haasch, R. G. Nuzzo, Langmuir 2000, 16, 6968.
326. h) Y. Harada, G. S. Girolami, R. G. Nuzzo, Langmuir 2003, 19, 5104.
327. i) M. H. Park, Y. J. Jang, H. M. Sung-Suh, M. M. Sung, Langmuir 2004, 20, 2257.
328. L. B. Goetting, T. Deng, G. M. Whitesides, Langmuir 1999, 15, 1182.
329. a) H. Kind, J.-M. Bonard, C. Emmenegger, L.-O. Nilsson, K. Hernadi, E. Maillard-Schaller, L. Schlapbach, L. Forrö, K. Kern, Adv. Mater. 1999, 11, 1285.
330. b) H. Kind, M. Geissler, H. Schmid, B. Michel, K. Kern, E. Delamarche, Langmuir 2000, 16, 6367.
331. H. Kind, J.-M. Bonard, L. Forró, K. Kern, K. Hernadi, L.-O. Nilsson, L. Schlapbach, Langmuir 2000, 16, 6877.
332. a) P. C. Hidber, W. Heibig, E. Kim, G. M. Whitesides, Langmuir 1996, 12, 1375.
333. b) M. Geissler, H. Kind, P. Schmidt-Winkel, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 2003, 19, 6283.
334. V. Santhanam, R. P. Andres, Nano Lett. 2004, 4, 41.
335. X. C. Wu, A. M. Bittner, K. Kern, Adv. Mater. 2004, 16, 413.
336. a) L. Yan, X.-M. Zhao, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 6179.
337. b) J. Lahiri, E. Ostuni, G. M. Whitesides, Langmuir 1999, 15, 2055.
338. a) L. Yan, W. T. S. Huck, X.-M. Zhao, G. M. Whitesides, Langmuir 1999, 15, 1208.
339. b) M. Wang, H.-G. Braun, T. Kratzmüller, E. Meyer, Adv. Mater. 2001, 13, 1312.
340. c) J. Park, P. T. Hammond, Adv. Mater. 2004, 16, 520.
341. d) B. F. Lyles, M. S. Terrot, P. T. Hammond, A. P. Gast, Langmuir 2004, 20, 3028.
342. a) J. S. Hovis, S. G. Boxer, Langmuir 2000, 16, 894.
343. b) J. S. Hovis, S. G. Boxer, Langmuir 2001, 17, 3400.
344. c) J. T. Groves, S. G. Boxer, Acc. Chem. Res. 2002, 35, 149.
345. a) C. D. James, R. C. Davis, L. Kam, H. G. Craighead, M. Isaacson, J. N. Turner, J. N. Shain, Langmuir 1998, 14, 741.
346. b) A. Bernard, E. Delamarche, H. Schmid, B. Michel, H. R. Bosshard, H. Biebuyck, Langmuir 1998, 14, 2225.
347. A. Bernard, J. P. Renault, B. Michel, H. R. Bosshard, E. Delamarche, Adv. Mater. 2000, 12, 1067.
348. L. A. Kung, L. Kam, J. S. Hovis, S. G. Boxer, Langmuir 2000, 16, 6773.
349. e) A. Bernard, D. Fitzli, P. Sonderegger, E. Delamarche, B. Michel, H. R. Bosshard, H. Biebuyck, Nat. Biotechnol. 2001, 19, 866.
350. f) L. Tan, J. Tien, C. S. Chen, Langmuir 2002, 18, 519.
351. g) J. P. Renault, A. Bernard, D. Juncker, B. Michel, H. R. Bosshard, E. Delamarche, Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 2320.
352. h) S. W. Howell, H. D. Inerowicz, F. E. Regnier, R. Reifenberger, Langmuir 2003, 19, 436.
353. D. J. Graber, T. J. Zieziulewicz, D. A. Lawrence, W. Shain, J. N. Turner, Langmuir 2003, 19, 5431.
354. j) J. P. Renault, A. Bernard, A. Bietsch, B. Michel, H. R. Bosshard, M. Kreiter, B. Hecht, U. P. Wild, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 703.
355. a) Y.-L. Loo, R. L. Willett, K. W. Baldwin, J. A. Rogers, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7654.
356. b) Y.-L. Loo, R. L. Willet, K. W. Baldwin, J. A. Rogers, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 562.
357. c) C. Kim, M. Shtein, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4051.
358. d) H. Schmid, H. Wolf, R. Allenspach, H. Riel, S. Karg, B. Michel, E. Delamarche, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 135.
359. e) Y.-L. Loo, D. V. Lang, J. A. Rogers, J. W. P. Hsu, Nano Lett. 2003, 3, 913.
360. f) J. Zaumseil, M. A. Meitl, J. W. P. Hsu, B. R. Acharya, K. W. Baldwin, Y.-L. Loo, J. A. Rogers, Nano Lett. 2003, 3, 1223.
361. g) C. D. Schaper, Nano Lett. 2003, 5, 1305.
362. a) H. Schmid, B. Michel, Macromolecules 2000, 33, 3042.
363. b) K. M. Choi, J. A. Rogers, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 4060.
364. c) G. Csucs, T. Künzler, K. Feldman, F. Robin, N. D. Spencer, Langmuir 2003, 19, 6104.
365. a) R. J. Jackman, J. L. Wilbur, G. M. Whitesides, Science 1995, 269, 664.
366. b) J. A. Rogers, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, D. L. Olson, J. V. Sweedler, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2464.
367. c) J. A. Rogers, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1997, 9, 475.
368. M. Geissler, A. Bernard, A. Bietsch, H. Schmid, B. Michel, E. Delamarche, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 6303.
369. H. O. Jacobs, G. M. Whitesides, Science 2001, 297, 1763.
370. Z. Z. Bandic, H. Xu, T. R. Albrecht, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 145.
371. a) E. Delamarche, A. Bernard, H. Schmid, B. Michel, H. A. Biebuyck, Science 1997, 276, 779.
372. b) E. Delamarche, A. Bernard, H. Schmid, A. Bietsch, B. Michel, H. Biebuyck, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 500.
373. c) A. Folch, M. Toner, Biotechnol. Prog. 1998, 14, 388.
374. d) P. J. A. Kenis, R. F. Ismagilov, G. M. Whitesides, Science 1999, 285, 83.
375. e) S. Takayama, J. C. McDonald, E. Ostuni, M. N. Liang, P. J. A. Kenis, R. F. Ismagilov, G. M. Whitesides, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 1999, 96, 5545.
376. f) D. T. Chiu, N. L. Jeon, S. Huang, R. S. Kane, C. J. Wargo, I. S. Choi, D. E. Ingber, G. M. Whitesides, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2000, 97, 2408.
377. g) J. C. McDonald, D. C. Duffy, J. R. Anderson, D. T. Chiu, H. Wu, O. J. A. Schneller, G. M. Whitesides, Electrophoresis 2000, 27, 27.
378. h) I. Caelen, A. Bernard, D. Juncker, B. Michel, H. Heinzelmann, E. Delamarche, Langmuir 2000, 16, 9125,
379. i) A. Bernard, B. Michel, E. Delamarche, Anal. Chem. 2001, 73, 8.
380. j) S. Takayama, E. Ostuni, X. Qian, J. C. McDonald, X. Jiang, P. LeDuc, M.-H. Wu, D. E. Ingber, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 2001, 13, 570.
381. k) D. Juncker, H. Schmid, U. Drechsler, H. Wolf, M. Wolf, B. Michel, N. de Rooij, E. Delamarche, Anal. Chem. 2002, 74, 6139.
382. l) S. K. W. Dertinger, X. Jiang, Z. Li, V. N. Murthy, G. M. Whitesides, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2002, 99, 12542.
383. m) K. A. Fosser, R. G. Nuzzo, Anal. Chem. 2003, 75, 5775.
384. a) J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2658.
385. b) J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, J. Vac. Sci. Technol B 1998, 16, 59.
386. J. A. Rogers, A. Dodabalapur, Z. Bao, H. E. Katz, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1010.
387. Y. Yin, B. Gates, Y. Xia, Adv. Mater. 2000, 12, 1426.
388. e) Z.-Y. Li, Y. Yin, Y. Xia, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2431.
389. f) T. W. Odom, V. R. Thalladi, J. C. Love, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 12112.
390. g) T. W. Odom, J. C. Love, D.B. Wolfe, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Langmuir 2002, 18, 5314.
391. h) K. E. Paul, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 259.
392. K. E. Paul, T. L. Breen, J. Aizenberg, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2893.
393. J. C. Love, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 2001, 13, 604.
394. a) J. Aizenberg, A. J. Black, G. M. Whitesides, Nature 1998, 394, 868.
395. b) A. J. Black, K. E. Paul, J. Aizenberg, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 8356.
396. a) Y. C. Chang, L. L. Chang, L. Esaki, Appl. Phys. Lett. 1985, 47, 1324.
397. b) S. Tsukamoto, Y. Nagamune, M. Nishioka, Y. Arakawa, Appl. Phys. Lett. 1992, 63, 355.
398. N. A. Melosh, A. Boukai, F. Diana, B. Gerardot, A. Badolato, P. M. Petroff, J. R. Heath, Science 2003, 300, 112.
399. a) S. Morin, A. Lachenwitzer, O. M. Magnussen, R. J. Behm, Phys. Rev. Lett. 1999, 83, 5066.
400. b) P. Gambardella, M. Blanc, H. Brune, K. Kuhnke, K. Kern, Phys. Rev. B 2000, 61, 2254.
401. M. P. Zach, K. H. Ng, R. M. Penner, Science 2000, 290, 2120.
402. F. Favier, E. C. Walter, M. P. Zach, T. Benter, R. M. Penner, Science 2001, 293, 2227.
403. e) E. C. Walter, M. P. Zach, F. Favier, B. J. Murray, K. Inazu, J. C. Hemminger, R. M. Penner, ChemPhysChem 2003, 4, 131.
404. J. D. Joannopoulos, R. D. Meade, J. N. Winn, Photonic Crystals, Princeton University Press, Princeton, NJ 1995.
405. N. Bärsch, K. Körber, A. Ostendorf, K. H. Tönshoff, Appl. Phys. A 2003, 77, 237.
406. O. Lehmann, M. Stuke, Science 1995, 270, 1644.
407. B. G. Healey, S. E. Foran, D. R. Walt, Science 1995, 269, 1078.
408. a) B. H. Cumpston, S. P. Ananthavel, S. Barlow, D. L. Dyer, J. E. Ehrlich, L. L. Erskine, A. A. Heikai, S. M. Kuebler, I.-Y. S. Lee, D. McCord-Maughon, J. Qin, H. Röckel, M. Rumi, X.-L. Wu, S. R. Marder, J. W. Perry, Nature 1999, 398, 51.
409. b) S. Kawata, H.-B. Sun, T. Tanaka, K. Takada, Nature 2001, 472, 597.
410. c) W. Zhou, S. M. Kuebler, K. L. Braun, T. Yu, J. K. Cammack, C. K. Ober, J. W. Perry, S. R. Marder, Science 2002, 296, 1106.
411. d) H.-B. Sun, M. Maeda, K. Takada, J. W. M. Chon, M. Gu, S. Kawata, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 819.
412. e) K. Kaneko, H.-B. Sun, X.-M. Duan, S. Kawata, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2091.
413. For example: P. Hariharan, Optical Holography: Principles, Techniques, and Applications, 2nd ed., Cambridge University Press, New York 1996.
414. D. Kim, S. K. Tripathy, L. Li, J. Kumar, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1166.
415. a) M. Campbell, D. N. Sharp, M. T. Harrison, R. G. Denning, A. J. Turberfield, Nature 2000, 404, 53.
416. b) S. Yang, M. Megens, J. Aizenberg, P. Wiltzius, P. M. Chaikin, W. B. Russell, Chem. Mater. 2002, 14, 2831.
417. a) Y. Oppliger, P. Sixt, J. M. Stauffer, J. M. Mayor, P. Regnault, G. Voirin, Microelectron. Eng. 1994, 23, 449.
418. b) W. Däschner, P. Long, M. Larsson, S. H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 1995, 13, 2729.
419. c) E.-B. Kley, Microelectron. Eng. 1997, 34, 261.
420. d) M. Kalus, M. Frey, L.-M. Buchmann, K. Reimer, B. Wagner, Microelectron. Eng. 1998, 41-42, 461.
421. e) S. Cabrini, M. Gentili, E. Di Fabrizio, A. Gerardino, A. Nottola, Q. Leonard, L. Mastrogiacomo, Microelectron. Eng. 2000, 53, 599.
422. f) X.-C. Yuan, W. X. Yu, N. G. Ngo, W. C. Cheong, Opt. Express 2002, 10, 30V
423. g) J. D. Rogers, A. H. O. Kärkkäinen, T. Tkaczyk, J. T. Rantala, V. R. Descour. Opt. Express 2004, 12, 1294.
424. W. Henke, W. Hoppe, H. J. Quenzer, P. Staudt-Fischbach, B. Wagner, Microelectron. Eng. 1995, 27, 267.
425. W. Däschner, P. Long, R. Stein, C. Wu, S. H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 3730.
426. a) H. Wu, T. W. Odom, G. M. Whitesides, Anal. Chem. 2002, 74, 3267.
427. b) M.-H. Wu, C. Park, G. M. Whitesides, Langmuir 2002, 18, 9312.
428. C. Chen, D. Hirdes, A. Folch, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2003, 100, 1499.
429. a) T. J. Suleski, D. C. O'Shea, Appl. Opt. 1995, 34, 7507.
430. b) D. C. O'Shea, Appl. Opt. 1995, 34, 7518.
431. J. A. Lewis, G. M. Gratson, Mater. Today 2004, 7(7), 32.
432. a) J. E. Smay, G. M. Gratson, R. F. Shepherd, J. Cesarano III, J. A. Lewis. Adv. Mater. 2002, 14, 1279.
433. b) Q. Li, J. A. Lewis, Adv. Mater. 2003, 15, 1639.
434. a) S. Y. Lin, J. G. Fleming, D. L. Hetherington, B. K. Smith, R. Biswas, K. M. Ho, M. M. Sigalas, W. Zubrzycki, S. R. Kurtz, J. Bur, Nature 1998, 394, 251.
435. b) S. Noda, K. Tomoda, N. Yamamoto, A. Chutinan, Science 2000, 289, 604.
436. c) J. G. Fleming, S. Y. Lin, I. El-Kady, R. Biswas, K. M. Ho, Nature 2002, 417,52.
437. a) O. D. Velev, A. M. Lenhoff, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2000, 5, 56.
438. b) Y. Xia, B. Gates, Y. Yin, Y. Lu, Adv. Mater. 2000, 12, 693.
439. c) Photonic Crystals, a special issue of Adv. Mater. 2001, 13,369.
440. d) Materials Science Aspects of Photonic Crystals, a special issue of MRS Bull. 2001, 26, 608.
441. e) A. Stein, R. C. Schroden, Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 2001, 5, 553.
442. f) C. Lopez, Adv. Mater. 2003, 15, 1679.
443. Y. Lu, Y. Yin, Y. Xia, Adv. Mater. 2001, 13, 271.
444. W. T. S. Huck, J. Tien, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 8267.
445. a) Y. Yin, Y. Lu, Y. Xia, J. Mater. Chem. 2001, 11, 987.
446. b) Y. Yin, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 2048.
447. a) O. D. Velev, T. A. Jede, R. F. Lobo, A. M. Lenhoff, Nature 1997, 389, 447.
448. b) B. T. Holland, C. F. Blanford, A. Stein, Science 1998, 257, 538.
449. c) A. A. Zakhidov, R. H. Baughman, Z. Iqbal, C. Cui, I. Khayrullin, S. O. Danta, J. Marti, V. G. Ralchenko. Science 1998, 282, 897.
450. d) Y. A. Vlasov, N. Yao, D. J. Morris, Adv. Mater. 1999, 11, 165.
451. e) B. Gates, Y. Yin, Y. Xia, Chem. Mater. 1999, 11, 2827.
452. f) P. Jiang, J. Cizeron, J. F. Bertone, V. L. Colvin, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7957.
453. g) P. Braun, P. Wiltzius, Nature 1999, 402, 603.
454. h) A. Blanco, E. Chomski, S. Grabtchak, M. Ibisate, S. John, S. W. Leonard, C. Lopez, F. Meseguer, H. Miguez, J. P. Mondia, G. A. Ozin, O. Toader, H. M. van Driel, Nature 2000, 405, 437.
455. J. V. Sanders. Acta Cryiaallogr., Sect A: Cryst. Phys., Diffr., Theor. Gen. Crystallogr. 1968, A24, 427.
456. a) J. M. Weissman, H. B. Sunkara, A. S. Tse, S. A. Asher, Science 1996, 274, 959.
457. b) J. H. Holtz, S. A. Asher, Nature 1997, 389, 829.
458. c) J. M. Jethmalani, W. T. Ford, Langmuir 1997, 13, 3338,
459. d) Z. B. Hu, X. H. Lu, J. Gao, Adv. Mater. 2001, 13, 1708.
460. d) C. F. Blanford, R. C. Schroden, M. Al-Daous, A. Stein, Adv. Mater. 2001, 13, 26.
461. e) S. H. Foulger, P. Jiang, A. C. Lattam, D. W. Smith, J. Ballato, Langmuir 2001, 17, 6023.
462. f) S. H. Foulger, P. Jiang, Y. R. Ying, A. C. Lattam, D. W. Smith, J. Ballato, Adv. Mater. 2001, 13, 1898.
463. g) Z.-Z. Gu, R. Horie, S. Kubo, Y Yamada, A. Fijishima, O. Sate, Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1154.
464. h) J. D. Bebord, S. Eustis, S. B. Debord, M. T. Lofye, L. A. Lyon. Adv. Mater. 2002, 14, 658.
465. i) K. Sumioka, H. Kayashima, T. Tsutsui, Adv. Mater. 2002, 14, 1284.
466. j) H. Fudouzi, Y. Xia, Adv. Mater. 2002, 14, 892.
467. a) P. G. de Gennes, Rev. Mod. Phys. 1985.57, 827.
468. b) M. Dong, F. A. Dullien, I. Chatzis, Colloid Interface Sci. 1995, 172, 21.
469. c) M. Dong, I. Chatzis, J. Colloid Interface Sci. 1995, 172, 278.