Optimization of elastomeric phase masks for near-field photolithography

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 17, 2001, Pages 2431-2433

  Li, Zhi Yuan ^a   Yin, Yadong ^a   Xia, Younan ^a  

^a UNIVERSITY OF WASHINGTON   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035938332     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1367898     Document Type: Article

References (14)

1. E. Betzig and J. K. Trautman, Science 257, 189 (1993).
2. M. A. Paester and P. J. Moyer, Near Field Optics (Wiley, New York, 1996).
3. U. Ch. Fischer and H. P. Zingsheim, J. Vac. Sci. Technol. 19, 881 (1981).
4. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 70, 2658 (1997): J. Aizenberg, J. A. Rogers, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, ibid. 71, 3773 (1997).
5. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 70, 2658 (1997): J. Aizenberg, J. A. Rogers, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, ibid. 71, 3773 (1997).
6. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, and G. M. Whitesides, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 59 (1998).
7. H. Schmid, H. Biebuyck, B. Michel, and O. J. F. Martin, Appl. Phys. Lett. 72, 2379 (1998).
8. L. P. Ghislain, V. B. Elings, K. B. Grozier, S. R. Manalis, S. C. Minne, K. Wilder, G. S. Kino, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 74, 501 (1999).
9. Y. Yin, B. Gates, and Y. Xia, Adv. Mater. 12, 1426 (2000).
10. M. Levenson, Phys. Today 7, 28 (1993).
11. M. G. Moharam and T. K. Gaylord, J. Opt. Soc. Am. 71, 811 (1981); M. G. Moharam, E. B. Grann, D. A. Pommet, and T. K. Gaylord, J. Opt. Soc. Am. A 12, 1068 (1995).
12. M. G. Moharam and T. K. Gaylord, J. Opt. Soc. Am. 71, 811 (1981); M. G. Moharam, E. B. Grann, D. A. Pommet, and T. K. Gaylord, J. Opt. Soc. Am. A 12, 1068 (1995).
13. L. Li, J. Opt. Soc. Am. A 10, 2581 (1993); 13, 811 (1996).
14. L. Li, J. Opt. Soc. Am. A 10, 2581 (1993); 13, 811 (1996).