Recent developments of atomic layer deposition processes for metallization

Chemical Vapor Deposition

Volumn 19, Issue 4-6, 2013, Pages 82-103

  Li, Wei Min ^a  

^a Picosun Oy   (Finland)

Author keywords

Atomic layer deposition; Conductive oxides; Metallization; Reaction mechanisms; Thin films

Indexed keywords

BINARY MATERIALS; CONDUCTING MATERIALS; CONDUCTIVE OXIDES; ENABLING TECHNOLOGIES; METALLIZATION PROCESS; REACTION MECHANISM; REPLACEMENT REACTIONS; TAILORED PROPERTIES;

DEPOSITION; FUNCTIONAL MATERIALS; INDUSTRIAL APPLICATIONS; METALLIZING; SUBSTITUTION REACTIONS; SURFACE REACTIONS; THIN FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84879219234     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201300052     Document Type: Review

References (172)

1. International Technology Roadmap for Semiconductors, http://www.itrs.net 2012.
2. T. Suntola, J. Hyvärinen, Annu. Rev. Mater. Sci. 1985, 15, 177.
3. M. Tammenmaa, T. Koskinen, L. Hiltunen, L. Niinistö, M. Leskelä, Thin Solid Films 1985, 124, 125.
4. T. Asikainen, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 3210.
5. T. Asikainen, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 3538.
6. V. Lujala, J. Skarp, M. Tammenmaa, T. Suntola, Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 34.
7. T. Asikainen, M. Ritala, M. Leskelä, T. Prohaska, G. Friedbacher, M. Grasserbauer, Appl. Surf. Sci. 1996, 99, 91.
8. L. Hiltunen, M. Leskelä, M. Mäkelä, L. Niinistö, E. Nykänen, P. Soininen, Thin Solid Films 1988, 166, 149.
9. J. W. Klaus, S. J. Ferro, S. M. George, Appl. Surf. Sci. 2000, 162-163, 479.
10. H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2231.
11. T. Suntola, in: Handbook of Crystal Growth (Ed:, D. T. J. Hurle,), Elsevier, Amsterdam 1994, 3, 601.
12. M. Leskelä, M. Ritala, J. Phys. IV 1995, 5, C5/937.
13. S. M. George, A. W. Ott, J. W. Klaus, J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
14. M. Ritala, M. Leskelä, in, Handbook of Thin Film Materials (Ed:, H. S. Nalwa,), Academic Press, San Diego 2002, 1, 103.
15. R. Puurunen, J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301.
16. V. Miikkulainen, M. Leskelä, M. Ritala, R. Puurunen, J. Appl. Phys. 2013, 113, 021301.
17. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, P. Haussalo, J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2731.
18. H. Jeon, J.-W. Lee, Y.-D. Kim, D.-S. Kim, K.-S. Yi, J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 1595.
19. Y.-S. Kim, H. Jeon, Y. D. Kim, W. M. Kim, J. Korean Phys. Soc. 2000, 37, 1045.
20. M. Juppo, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Mater. 2002, 14, 281.
21. M. Q. Snyder, B. A. McCool, J. DiCarlo, C. P. Tripp, W. J. DeSisto, Thin Solid Films 2006, 514, 97.
22. H. Tiznado, F. Zaera, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 13491.
23. K.-E. Elers, Copper Diffusion Barrier Deposition on Integrated Circuit Devices by Atomic Layer Deposition Technique, PhD Thesis, University of Helsinki 2008.
24. K.-E. Elers, V. Saanila, P. J. Soininen, W.-M. Li, J. Kostamo, S. Haukka, J. Juhanoja, W. Besling, Chem. Vap. Deposition, 2002, 8, 1.
25. Outokumpu HSC Chemistry for Windows, Chemical Reaction and Equilibrium Software V 4.1, Outokumpu Research Oy, Pori, Finland 1999.
26. K.-E. Elers, T. Blomberg, M. Peussa, B. Aitchison, S. Haukka, S. Marcus, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 13.
27. A. Satta, J. Schuhmacher, C. M. Whelan, W. Vandervorst, S. H. Brongersma, G. P. Beyer, K. Maex, A. Vantomme, M. M. Viitanen, H. H. Brongersma, W. F. A. Besling, J. Appl. Phys. 2002, 92, 7641.
28. H. Van Bui, A. Y. Kovalgin, R. A. M. Wolters, J. Solid State Sci. Tech. 2012, 1, 285.
29. J.-W. Lim, H.-S. Park, S.-W. Kang, J. Appl. Phys. 2000, 88, 6327.
30. K.-E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 468.
31. A. Satta, G. Beyer, K. Maex, K. Elers, S. Haukka, A. Vantomme, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2002, 612, D6.5.1.
32. C. H. Ahn, S. G. Cho, H. J. Lee, K. H. Park, S. H. Jeong, Met. Mater. Int. 2001, 7, 621.
33. J. Uhm, H. Jeon, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1, 2001, 40, 4657.
34. H. Van Bui, A. A. I. Aarnink, A. Y. Kovalgin, R. A. M. Wolters, J. Nanosci. Nanotechnol. 2011, 11, 8120.
35. M. Ritala, T. Asikainen, M. Leskelä, J. Jokinen, R. Lappalainen, M. Utriainen, L. Niinistö, E. Ristolainen, Appl. Surf. Sci. 1997, 120, 199.
36. M. Juppo, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3377.
37. P. Alén, M. Ritala, K. Arstila, J. Keinonen, M. Leskelä, Thin Solid Films 2005, 491, 235.
38. N. Van Hoornick, H. De Witte, T. Witters, C. Zhao, T. Conard, H. Huotari, J. Swerts, T. Schram, J. W. Maes, S. De Gendt, M. Heyns, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G437.
39. M. Ritala, P. Kalsi, D. Riihelä, K. Kukli, M. Leskelä, J. Jokinen, Chem. Mater. 1999, 11, 1712.
40. P. Alén, M. Juppo, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, J. Mater. Res. 2002, 17, 107.
41. M. Juppo, A. Rahtu, M. Ritala, M. Leskelä, Langmuir 2000, 16, 4034.
42. M. Juppo, P. Alén, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett. 2002, 5, C4.
43. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, J. Jokinen, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2914.
44. J.-S. Min, Y.-W. Son, W.-G. Kang, S.-S. Chun, S.-W. Kang, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1, 1998, 37, 4999.
45. J.-H. Yun, E.-S. Choi, C.-M. Jang, C.-S. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L418.
46. J.-S. Min, H.-S. Park, S.-W. Kang, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1521.
47. D.-J. Kim, Y.-B. Jung, M.-B. Lee, Y.-H. Lee, J.-H. Lee, J.-H. Lee, Thin Solid Films 2000, 372, 276.
48. S.-D. Ahn, H.-B. Lee, S.-W. Kang, Jpn. J. Appl. Phys. 2000, 39, 3349.
49. H. K. Kim, J. Y. Kim, J. Y. Park, Y. Kim, Y. D. Kim, H. Jeon, J. Korean Phys. Soc. 2002, 41, 739.
50. J. W. Elam, C. A. Wilson, M. Schuisky, Z. A. Sechrist, S. M. George, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 1099.
51. F. Fillot, T. Morel, S. Minoret, I. Matko, S. Mabox drawings light down and lefttrejean, B. Guillaumot, B. Chenevier, T. Billon, Microelectron. Eng. 2005, 82, 248.
52. J. Musschoot, Q. Xie, D. Deduytsche, S. Van de Berghe, R. L. Van Meirhaeghe, C. Detavernier, Microelectron. Eng. 2009, 86, 72.
53. G. Cho, S.-W. Rhee, J. Vac. Sci. Technol. A 2013, 31, 01A117.
54. J. S. Becker, E. Kim, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2004, 16, 3497.
55. J. S. Park, H.-S. Park, S.-W. Kang, J. Electrochem. Soc. 2002, 149, C28.
56. O. van der Straten, Y. Zhu, K. Dunn, E. T. Eisenbraun, A. E. Kaloyeros, J. Mater. Res. 2004, 19, 447.
57. M.-K. Song, S.-W. Rhee, J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H823.
58. B. B. Burton, A. R. Lavoie, S. M. George, J. Electrochem. Soc. 2008, 155, D508.
59. Y. Y. Wu, A. Kohn, M. Eizenberg, J. Appl. Phys. 2004, 95, 6167.
60. N. J. Bae, K. I. Na, H. I. Cho, K. Y. Park, E. Boo, J. H. Bae, J. H. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 2006, 45, 9072.
61. S. Somani, A. Mukhopadhyay, C. Musgrave, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 11507.
62. M. B. Takeyama, M. Sato, H. Sudoh, H. Machida, S. Ito, E. Aoyagi, A. Noya, Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 05EA06.
63. C. L. Dezelah, IV, O. M. El-Kadri, K. Kukli, K. Arstila, R. J. Baird, J. Lu, L. Niinistö, C. H. Winter, J. Mater. Chem. 2007, 17, 1109.
64. J. S. Becker, S. Suh, S. Wang, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2003, 15, 2969.
65. W.-M. Li, E. Tois, K. Verheyden, J. van Hapert, in: 2007 MRS Spring Meeting & Exhibit, Symposium D, Conference Abstract, D3.4, Material Research Society, CA 2007.
66. W.-M. Li, R. Huggare, E. Tois, R. Matero, S. Haukka, Marko. Tuominen, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2007), CD-ROM, American Vacuum Society, San Diego, CA 2007.
67. S. Haukka, ECS Trans. 2007, 3, 15.
68. W.-M. Li, K.-E. Elers, J. Kostamo, S. Kaipio, H. Huotari, M. Soininen, P. J. Soininen, M. Tuominen, S. Haukka, S. Smith, W. Besling, Proc. IEEE 2002 Int. Interconnect Technol. Conf, June 3-5, Piscataway N.J.: IEEE, c2002 CA 191, 2002.
69. W.-M. Li, US Patent 7,638,170 2009.
70. M. Drescher, J. Sundqvist, A. Naumann, P. Polakowski, J. Calvo, M. Czernohorsky, E. Erben, K. Hempel, J. Metzger, B. Jongbloed, H. Sprey, G. Probst, S. Beulens, S. Haukka, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2012), CD-ROM, American Vacuum Society, Dresden, Germany 2012.
71. K.-E. Elers, V. Saanila, W.-M. Li, P. J. Soininen, J. T. Kostamo, S. Haukka, J. Juhanoja, W. F. A. Besling, Thin Solid Films 2003, 434, 94.
72. M. Juppo, M. Ritala, M. Leskelä, J. Vac. Sci. Technol. A 1997, 15, 2330.
73. J. W. Elam, C. E. Nelson, R. K. Grubbs, S. M. George, Thin Solid Films 2001, 386, 41.
74. S.-H. Kim, E.-S. Hwang, B.-M. Kim, J.-W. Lee, H.-J. Sun, T. E. Hong, J.-K. Kim, H. Sohn, J. Kim, T.-S. Yoonb, Electrochem. Solid-State Lett. 2005, 8, C155.
75. S.-H. Kim, N. Kwak, J. Kim, H. Sohnb, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G887.
76. P. Mårtensson, J.-O. Carlsson, Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 45.
77. P. Mårtensson, J.-O. Carlsson, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2926.
78. A. U. Mane, S. A. Shivashankar, Mater. Sci. Semicond. Process 2004, 7, 343.
79. R. Gupta, B. G. Willis, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 253102.
80. I. J. Hsu, B. E. McCandless, C. Weiland, B. G. Willis, J. Vac. Sci. Technol. A 2009, 27, 660.
81. M. Utriainen, M. Kröger-Laukkanen, L.-S. Johansson, L. Niinistö, Appl. Surf. Sci. 2000, 157, 151.
82. J. S. Huo, R. Solanki, J. McAndrew, J. Mater. Res. 2002, 17, 2394.
83. R. Solanki, B. Pathangey, Electrochem. Solid-State Lett. 2000, 3, 479.
84. J. Kostamo, V. Saanila, M. Tuominen, S. Haukka, K.-E. Elers, M. Soininen, W.-M. Li, M. Leinikka, S. Kaipio, H. Huotari, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2002), CD-ROM, American Vacuum Society, Seoul, Korea 2002.
85. T. Torndahl, M. Ottosson, J.-O. Carlsson, Thin Solid Films 2004, 458, 129.
86. Z. W. Li, R. G. Gordon, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 435.
87. B. S. Lim, A. Rahtu, R. G. Gordon, Nat. Mater. 2003, 2, 749.
88. Z. W. Li, A. Rahtu, R. G. Gordon, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C787.
89. T. Aaltonen, P. Alén, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45.
90. W.-M. Li, unpublished.
91. T. Aaltonen, A. Rahtu, M. Ritala, M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130.
92. H. Wang, R. G. Gordon, R. Alvis, R. M. Ulfig, Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 312.
93. H. Li, D. B. Farmer, R. G. Gordon, Y. Lin, J. Vlassak, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D642.
94. Y.-S. Min, E. J. Bae, K. S. Jeong, Y. J. Cho, J.-H. Lee, W. B. Choi, G.-S. Park, Adv. Mater. 2003, 15, 1019.
95. K. J. Park, D. B. Terry, S. M. Stewart, G. N. Parsons, Langmuir 2007, 23, 6106.
96. J. Biener, T. F. Baumann, Y. M. Wang, E. J. Nelson, S. O. Kucheyev, A. V. Hamza, M. Kemell, M. Ritala, M. Leskelä, Nanotechnology 2007, 18, 055303.
97. S.-J. Park, W.-H. Kim, W. Maeng, Y. Yang, C. Park, H. Kim, K.-N. Lee, S.-W. Jung, W. Seong, Thin Solid Films 2008, 516, 7345.
98. S. H. Kwon, O. K. Kwon, J. H. Kim, S. J. Jeong, S. W. Kim, S. W. Kang, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, H773.
99. W.-H. Kim, S.-J. Park, D. Y. Kim, H. Kim, J. Korean Phys. Soc. 2009, 55, 32.
100. S. K. Kim, J. H. Han, G. H. Kim, C. S. Hwang, Chem. Mater. 2010, 22, 2850.
101. K. Kukli, M. Ritala, M. Kemell, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2010, 157, D35.
102. G.-J. Choi, S. K. Kim, S. Y. Lee, W. Y. Park, M. Seo, B. J. Choi, C. S. Hwang, J. Electrochem. Soc. 2009, 156, G71.
103. T.-K. Eom, W. Sari, K.-J. Choi, W.-C. Shin, J. H. Kim, D.-J. Lee, K.-B. Kim, H. Sohn, S.-H. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, D85.
104. T. Aaltonen, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskelä, Chem. Mater. 2003, 15, 1924.
105. T. Aaltonen, M. Ritala, V. Sammelselg, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G489.
106. T. Aaltonen, M. Ritala, M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett. 2005, 8, C99.
107. T. Aaltonen, M. Ritala, M. Leskelä, in: Advanced Metallization Conference 2004 (AMC 2004) (Eds:, D. Erb, P. Ramm, K. Masu, A. Osaki,), Mater. Res. Soc, Pittsburgh, PA 663, 2005.
108. Y. Kim, G. A. Ten Eyck, D. X. Ye, C. Jezewski, T. Karabacak, H. S. Shin, J. J. Senkevich, T. M. Lu, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C376.
109. J. Elam, A. Zinovev, C. Han, H. Wang, U. Welp, J. Hryn, M. Pellin, Thin Solid Films 2006, 515, 1664.
110. J. Hämäläinen, T. Sajavaara, E. Puukilainen, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Mater. 2012, 24, 55.
111. K. Kukli, J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, I. Jögi, J. Lu, M. Tallarida, M. Kemell, A.-A. Kiisler, M. Ritala, M. Leskelä, J. Cryst. Growth 2010, 321, 2025.
112. O.-K. Kwon, J.-H. Kim, H.-S. Park, S.-W. Kang, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G109.
113. T. Aaltonen, M. Ritala, Y. L. Tung, Y. Chi, K. Arstila, K. Meinander, M. Leskelä, J. Mater. Res. 2004, 19, 3353.
114. T. Aaltonen, M. Ritala, K. Arstila, J. Keinonen, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 215.
115. S.-H. Kim, ECS Trans. 2011, 41, 19.
116. T. E. Hong, S.-H. Choi, S. Yeo, J.-Y. Park, S.-H. Kim, T. Cheon, H. Kim, M.-K. Kim, H. Kim, ECS J. Solid State Sci. Technol. 2013, 2, P47.
117. W.-H. Kim, S.-J. Park, J.-Y. Son, H. Kim, Nanotechnology 2008, 19, 045302.
118. T. Aaltonen, Atomic Layer Deposition of Noble Metal Thin Films, PhD Thesis, University of Helsinki, Finland 2005.
119. J. Hämäläinen, T. Hatanp,ää, E. Puukilainen, L. Costelle, T. Pilvi, M. Ritala, M. Leskelä, J. Mater. Chem. 2010, 20, 7669.
120. J. Hämäläinen, E. Puukilainen, M. Kemell, L. Costelle, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Mater. 2009, 21, 4868.
121. J. Hämäläinen, F. Munnik, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Mater. 2008, 20, 6840.
122. J. Hämäläinen, T. Hatanpaa, E. Puukilainen, T. Sajavaara, M. Ritala, M. Leskelä, J. Chem. Mater. 2011, 21, 16488.
123. J. Hämäläinen, E. Puukilainen, T. Sajavaara, M. Ritalaa, M. Leskelä, Thin Solid Films 2013, 531, 243.
124. S. K. Kim, S. Y. Lee, S. W. Lee, G. W. Hwang, C. S. Hwang, J. W. Lee, J. Jeong, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D95.
125. E. Färm, M. Kemell, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 415.
126. D.-J. Lee, S.-S. Yim, K.-S. Kim, S.-H. Kim, K.-B. Kim, J. Appl. Phys. 2010, 107, 013707.
127. J. Heo, D. Eom, S. Y. Lee, S.-J. Won, S. Park, C.-S. Hwang, H. J. Kim, Chem. Mater. 2009, 21, 4007.
128. J. Lu, Y. Lei, J. W. Elam, in: Noble Metals (Ed:, Y-. H. Su,), InTech, 2012.
129. J. J. Senkevich, F. Tang, D. Rogers, J. T. Drotar, C. Jezewski, W. A. Lanford, G. C. Wang, T. M. Lu, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 258.
130. T. Minami, Semiconductor Sci. Tech. 2005, 20, S35.
131. L. Castaneda, Mater. Sci. Appl. 2011, 2, 1233.
132. G. J. Exarhos, X.-D. Zhou, Thin Solid Films 2007, 515, 7025.
133. R. G. Gordon, MRS Bull. 2000, August, 52.
134. H. Liu, V. Avrutin, N. Izyumskaya, U. Özgür, H. Morkoç, Superlattices Microstruct. 2010, 48, 458.
135. M. Toivola, S. Arpiainen, B. Hoffmann, S. Ek, T. Pilvi, J. Kostamo, W.-M. Li, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2012), CD-ROM, American Vacuum Society, Dresden, Germany 2012.
136. M. Leskelä, W.-M. Li, M. Ritala, Semicond. Semimetals 2000, 65, 107.
137. Z. Baji, Z. Labadi, Z. E. Horvath, M. Fried, B. Szentpali, I. Barsony, J. Therm. Anal. Calorim. 2011, 105, 93.
138. G. Luka, T. A. Krajewski, B. S. Witkowski, G. Wisz, I. S. Virt, E. Guziewicz, M. Godlewski, J. Mater. Sci. Electron. 2011, 22, 1810.
139. S. J. Lim, S. K. Lee, M. Jo, C.-S. Lee, S. Kwon, H. Kim, J. Korean Phys. Soc. 2008, 53, 253.
140. T. Asikainen, M. Ritala, W.-M. Li, R. Lappalainen, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 231.
141. J. J. Berry, D. S. Ginley, P. E. Burrows, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 193304.
142. O. Tuna, Y. Selamet, G. Aygun, L. Ozyuzer, J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 055402.
143. A. Suzuki, T. Matsushita, T. Aoki, A. Mori, M. Okuda, Thin Solid Films 2002, 411, 23.
144. M. Ritala, T. Asikainen, M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett. 1998, 1, 156.
145. E. Elangovan, K. Ramamurthi, Appl. Surf. Sci. 2005, 249, 183.
146. V. E. Drozd, V. B. Aleskovski, Appl. Surf. Sci. 1994, 82-83, 591.
147. H. Viirola, L. Niinistö, Thin Solid Films 1994, 251, 127.
148. F. Ruske, M. Roczen, K. Lee, M. Wimmer, S. Gall, J. Hüpkes, D. Hrunski, B. Rech, J. Appl. Phys. 2010, 107, 013708.
149. H. Agura, H. Suzuki, T. Matsushita, T. Aoki, M. Okuda, Thin Solid Films 2003, 445, 263.
150. J.-K. Sheu, M.-L. Lee, Y. S. Lu, K. W. Shu, IEEE J. Quantum Electron. 2008, 44, 1211.
151. A. W. Ott, R. P. H. Chang, Mater. Chem. Phys. 1999, 58, 132.
152. B. Sang, A. Yamada, M. Konagai, Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 4983.
153. T. Törndahl, M. Ottosson, J.-O. Carlsson, Thin Solid Films 2004, 458, 129.
154. M. Juppo, P. Alén, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Vap. Deposition 2001, 5, 211.
155. P. Alén, M. Juppo, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2001, 148, G566.
156. W. Koh, D. Kumar, W.-M. Li, H. Sprey, I. J. Raaijmakers, Solid State Technol. 2005, 48, 54.
157. W.-M. Li, M. Tuominen, S. Haukka, H. Sprey, J. Raaijmakers, Solid State Technology 2003, 46, 103.
158. S. Smith, G. Book, W. M. Li, Y. M. Sun, P. Gillespie, M. Tuominen, K. Pfeifer, Proceedings of the 2003 IEEE International Interconnect Technology Conference, June 4-6, Piscataway N.J.: IEEE, c2003, CA 135, 2003.
159. S.-H. Kim, S. S. Oh, H.-M. Kim, D.-H. Kang, K.-B. Kim, W.-M. Li, S. Haukka, M. Tuominen, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, C272.
160. W.-M. Li, S. Haukka, M. Tuominen, A. Rahtu, M. Ritala, M. Leskelä, AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2004), CD-ROM, American Vacuum Society, Helsinki, Finland 2004.
161. S. H. Kim, J. K. Kim, J. H. Lee, N. Kwak, J. Kim, S. H. Jung, M. R. Hong, S. H. Lee, J. Collins, H. Sohn, J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D435.
162. S. H. Kim, J. K. Kim, N. Kwak, H. Sohn, J. Kim, S. H. Jung, M. R. Hong, S. H. Lee, J. Collins, Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, C54.
163. S. Bystrova, A. A. I. Aarnink, J. Holleman, R. A. M. Wolters, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G522.
164. P. Alén, T. Aaltonen, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, J. C. Hookers, J. W. Maes, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G523.
165. T. J. Knisley, T. C. Ariyasena, T. Sajavaara, M. J. Saly, C. H. Winter, Chem. Mater. 2011, 23, 4417.
166. S. M. Rossnagel, A. Sherman, F. Turner, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 2016.
167. H. Kim, S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. A 2002, 20, 802.
168. A. Niskanen, Radical Enhanced Atomic Layer Deposition of Metals and Oxides PhD Thesis, University of Helsinki, 2006.
169. S. B. S. Heil, J. L. van Hemmen, C. J. Hodson, N. Singh, J. H. Klootwijk, F. Roozeboom, M. C. M. van de Sanden, W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A 2007, 25, 1357.
170. H. B. Profijt, S. E. Potts, M. C. M. van de Sanden, W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A 2011, 29, 050801.
171. H. Kim, A. J. Kellock, S. M. Rossnagel, J. Appl. Phys. 2002, 92, 7080.
172. S. E. Atanasov, B. Gong, G. N. Parsons, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2012), CD-ROM, American Vacuum Society, Dresden, Germany CD-ROM 2012.