A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

Journal of Materials Chemistry

Volumn 17, Issue 11, 2007, Pages 1109-1116

  Dezelah IV, Charles L ^a   El Kadri, Oussama M ^b   Kukli, Kaupo ^c   Arstila, Kai ^d   Baird, Ronald J ^b   Lu, Jun ^e   Niinistö, Lauri ^a   Winter, Charles H ^b  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

^b WAYNE STATE UNIVERSITY   (United States)

^c UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^d IMEC   (Belgium)

^e UPPSALA UNIVERSITY   (Sweden)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; FILM THICKNESS; GROWTH (MATERIALS); HYDROGEN; TUNGSTEN COMPOUNDS;

NITROGEN ATMOSPHERE; TUNGSTEN NITRIDE;

THIN FILMS;

EID: 41449105944     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b610873c     Document Type: Article

References (56)

1. W. Koh D. Kumar W. M. Li H. Sprey I. J. Raaijmakers Solid State Technol. 2005 48 54
2. A. E. Kaloyeros E. Eisenbraun Annu. Rev. Mater. Sci. 2000 30 363
3. L. Niinistö J. Päiväsaari J. Niinistö M. Putkonen M. Nieminen Phys. Status Solidi A 2004 201 1443
4. M. Leskelä M. Ritala Angew. Chem., Int. Ed. 2003 42 5548
5. H. Kim J. Vac. Sci. Technol., B 2003 21 2231
6. M. Leskelä M. Ritala Thin Solid Films 2002 409 138
7. L. Niinistö Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 1998 3 147
8. T. Suntola Thin Solid Films 1992 216 84
9. B. H. Lee K. Yong J. Electrochem. Soc. 2004 151 C594
10. B. H. Lee K. Yong J. Vac. Sci. Technol., B 2004 22 2375
11. J. E. Kelsey C. Goldberg G. Nuesca G. Peterson A. E. Kaloyeros B. Arkles J. Vac. Sci. Technol., B 1999 17 1101
12. M. H. Tsai S. C. Sun H. T. Chiu S. H. Chuang Appl. Phys. Lett. 1996 68 1412
13. O. J. Bchir K. M. Green H. M. Ajmera E. A. Zapp T. J. Anderson B. C. Brooks L. L. Reitfort D. H. Powell K. A. Abboud L. McElwee-White J. Am. Chem. Soc. 2005 127 7825
14. O. J. Bchir K. C. Chan T. J. Anderson V. Craciun B. C. Brooks L. McElwee-White J. Electrochem. Soc. 2004 151 G697
15. O. J. Bchir K. M. Green M. S. Hlad T. J. Anderson B. C. Brooks L. McElwee-White J. Cryst. Growth 2004 261 280
16. O. J. Bchir K. M. Green M. S. Hlad T. J. Anderson B. C. Brooks C. B. Wilder D. H. Powell L. McElwee-White J. Organomet. Chem. 2003 684 338
17. O. J. Bchir S. W. Johnston A. C. Cuadra T. J. Anderson C. G. Ortiz B. C. Brooks D. H. Powell L. McElwee-White J. Cryst. Growth 2003 249 262
18. S. Bystrova A. A. I. Aarnink J. Holleman R. A. M. Wolters J. Electrochem. Soc. 2005 152 G522
19. Y. Travaly J. Schuhmacher A. M. Hoyas M. Van Hove K. Maex T. Abell V. Sutcliffe A. M. Jonas J. Appl. Phys. 2005 97 084316
20. Y. Travaly J. Schuhmacher A. M. Hoyas T. Abell V. Sutcliffe A. M. Jonas M. Van Hove K. Maex Microelectron. Eng. 2005 82 639
21. S.-H. Kim S. S. Oh H.-M. Kim D.-H. Kang K.-B. Kim W.-M. Li S. Haukka M. Tuominen J. Electrochem. Soc. 2004 151 C272
22. H. S. Sim S.-I. Kim Y. T. Kim J. Vac. Sci. Technol., B 2003 21 1411
23. K.-E. Elers V. Saanila W.-M. Li P. J. Soininen J. T. Kostamo S. Haukka J. Juhanoja W. F. A. Besling Thin Solid Films 2003 434 94
24. H. S. Sim S.-I. Kim H. Jeon Y. T. Kim Jpn. J. Appl. Phys. 2003 42 6359
25. K.-E. Elers V. Saanila P. Soininen W.-M. Li J. T. Kostamo S. Haukka J. Juhanoja W. F. A. Besling Chem. Vap. Deposition 2002 8 149
26. J. W. Klaus S. J. Ferro S. M. George Appl. Surf. Sci. 2000 162-163 479
27. J. W. Klaus S. J. Ferro S. M. George J. Electrochem. Soc. 2000 147 1175
28. R. Ecke S. E. Schultz M. Hecker T. Gessner Microelectron. Eng. 2002 64 261
29. J. G. Fleming E. Roherty-Osmun P. M. Smith J. S. Custer Y.-D. Kim T. Kacsich M.-A. Nicolet C. J. Galewski Thin Solid Films 1998 320 10
30. J. S. Becker R. G. Gordon Appl. Phys. Lett. 2003 82 2239
31. J. S. Becker S. Suh S. Wang R. G. Gordon Chem. Mater. 2003 15 2969
32. A. Rugge J. S. Becker R. G. Gordon S. H. Tolbert Nano Lett. 2003 3 1293
33. C. L. Dezelah, IV O. M. El-Kadri M. J. Heeg L. Niinistö C. H. Winter Proc. Electrochem. Soc. 2005 2005-09 563
34. O. M. El-Kadri M. J. Heeg C. H. Winter Dalton Trans. 2006 1943
35. M. H. Chisholm F. A. Cotton M. Extine B. R. Stults J. Am. Chem. Soc. 1976 98 4477
36. M. H. Chisholm J. D. Martin Inorg. Synth. 1992 29 137
37. D. Riihelä M. Ritala R. Matero M. Leskelä J. Jokinen P. Haussalo Chem. Vap. Deposition 1996 2 277
38. C. D. Wagner, A. V. Naumkin, A. Kraut-Vass, J. W. Allison, C. J. Powell and J. R. Rumble, Jr., NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database, NIST Standard Reference Database 20, Version 3.4 (Web Version), http://srdata.nist. gov/xps/
39. G. Soto W. de la Cruz F. F. Castillón J. A. Díaz R. Marchorro M. H. Farías Appl. Surf. Sci. 2003 214 58
40. S. Doniac M. unjić J. Phys. C 1970 3 285
41. G. K. Wertheim H. J. Guggenheim Phys. Rev. B 1980 22 4680
42. D. M. Hoffman Polyhedron 1994 13 1169
43. C. L. Dezelah, IV O. M. El-Kadri I. Szilágyi J. M. Campbell K. Arstila L. Niinistö C. H. Winter J. Am. Chem. Soc. 2006 128 9638
44. D. V. Baxter M. H. Chisholm G. J. Gama V. F. DiStasi A. L. Hector I. P. Parkin Chem. Mater. 1996 8 1222
45. J. Lin A. Tsukune T. Suzuki M. Yamada J. Vac. Sci. Technol., A 1999 17 936
46. S. Sawada G. C. Danielson Phys. Rev. 1959 113 803
47. G. S. Ghen W. L. Liao S. T. Chen W. C. Su C. K. Lin Thin Solid Films 2005 493 301
48. C. H. Winter Aldrichim. Acta 2000 33 3
49. D. C. Bradley I. M. Thomas Can. J. Chem. 1962 40 1355
50. Y. Takahashi N. Onoyama Y. Ishikawa S. Motojima K. Sugiyama Chem. Lett. 1978 525
51. K.-E. Elers M. Ritala M. Leskelä L.-S. Johansson J. Phys. IV 1995 5 C5-1021
52. M. Putkonen T. Sajavaara L. Niinistö J. Keinonen Anal. Bioanal. Chem. 2005 382 1791
53. Y. Zhang H. J. Whitlow T. Winzell I. F. Bubb T. Sajavaara K. Arstila J. Keinonen Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 1999 149 477
54. J. Jokinen J. Keinonen P. Tikkanen A. Kuronen T. Ahlgren K. Nordlund Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 1996 119 533
55. E. Chason T. M. Mayer Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 1997 22 1
56. AugerScan V3.0.1, RBD Enterprises, Inc., 2437 NE Twin Knolls Drive, Suite 2, Bend, OR 97701, USA