Nanometer spaced electrodes using selective area atomic layer deposition

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 25, 2007, Pages

  Gupta, R ^a   Willis, B G ^a  

^a University of Delaware   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BARRIER HEIGHT; TEMPERATURE VARIATION; THIN METAL OXIDE LAYERS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; ELECTRON TUNNELING; NANOTECHNOLOGY; THERMAL EXPANSION;

ELECTROCHEMICAL ELECTRODES;

EID: 34547376102     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2749429     Document Type: Article

References (21)

1. A. M. Moore, A. A. Dameron, B. A. Mantooth, R. K. Smith, D. J. Fuchs, J. W. Ciszek, F. Maya, Y. Yao, J. M. Tour, and P. S. Weiss, J. Am. Chem. Soc. 128, 1959 (2006).
2. P. Avouris, Acc. Chem. Res. 35, 1026 (2002).
3. T. Böhler, J. Grebing, A. Mayer-Gindner, H. v. Löhneysen, and E. Scheer, Nanotechnology 15, S465 (2004).
4. H. Park, A. K. L. Lim, A. P. Alivisatos, J. Park, and P. L. McEuen, Appl. Phys. Lett. 75, 301 (1999).
5. D. L. Klein, P. L. McEuen, J. E. B. Katari, R. Roth, and A. P. Alivisatos, Appl. Phys. Lett. 68, 2574 (1996).
6. K. W. Hipps, Science 294, 536 (2001).
7. M. A. Reed, C. Zhou, C. J. Muller, T. P. Burgin, and J. M. Tour, Science 278, 252 (1997).
8. Y. V. Kervennic, H. S. J. V. Zant, A. F. Morpurgo, L. Gurevich, and L. P. Kouwenhoven, Appl. Phys. Lett. 80, 321 (2002).
9. A. F. Morpurgo, C. M. Marcus, and D. B. Robinson, Appl. Phys. Lett. 74, 2084 (1999).
10. A. C. Adams and C. D. Capio, J. Electrochem. Soc. 126, 1042 (1979).
11. P. Mårtensson and J.-O. Carlsson, J. Electrochem. Soc. 145, 2926 (1998).
12. H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2231 (2003).
13. J. G. Simmons, J. Appl. Phys. 34, 1793 (1963).
14. R. G. Gordon, D. Hausmann, E. Kim, and J. Shepard, Chem. Vap. Deposition 9, 73 (2003).
15. P. Visconti, A. D. Torre, G. Maruccio, E. D'Amone, A. Bramanti, R. Cingolani, and R. Rinaldi, Nanotechnology 15, 807 (2004).
16. P. Steinmann and J. M. R. Weaver, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 3178 (2004).
17. R. Negishi, T. Hasegawa, K. Terabe, M. Aono, T. Ebihara, H. Tanaka, and T. Ogawa, Appl. Phys. Lett. 88, 223111 (2006).
18. E. C. Teague, J. Res. Natl. Bur. Stand. 91, 171 (1986).
19. P. O. Gartland, S. Berge, and B. J. Slagsvold, Phys. Rev. Lett. 28, 738 (1972).
20. C. H. Pan, J. Micromech. Microeng. 12, 548 (2002).
21. L. P. Shepherd, A. Mathew, B. E. McCandless, and B. G. Willis, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1297 (2006).