Atomic layer deposition of iridium thin films by consecutive oxidation and reduction steps

Chemistry of Materials

Volumn 21, Issue 20, 2009, Pages 4868-4872

  Hämäläinen, Jani ^a   Puukilainen, Esa ^a   Kemell, Marianna ^a   Costelle, Leila ^a   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION TEMPERATURES; IRIDIUM THIN FILMS; LOW TEMPERATURES; MOLECULAR HYDROGEN; NATIVE OXIDES; NUCLEATION LAYERS; OXIDATION AND REDUCTION; REDUCING EFFECTS; SILICON SUBSTRATES; SODA LIME GLASS; TEMPERATURE RANGE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMS; CARBON FILMS; DEPOSITION; HYDROGEN; METHANOL; OXIDE FILMS; OZONE; SUBSTRATES; THICK FILMS; THIN FILMS;

IRIDIUM;

EID: 70350263715     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm901687w     Document Type: Article

References (30)

1. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2001; Vol.1, pp 103-159.
2. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301.
3. Elers, K.-E.; Blomberg, T.; Peussa, M.; Aitchison, B.; Haukka, S.; Marcus, S. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 13.
4. Leskelä, M.; Aaltonen, T.; Hämäläinen, J.; Niskanen, A.; Ritala, M. Proc.-Electrochem. Soc. 2005, 2005-09, 545.
5. Ritala, M.; Niinistö, J. In Chemical Vapor Deposition: Precursors, Processes and Applications; Jones, A. C., Hitchman, M. L., Eds.; The Royal Society of Chemistry: Cambridge, U.K., 2009; pp 158-206.
6. Aaltonen, T. Ph.D. thesis, University of Helsinki, Finland, 2005. Available from http://etliesis.helsinki.fi/en/.
7. Aaltonen, T.; Alén, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45.
8. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Arstila, K.; Keinonen, J.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 215.
9. Biener, J.; Baumann, T. F.; Wang, Y.; Nelson, E. J.; Kucheyev, S. O.; Hamza, A. V.; Kemell. M.; Ritala. M.; Leskelä. M. Nanotechnology 2007, 18, 055303.
10. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskelä. M. Electrochem. Solid-StateLett 2005, 8, C99.
11. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sammelselg, V.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2004,151,G489.
12. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sajavaara, T.; Keinonen. J.: Leskelä, M. Chem. Mater. 2003, 15, 1924.
13. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Tung, Y.-L.; Chi, Y.; Arstila, K.; Meinander K.; Leskelä, M. J. Mater. Reg. 2004, 19, 3353.
14. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. Atomic Layer Deposition of Noble Metals. In Advanced Metallization Conference 2004 (AMC 2004), San Diego, CA, U.S.A., Oct. 19-21, and Tokyo, Japan, Sept. 28-29, 2004; Erb, D., Ramm, P., Masu, K., Osaki, A., Eds.; Materials Research Society: Warrendale, PA, 2005; pp 663-667.
15. Aaltonen, T.; Rahtu, A.; .Ritala, M.; Leskelä, M. Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130.
16. Hämäläinen, J.; Kemell, M.; Munnik, F.; Kreissig, U.; Ritala, M.; Leskelä. M. Chem. Mater 2008, 20, 2903.
17. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electro2008, 20, 6840.
18. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, D418.
19. Pilvi, T. Ph.D. thesis, University of Helsinki, Finland, 2008. Available from http://ethesis.helsinki.fi/en/.
20. Jefimovs, K.; Vila-Comamala, J.; Pilvi, T.; Raabe. J.; Ritala. M.; David. C. Phvs. Rev. Lett. 2007, 99, 264801.
21. Jefimovs, K.; Laukkanen, J.; Vallius, T.; Pilvi, T.; Ritala, M.; Meilahti, T.; Kaipiainen, M.; Bavdaz, M.; Leskelä, M.; Turunen, J. Microelectron Eng. 2006, 83, 1339.
22. Farm, E.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 415.
23. Färm, E.; Kemell, M.: Ritala, M.; Leskelä. M. Thin Solid Films 2008, 517, 972.
24. Kemell, M.; Pore, V.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 419.
25. Josell, D.; Bonevich, J. E.; Moffat, T. P.; Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskelä,M. Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, C48.
26. Kukli, K.; Ritala. M.; Pilvi. T.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lautala, M.; Leskelä, M. Mater. Sci. Eng., B 2005, 118, 112.
27. Kukli, K.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lu, J.; Ritala, M.; Ferrari, S.; Hårsta, A.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, F75.
28. Waldo, R. A. Microbeam Anal. 1988, 23, 310.
29. Putkonen, M.; Sajavaara, T.; Niinistö, L.; Keinonen, J. Anal. Bioanal. Chem. 2005, 382, 1791.
30. Knoops, H. C. M.; Mackus, A. J. M.; Donders, M. E.; van de Sandeu, M. C M.; Notten. P. H. L.; Kessels, W. M. M. Electrochem. SolidState Lett. 2009, 12, G34.