Surface chemistry for atomic layer growth

Journal of Physical Chemistry

Volumn 100, Issue 31, 1996, Pages 13121-13131

  George, S M ^a   Ott, A W ^a   Klaus, J W ^a  

^a UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINA; CHEMISTRY; FILM GROWTH; MICROSTRUCTURE; SILICA;

ATOMIC LAYER EPITAXY; ATOMIC LAYER PROCESSING; ATOMIC LAYERS; BINARY REACTION SEQUENCE CHEMISTRY;

SURFACES;

EID: 0030218562     PISSN: 00223654     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp9536763     Document Type: Article

References (69)

1. Chatterjee, P. K.; Graydon, G. B. IEEE Trans. Syst. 1993, 1, 7.
2. Malhi, S.; Chatterjee, P. K. IEEE Circ. Dev. 1993, 10, 13.
3. Masaki, A. IEEE Circ. Dev. 1992, 8, 18.
4. Venkatesan, T. Thin Solid Films 1992, 216, 52.
5. Goodman; C. H. L.; Pessa, M. V. J. Appl. Phys. 1986, 60, R65.
6. Suntola, T.; Hyvarinen, J. Annu. Rev. Mater. Sci. 1985, 15, 177.
7. Suntola, T. Thin Solid Films 1992, 216, 84.
8. Pessa, M.; Makela, R.; Suntola, T. Appl. Phys. Lett. 1981, 38, 131.
9. Nishizawa, J.; Hitoshi, A.; Kurabayashi, T. J. Electrochem. Soc. 1985, 132, 1197.
10. Nishizawa, J.; Kurabayashi, T.; Abe, H. Surf. Sci. 1987, 185, 249.
11. Ott, A. W.; McCarley, K. C.; Klaus, J. W.; Way, J. D.; George, S. M. Appl. Surf. Sci., in press.
12. Ritala, M.; Leskela, M.; Johansson, L. S.; Niinisto, L. Thin Solid Films 1993, 228, 32.
13. Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 333.
14. Kumagai, H.; Matsumoto, M.; Toyoda, K.; Obara, M.; Suzuki, M. Thin Solid Films 1995, 263, 47.
15. George, S. M.; Sneh, O.; Dillon, A. C.; Wise, M. L.; Ott, A. W.; Okada, L. A.; Way, J. D. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 460.
16. Dillon, A. C.; Ott, A. W.; Way, J. D.; George, S. M. Surf. Sci. 1995, 322, 230.
17. Sneh, O.; Wise, M. L.; Ott, A. W.; Okada, L. A.; George, S. M. Surf. Sci. 1994, 334, 135.
18. Niinisto, L.; Leskela, M. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 454.
19. Lakomåå, E.-L.; Haukka; S.; Suntola, T. Appl. Surf. Sci. 1992, 60, 742.
20. Emerson, R. M.; Hoyt, J. L.; Gibbons, J. F. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 1103.
21. Khan, M. A.; Skogman, R. A.; Van Hove, J. M. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 1257.
22. Khan, M. A.; Kuznia, J. N.; Olson, D. T. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 3470.
23. Higashi, G. S.; Fleming, C. G. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1963.
24. Soto, C.; Tysoe, W. T. J. Vac. Sci. Technol. A 1991, 9, 2686.
25. Viirola, H.; Niinisto, L. Thin Solid Films 1994, 249, 144.
26. Ritala, M.; Leskela, M. Thin Solid Films 1993, 25, 288.
27. Haukka, S.; Lakomaa, E.-L.; Suntola, T. Thin Sol. Films 1993, 225, 280.
28. Asikainen, T.; Ritala, M.; Leskelo, M. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 3210.
29. Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grasserbauer, M. Thin Solid Films 1994, 250, 72.
30. Dillon, A. C.; Ott, A. W.; Klaus, J. W.; George, J. M.
31. Mayer, T. M.; Rogers, J. J. W.; Michalske, T. A. Chem. Mat. 1991, 3, 641.
32. Asikainen, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/ 83, 122.
33. Coon, P. A.; Wise, M. L.; Dillon, A. C.; Robinson, M. B.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol. B 1992, 10, 221.
34. Dillon, A. C.; Robinson, M. B.; Han, M. Y.; George, S. M. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 537.
35. Gates, S. M.; Koleske, D. D.; Heath, J. R.; Copel, M. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 510.
36. Takahashi, Y.; Sese, Y.; Urisu, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, 2387.
37. Takahashi, Y.; Ishii, H.; Fujinaga, K. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 1826.
38. Dillon, A. C.; Robinson, M. B.; George, S. M. Surf. Sci. Lett. 1993, 286, L535.
39. Creighton, J. R.; Bansenauer, B. A. Thin Solid Films 1993, 225, 17.
40. Heitzinger, J. M. White, J. M.; Ekerdt, J. G. Surf. Sci. 1994, 299/ 300, 892.
41. Sneh, O.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol. 1995, A13, 493.
42. Ghandhi, S. K. VLSI Fabrication Principles Silicon and Gallium Arsenide; John Wiley and Sons: New York, 1983.
43. Ozeki, M.; Ohtsuka, N.; Sakuma, Y.; Kodama, K. J. Cryst. Growth 1991, 107, 102.
44. Yu, M. L.; Memmert, U.; Kuech, T. F. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1011.
45. Ozeki, M.; Mochizuki, K.; Ohtsuka, N.; Kodama, K. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1509 (1988).
46. Larsen, P. K.; Chadi, D. J. Phys. Rev. B 1988, 37, 8282.
47. Duke, C. B. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 1336 (1993).
48. Creighton, J. R.; Lykke, K. R.; Shamamian, V. A.; Kay, B. D. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 279.
49. Yu, M. L.; Memmert, U.; Buchan, N. I.; Kuech, T. F. In Chemical Perspectives of Microelectronic Materials II; Interannte, L. V., Jensen, K. S., Dubois, L. H., Gross, M. E., Eds.; Pittsburgh, PA, 1991; p 37.
50. Creighton, J. R.; Banse, B. A. In Materials Research Society Symposium Proceedings; 1991; p 15.
51. Creighton, R. J. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 171.
52. Bedair, S. M.; El-Masry, N. A. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 7.
53. Kobayashi, N.; Kobayashi, Y. Thin Solid Films 1993, 225, 32.
54. Coon, P. A.; Wise, M. L.; George, S. M. Surf. Sci. 1992, 278, 383.
55. Coon, P. A.; Wise, M. L.; Walker, Z. H.; George, S. M.; Roberts, D. A. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 2002.
56. Coon, P. A.; Wise, M. L.; George, S. M. J. Chem. Phys. 1993, 98, 7485.
57. Avouris, P.; Bozso, F.; Hamers, R. J. J. Vac. Sci. Technol. 1987, B5, 1387.
58. Koehler, B. G.; Mak, C. H.; Arthur, D. A.; Coon, P. A.; George, S. M. J. Chem. Phys. 1988, 89, 1709.
59. Koehler, B. G.; George, S. M. Surf. Sci. 1991, 248, 158.
60. Coon, P. A.; Gupta, P.; Wise, M. L.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol. 1992, A10, 1992.
61. Ott, A. W.; Klaus, J. W.; Johnson, J. M.; George, S. M. Thin Solid Films, in press.
62. Kumagai, H.; Toyoda, K.; Matsumoto, M.; Obara, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 6137.
63. Sneh, O.; George, S. M. J. Phys. Chem. 1995, 99, 4639.
64. Knozinger, H.; Ratnasamy, P. Catal. Rev.-Sci. Eng. 1978, 17, 31.
65. Zamora, M.; Cordoba, A. J. Phys. Chem. 1978, 82, 584.
66. Cameron, M. A.; Nelson, C. E.; Tolbert, M. A.; George, S. M. Manuscript in preparation.
67. Iizuka, H.; Yokoo, L.; Ono, S. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 2978.
68. Oya, G., Yoshida, M.; Sawada, Y. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 1143.
69. Oya G.; Sawada, Y. J. Cryst. Growth 1990, 99, 572.