Film uniformity in atomic layer deposition

Chemical Vapor Deposition

Volumn 12, Issue 1, 2006, Pages 13-24

  Elers, Kai Erik ^a   Blomberg, Tom ^b   Peussa, Marko ^c   Aitchison, Brad ^d   Haukka, Suvi ^b   Marcus, Steven ^a  

^a ASM AMERICA   (United States)

^b ASM Microchemistry Oy   (Finland)

^c VTI Technologies Oy   (Finland)

^d MLD Technologies   (United States)

Author keywords

ALD; PEALD; Precursor; Reactor; Uniformity

Indexed keywords

BYPRODUCTS; DECOMPOSITION; DEPOSITION; FILM GROWTH; PLASMAS; REACTION KINETICS; TITANIUM NITRIDE;

ALD; PEALD; PRECURSOR; REACTOR; UNIFORMITY;

THIN FILMS;

EID: 31644446942     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200500024     Document Type: Review

References (29)

1. T. Suntola, Mater. Sci. Rep. 1989, 4, 261.
2. M. Ritala, Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 223.
3. Anon., European Semiconductor, April 1999, p. 69.
4. H. Siimon, J. Aarik, J. Phys. D: Appl. Phys. 1997, 30, 1725.
5. O. Sneh, C. J. Galewski, US Patent 6 451 119, 2002.
6. T. Suntola, Appl. Surf. Sci. 1996, 100, 391.
7. K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, R. Lappalainen, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 29.
8. M. Putkonen, T. Sajavaara, L.-S. Johansson, L. Niinistö, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 44.
9. H. Viirola, L. Niinistö, Thin Solid Films 1994, 294, 144.
10. V. Saanila, J. Ihanus, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 227.
11. K.-E. Elers, J. Winkler, S. Marcus, in Electrochem. Soc. Proc. 2004-01 (Eds: M. C. Öztürk, F. Roozeboom, P. J. Timans, E. P. Gusev. G. Miner, L. J. Chen, D.-L. Kwong), The Electrochemical Society, Pennington, NJ 2004, p. 361.
12. O. Ruf, J. Moczala, Z. Anorg. Chem. 1924, 133, 193.
13. K. Kukli, A. Aidla, J. Aarik, M. Schuisky, A. Hårsta, M. Ritala, M. Leskelä, Langmuir 2000, 16, 8122.
14. K. Kukli, M. Ritala, M. Schuisky, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, T. Uustare, A. Hårsta, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 303.
15. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, K. Kukli, V. Sammelselg, M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 2002, 193, 277.
16. J. W. Klaus, S. J. Ferro, S. M. George, Thin Solid Films 2000, 360, 145.
17. M. Juppo, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Mater. 2002, 14, 281.
18. J. Aarik, A. Aidla, H. Mandar, T. Uustare, Appl. Surf. Sci. 2001, 172, 148.
19. A. Rahtu, T. Alaranta, M. Ritala, Langmuir 2001, 17, 6506.
20. R. Matero, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Mater. 2001, 13, 4506.
21. A. Rahtu, K. Kukli, M. Ritala, Chem. Mater. 2001, 13, 817.
22. K.-E. Elers, V. Saanila, P. J. Soininen, S. Haukka, in Advanced Metallization Conf. 2000, Mater. Res. Soc. Proc. ULSI XV (Eds: A. J. McKerrow, Y. Shacham-Diamand, S. Zaima, T. Ohba), Materials Research Society, Warrendale, PA 2001, p. 295.
23. K.-E. Elers, V. Saanila, P. J. Soininen, W.-M. Li, J. T. Kostamo, S. Haukka, J. Juhanoja, W. F. A. Besling, Chem. Vap. Deposition 2002, 8,149.
24. K.-E. Elers, V. Saanila, W.-M. Li, P. J. Soininen, J. T. Kostamo, S. Haukka, J. Juhanoja, W. F. A. Besling, Thin Solid Films 2003, 434, 94.
25. K.-E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, Appl. Surf. Sci. 1994, 82, 468.
26. P. Tägtström, P. Mårtensson, U. Jansson, J. O. Carlsson, J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 3139.
27. K. Kukli, M. Ritala, R. Matero, M. Leskelä, J. Cryst. Growth 2000, 212, 459.
28. K.-E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä, L.-S. Johansson, J. Phys. IV 1995, 5, C5-1021.
29. K.-E. Elers, J. Winkler, K. Weeks, S. Marcus, J. Electrochem. Soc. 2005, 752, G589.