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Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 24, Issue 1, 2006, Pages 1-15

Photomask plasma etching: A review

(1) Wu, Banqiu a

a PHOTRONICS INC (United States)

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PHOTOMASK FABRICATION; PHOTOMASK PLASMA ETCHING;

CHROMIUM; FABRICATION; FREQUENCIES; INDUCTIVELY COUPLED PLASMA; INDUSTRIAL APPLICATIONS; OPTIMIZATION; PARAMETER ESTIMATION;

PLASMA ETCHING;

EID: 31544452326 PISSN: 10711023 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1116/1.2162580 Document Type: Article

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- J. Kotani, T. Yanagihara, E. Umeda, T. Senou, Y. Kikuchi, T. Tanaka, and Y. Okuda, Proc. SPIE 5256, 758 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 758
- Kotani, J.¹ Yanagihara, T.² Umeda, E.³ Senou, T.⁴ Kikuchi, Y.⁵ Tanaka, T.⁶ Okuda, Y.⁷

66
- 0038643059
- D. Johnson, J. Plumhoff, J. Shin, and E. Rausa, Proc. SPIE 4889, 40 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 40
- Johnson, D.¹ Plumhoff, J.² Shin, J.³ Rausa, E.⁴

67
- 0037966884
- Y. Sato, H. Hand, Y. Kushida, S. Asai, H. Maruyama, Y. Miyahara, M. Naito, R. Hikichi, Y. Kawasaki, H. Miyashita, and S. Noguchi, Proc. SPIE 4889, 50 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 50
- Sato, Y.¹ Hand, H.² Kushida, Y.³ Asai, S.⁴ Maruyama, H.⁵ Miyahara, Y.⁶ Naito, M.⁷ Hikichi, R.⁸ Kawasaki, Y.⁹ Miyashita, H.¹⁰ Noguchi, S.¹¹

68
- 1842423375
- I. Y. Jang, J. Lee, S. Moon, S. Choi, and J. Sohn, Proc. SPIE 5256, 59 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 59
- Jang, I.Y.¹ Lee, J.² Moon, S.³ Choi, S.⁴ Sohn, J.⁵

69
- 1842580490
- H. Handa, S. Yamauchi, H. Maruyama, S. Ishimoto, M. Kosugi, Y. Miyahara, T. Uryu, T. Yokoyama, and A. Naito, Proc. SPIE 5256, 85 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 85
- Handa, H.¹ Yamauchi, S.² Maruyama, H.³ Ishimoto, S.⁴ Kosugi, M.⁵ Miyahara, Y.⁶ Uryu, T.⁷ Yokoyama, T.⁸ Naito, A.⁹

70
- 0001197855
- R. A. Gottscho and C. W. Jurgensen, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2133 (1992).
- (1992) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.10 , pp. 2133
- Gottscho, R.A.¹ Jurgensen, C.W.²

71
- 31544452241
- A. M. Voshchenkov, Int. J. High Speed Electron. Syst. 1, 303 (1990).
- (1990) Int. J. High Speed Electron. Syst. , vol.1 , pp. 303
- Voshchenkov, A.M.¹

72
- 5844390470
- A. M. Voshchenkov, Int. J. High Speed Electron. Syst. 2, 45 (1991).
- (1991) Int. J. High Speed Electron. Syst. , vol.2 , pp. 45
- Voshchenkov, A.M.¹

73
- 19844376637
- B. Wu, Proc. SPIE 5567, 1195 (2004).
- (2004) Proc. SPIE , vol.5567 , pp. 1195
- Wu, B.¹

74
- 31544467218
- D. Chan, U.S. Patent No. 6,749,974 (2004).
- (2004)
- Chan, D.¹

75
- 0040041384
- M. Rothschild, J. H. C. Sedlacek, J. G. Black, and D. J. Ehrlich, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 414 (1987).
- (1987) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.5 , pp. 414
- Rothschild, M.¹ Sedlacek, J.H.C.² Black, J.G.³ Ehrlich, D.J.⁴

76
- 31544448171
- M. J. Buie and B. C. Soehr, U.S. Patent No. 2003/0049934 A1 (2003).
- (2003)
- Buie, M.J.¹ Soehr, B.C.²

77
- 31544456236
- D. J. Johnson, S. Onishi, and C. Constantine, U.S. Patent No. 2003/0089680 A1 (2003).
- (2003)
- Johnson, D.J.¹ Onishi, S.² Constantine, C.³

78
- 31544460002
- M. D. Naeem, S. M. Burns, R. Christie, V. Grewal, W. W. Kocon, M. Narita, B. Spuler, and C. H. Yang, U.S. Patent No. 5,976,986 (1999).
- (1999)
- Naeem, M.D.¹ Burns, S.M.² Christie, R.³ Grewal, V.⁴ Kocon, W.W.⁵ Narita, M.⁶ Spuler, B.⁷ Yang, C.H.⁸

79
- 31544442844
- M. Buie, B. Stoehr, and G. Ruhl, U.S. Patent No. 2003/0003374 A1 (2003).
- (2003)
- Buie, M.¹ Stoehr, B.² Ruhl, G.³

80
- 31544447621
- T. Sasaki, N. Harashima, S. Aoyama, and S. Sakamoto, U.S. Patent No. 6,391,791 (2002).
- (2002)
- Sasaki, T.¹ Harashima, N.² Aoyama, S.³ Sakamoto, S.⁴

81
- 3242700616
- B. Wu, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1150 (2004).
- (2004) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.22 , pp. 1150
- Wu, B.¹

82
- 31544481762
- B. Wu, Tech. Rev. (Photronics Internal Publication) 2, 1 (2003).
- (2003) Tech. Rev. (Photronics Internal Publication) , vol.2 , pp. 1
- Wu, B.¹

83
- 0020169723
- T. P. Chow and A. J. Steckl, J. Appl. Phys. 53, 5531 (1982).
- (1982) J. Appl. Phys. , vol.53 , pp. 5531
- Chow, T.P.¹ Steckl, A.J.²

84
- 0020829168
- M. Zhang, J. Z. Li, I. Adesida, and E. D. Wolf, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 1037 (1983).
- (1983) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.1 , pp. 1037
- Zhang, M.¹ Li, J.Z.² Adesida, I.³ Wolf, E.D.⁴

85
- 0037754995
- Y. Watakabe, S. Matsuda, A. Shigetomi, M. Hirosue, T. Kato, and H. Nakata, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 841 (1986).
- (1986) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.4 , pp. 841
- Watakabe, Y.¹ Matsuda, S.² Shigetomi, A.³ Hirosue, M.⁴ Kato, T.⁵ Nakata, H.⁶

86
- 31544465816
- A. Shigetomi, S. Matsuda, K. Moriizumi, H. Kusunose, H. Onoda, T. Imai, and Y. Watakabe, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 117 (1982).
- (1982) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.8 , pp. 117
- Shigetomi, A.¹ Matsuda, S.² Moriizumi, K.³ Kusunose, H.⁴ Onoda, H.⁵ Imai, T.⁶ Watakabe, Y.⁷

87
- 0037754996
- C. Pierrat, R. G. Tarascon, M. L. Peabody, L. R. Harriott, and S. Vaidya, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 3132 (1991).
- (1991) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.9 , pp. 3132
- Pierrat, C.¹ Tarascon, R.G.² Peabody, M.L.³ Harriott, L.R.⁴ Vaidya, S.⁵

88
- 31544453755
- A. Chiba, S. Matsud, and Y. Watakabe, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2480 (1992).
- (1992) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.10 , pp. 2480
- Chiba, A.¹ Matsud, S.² Watakabe, Y.³

89
- 0028748243
- Y. Tokoro, S. Kawada, T. Yamamoto, Y. Saito, A. Hayashi, and A. Isao, Proc. SPIE 2322, 387 (1994).
- (1994) Proc. SPIE , vol.2322 , pp. 387
- Tokoro, Y.¹ Kawada, S.² Yamamoto, T.³ Saito, Y.⁴ Hayashi, A.⁵ Isao, A.⁶

90
- 19844364960
- M. Ushida, M. Mitsui, K. Okada, Y. Ohkubo, H. Suda, H. Kobayashi, and K. Asakawa, Proc. SPIE 2884, 403 (1996).
- (1996) Proc. SPIE , vol.2884 , pp. 403
- Ushida, M.¹ Mitsui, M.² Okada, K.³ Ohkubo, Y.⁴ Suda, H.⁵ Kobayashi, H.⁶ Asakawa, K.⁷

91
- 31544443117
- Y. Inazuki, T. Maruyama, M. Kojima, H. Kaneko, M. Watanabe, and S. Okazaki, U.S. Patent No. 6,641,958 (2002).
- (2002)
- Inazuki, Y.¹ Maruyama, T.² Kojima, M.³ Kaneko, H.⁴ Watanabe, M.⁵ Okazaki, S.⁶

92
- 31544443416
- T. P. Coleman, Y. C. Huang, M. J. Buie, L. C. Sheu, B. C. Stoehr, and P. L. Jones, U.S. Patent No. 2004/0072081 A1 (2004).
- (2004)
- Coleman, T.P.¹ Huang, Y.C.² Buie, M.J.³ Sheu, L.C.⁴ Stoehr, B.C.⁵ Jones, P.L.⁶

93
- 0035763976
- S. J. Choi, H. S. Cha, S. Y. Yoon, S. M. Jung, S. S. Choi, and S. H. Jeong, Proc. SPIE 4562, 561 (2001).
- (2001) Proc. SPIE , vol.4562 , pp. 561
- Choi, S.J.¹ Cha, H.S.² Yoon, S.Y.³ Jung, S.M.⁴ Choi, S.S.⁵ Jeong, S.H.⁶

94
- 0036458398
- J. Plumhoff, C. Constantine, J. Shin, and E. Rausa, Proc. SPIE 4754, 291 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4754 , pp. 291
- Plumhoff, J.¹ Constantine, C.² Shin, J.³ Rausa, E.⁴

95
- 0038642111
- B. S. Chang, D. S. Min, H. J. Kwon, and B. Y. Choi, Proc. SPIE 4889, 702 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 702
- Chang, B.S.¹ Min, D.S.² Kwon, H.J.³ Choi, B.Y.⁴

96
- 0010936496
- R. Jonckheere, K. Ronse, O. Popa, and I. V. de hove, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3765 (1994).
- (1994) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.12 , pp. 3765
- Jonckheere, R.¹ Ronse, K.² Popa, O.³ De Hove, I.V.⁴

97
- 0028748574
- H. Mohri, M. Takahashi, K. Mikami, H. Miyashita, N. Hayashi, and H. Sano, Proc. SPIE 2322, 288 (1994).
- (1994) Proc. SPIE , vol.2322 , pp. 288
- Mohri, H.¹ Takahashi, M.² Mikami, K.³ Miyashita, H.⁴ Hayashi, N.⁵ Sano, H.⁶

98
- 0028737261
- F. D. Kalk, R. H. French, H. U. Alpay, and G. P. Hughes, Proc. SPIE 2322, 299 (1994).
- (1994) Proc. SPIE , vol.2322 , pp. 299
- Kalk, F.D.¹ French, R.H.² Alpay, H.U.³ Hughes, G.P.⁴

99
- 6144229177
- H. Mitsui, H. Sakai, and Y. Yamaguchi, Proc. SPIE 2512, 343 (1995).
- (1995) Proc. SPIE , vol.2512 , pp. 343
- Mitsui, H.¹ Sakai, H.² Yamaguchi, Y.³

100
- 85079236661
- K. Kawano, M. Asano, S. Tanaka, T. Iwamatsu, H. Sata, and S. Ito, Proc. SPIE 2512, 348 (1995).
- (1995) Proc. SPIE , vol.2512 , pp. 348
- Kawano, K.¹ Asano, M.² Tanaka, S.³ Iwamatsu, T.⁴ Sata, H.⁵ Ito, S.⁶

101
- 57949092513
- C. C. Cheng, T. B. Wu, J. Y. Gan, L. C. Tue, and J. J. Wang, Proc. SPIE 2793, 146 (1996).
- (1996) Proc. SPIE , vol.2793 , pp. 146
- Cheng, C.C.¹ Wu, T.B.² Gan, J.Y.³ Tue, L.C.⁴ Wang, J.J.⁵

102
- 85054301759
- Y. S. Yang, C. C. Cheng, C. L. Lin, J. Y. Gan, T. B. Wu, L. C. Tuo, and J. J. Wang, Proc. SPIE 2793, 155 (1996).
- (1996) Proc. SPIE , vol.2793 , pp. 155
- Yang, Y.S.¹ Cheng, C.C.² Lin, C.L.³ Gan, J.Y.⁴ Wu, T.B.⁵ Tuo, L.C.⁶ Wang, J.J.⁷

103
- 0006653603
- S. Peng and W. Adair, Proc. SPIE 3412, 228 (1998).
- (1998) Proc. SPIE , vol.3412 , pp. 228
- Peng, S.¹ Adair, W.²

104
- 0032303019
- C. Constantine, D. J. Johnson, R. U. Westerman, and A. C. Hourd, Proc. SPIE 3546, 88 (1998).
- (1998) Proc. SPIE , vol.3546 , pp. 88
- Constantine, C.¹ Johnson, D.J.² Westerman, R.U.³ Hourd, A.C.⁴

105
- 0032641106
- K. Y. Lee, L. U. Kim, K. H. Nam, K. T. Park, Y. M. Ku, S. S. Ku, and I. B. Hur, Proc. SPIE 3748, 158 (1999).
- (1999) Proc. SPIE , vol.3748 , pp. 158
- Lee, K.Y.¹ Kim, L.U.² Nam, K.H.³ Park, K.T.⁴ Ku, Y.M.⁵ Ku, S.S.⁶ Hur, I.B.⁷

106
- 31544437595
- H. J. Kwon, K. S. Oh, B. S. Chang, B. Y. Choi, K. H. Park, and S. H. Jeong, Proc. SPIE 4186, 532 (2000).
- (2000) Proc. SPIE , vol.4186 , pp. 532
- Kwon, H.J.¹ Oh, K.S.² Chang, B.S.³ Choi, B.Y.⁴ Park, K.H.⁵ Jeong, S.H.⁶

107
- 0035767885
- J. Plumhoff, C. Constantine, C. Strawn, and J. Shin, Proc. SPIE 4562, 694 (2001).
- (2001) Proc. SPIE , vol.4562 , pp. 694
- Plumhoff, J.¹ Constantine, C.² Strawn, C.³ Shin, J.⁴

108
- 18744380971
- S. Choi, H. Cha, S. Yoon, Y. Kim, D. Lee, J. Kim, J. Kim, D. Min, P. Jang, B. Chang, H. Kwon, B. Choi, S. Choi, and S. Jeong, Proc. SPIE 4754, 303 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4754 , pp. 303
- Choi, S.¹ Cha, H.² Yoon, S.³ Kim, Y.⁴ Lee, D.⁵ Kim, J.⁶ Kim, J.⁷ Min, D.⁸ Jang, P.⁹ Chang, B.¹⁰ Kwon, H.¹¹ Choi, B.¹² Choi, S.¹³ Jeong, S.¹⁴

109
- 0036454480
- S. Yoon, S. Choi, Y. Kim, D. Lee, H. Cha, J. Kim, S. Choi, and S. Jeong, Proc. SPIE 4754, 332 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4754 , pp. 332
- Yoon, S.¹ Choi, S.² Kim, Y.³ Lee, D.⁴ Cha, H.⁵ Kim, J.⁶ Choi, S.⁷ Jeong, S.⁸

110
- 0037627695
- D. S. Min, B. S. Chang, H. U. Kwon, and B. Y. Choi, Proc. SPIE 4889, 694 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 694
- Min, D.S.¹ Chang, B.S.² Kwon, H.U.³ Choi, B.Y.⁴

111
- 0141733023
- B. Wu and D. Chan, J. Microlithogr., Microfabr., Microsyst. 2, 54 (2003).
- (2003) J. Microlithogr., Microfabr., Microsyst. , vol.2 , pp. 54
- Wu, B.¹ Chan, D.²

112
- 1642555736
- M. Mueller, S. Komarov, and K. H. Baik, Proc. SPIE 5130, 234 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5130 , pp. 234
- Mueller, M.¹ Komarov, S.² Baik, K.H.³

113
- 1842527045
- J. O. Nemelka, Proc. SPIE 5256, 724 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 724
- Nemelka, J.O.¹

114
- 1842527942
- T. Sahin, C. Collard, S. A. Anderson, A. W. Mak, C. B. Brooks, and M. J. Buie, Proc. SPIE 5256, 76 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 76
- Sahin, T.¹ Collard, C.² Anderson, S.A.³ Mak, A.W.⁴ Brooks, C.B.⁵ Buie, M.J.⁶

115
- 11844263379
- B. Wu, Proc. SPIE 5446, 94 (2004).
- (2004) Proc. SPIE , vol.5446 , pp. 94
- Wu, B.¹

116
- 0041470882
- G. Y. Yeom and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 56, 857 (1990).
- (1990) Appl. Phys. Lett. , vol.56 , pp. 857
- Yeom, G.Y.¹ Kushner, M.J.²

117
- 0141458287
- Y. Morikawa, N. Mizutani, M. Ozawa, T. Hayashi, and W. Chen, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 1344 (2003).
- (2003) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.21 , pp. 1344
- Morikawa, Y.¹ Mizutani, N.² Ozawa, M.³ Hayashi, T.⁴ Chen, W.⁵

118
- 0036026387
- S. Bretoiu, K. Di Mola, E. Fioravanti, and S. Visona, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2085 (2002).
- (2002) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.20 , pp. 2085
- Bretoiu, S.¹ Di Mola, K.² Fioravanti, E.³ Visona, S.⁴

119
- 0037464201
- A. Sankaran and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 82, 1824 (2003).
- (2003) Appl. Phys. Lett. , vol.82 , pp. 1824
- Sankaran, A.¹ Kushner, M.J.²

120
- 0004549385
- C. Constantine and L. Hecherd, Proc. SPIE 3412, 220 (1998).
- (1998) Proc. SPIE , vol.3412 , pp. 220
- Constantine, C.¹ Hecherd, L.²

121
- 0035043085
- R. U. Westerman, C. Constantine, J. Plumhoff, and C. Strawn, Proc. SPIE 4186, 316 (2000).
- (2000) Proc. SPIE , vol.4186 , pp. 316
- Westerman, R.U.¹ Constantine, C.² Plumhoff, J.³ Strawn, C.⁴

122
- 0037628612
- C. B. Brooks, M. Buie, N. Waheed, P. Martin, P. Walsh, and G. Evans, Proc. SPIE 4889, 25 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 25
- Brooks, C.B.¹ Buie, M.² Waheed, N.³ Martin, P.⁴ Walsh, P.⁵ Evans, G.⁶

123
- 1642433132
- I. Y. Jang, J. Y. Lee, Y. H. Kim, S. W. Choi, and J. M. Sohn, Proc. SPIE 5130, 246 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5130 , pp. 246
- Jang, I.Y.¹ Lee, J.Y.² Kim, Y.H.³ Choi, S.W.⁴ Sohn, J.M.⁵

124
- 1842579679
- M. Lassiter, M. Canemi, and D. Taylor, Proc. SPIE 5256, 412 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 412
- Lassiter, M.¹ Canemi, M.² Taylor, D.³

125
- 31544441133
- C. Strawn, C. Constantine, J. Plumhoff, and R. Westerman, Proc. SPIE 4347, 37 (2001).
- (2001) Proc. SPIE , vol.4347 , pp. 37
- Strawn, C.¹ Constantine, C.² Plumhoff, J.³ Westerman, R.⁴

126
- 1842580495
- S. A. Anderson, R. B. Anderson, M. J. Buie, M. Chandrachood, J. O. Clevenger, Y. Lee, N. Sandlin, and J. Ding, Proc. SPIE 5256, 66 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5256 , pp. 66
- Anderson, S.A.¹ Anderson, R.B.² Buie, M.J.³ Chandrachood, M.⁴ Clevenger, J.O.⁵ Lee, Y.⁶ Sandlin, N.⁷ Ding, J.⁸

127
- 1642555737
- J. Plumhoff, C. Constantine, J. Shin, B. Reelfs, and E. Rause, Proc. SPIE 5130, 253 (2003).
- (2003) Proc. SPIE , vol.5130 , pp. 253
- Plumhoff, J.¹ Constantine, C.² Shin, J.³ Reelfs, B.⁴ Rause, E.⁵

128
- 0033907342
- B. Uebbing, J. Vydra, S. Thomas, and R. Takke, Proc. SPIE 3996, 218 (2000).
- (2000) Proc. SPIE , vol.3996 , pp. 218
- Uebbing, B.¹ Vydra, J.² Thomas, S.³ Takke, R.⁴

129
- 0000257454
- E. Hoshino, T. Ogawa, M. Takahashi, H. Hoko, H. Yamanashi, N. Hirano, and S. Okazaki, Proc. SPIE 3873, 786 (1999).
- (1999) Proc. SPIE , vol.3873 , pp. 786
- Hoshino, E.¹ Ogawa, T.² Takahashi, M.³ Hoko, H.⁴ Yamanashi, H.⁵ Hirano, N.⁶ Okazaki, S.⁷

130
- 0002810231
- E. Hoshino, T. Ogawa, N. Hirano, H. Hoko, M. Takahashi, H. Yamanashi, A. Chiba, M. Ito, and S. Okazaki, Proc. SPIE 4186, 749 (2000).
- (2000) Proc. SPIE , vol.4186 , pp. 749
- Hoshino, E.¹ Ogawa, T.² Hirano, N.³ Hoko, H.⁴ Takahashi, M.⁵ Yamanashi, H.⁶ Chiba, A.⁷ Ito, M.⁸ Okazaki, S.⁹

131
- 0035766047
- K. C. Racette, C. T. Williams, and M. J. Lercel, Proc. SPIE 4562, 883 (2001).
- (2001) Proc. SPIE , vol.4562 , pp. 883
- Racette, K.C.¹ Williams, C.T.² Lercel, M.J.³

132
- 0037965841
- G. Zhang and P. Y. Yan, Proc. SPIE 4889, 1092 (2002).
- (2002) Proc. SPIE , vol.4889 , pp. 1092
- Zhang, G.¹ Yan, P.Y.²

133
- 36449007647
- T. J. Sommerer and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 71, 1654 (1992).
- (1992) J. Appl. Phys. , vol.71 , pp. 1654
- Sommerer, T.J.¹ Kushner, M.J.²

134
- 0000783222
- T. J. Sommerer and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2179 (1992).
- (1992) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.10 , pp. 2179
- Sommerer, T.J.¹ Kushner, M.J.²

135
- 0005795825
- M. J. Hartig and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 62, 1594 (1993).
- (1993) Appl. Phys. Lett. , vol.62 , pp. 1594
- Hartig, M.J.¹ Kushner, M.J.²

136
- 0024879422
- L. E. Kline and M. J. Kushner, CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 16, 1 (1989).
- (1989) CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. , vol.16 , pp. 1
- Kline, L.E.¹ Kushner, M.J.²

137
- 31544460258
- D. B. Graves, Am. Inst. Chem. Eng. Symp. Ser. 35, 1 (1989).
- (1989) Am. Inst. Chem. Eng. Symp. Ser. , vol.35 , pp. 1
- Graves, D.B.¹

138
- 0026976763
- G. G. Lister, J. Phys. D 25, 1649 (1992).
- (1992) J. Phys. D , vol.25 , pp. 1649
- Lister, G.G.¹

139
- 0002411669
- R. W. Boswell and I. J. Morey, Appl. Phys. Lett. 52, 21 (1988).
- (1988) Appl. Phys. Lett. , vol.52 , pp. 21
- Boswell, R.W.¹ Morey, I.J.²

140
- 0026137242
- M. Surendra and D. B. Graves, IEEE Trans. Plasma Sci. PS-16, 144 (1991).
- (1991) IEEE Trans. Plasma Sci. , vol.PS-16 , pp. 144
- Surendra, M.¹ Graves, D.B.²

141
- 0001385405
- T. J. Sommerer, W. N. G. Hitchon, R. E. P. Harvey, and J. E. Lawler, Phys. Rev. A 43, 4452 (1991).
- (1991) Phys. Rev. A , vol.43 , pp. 4452
- Sommerer, T.J.¹ Hitchon, W.N.G.² Harvey, R.E.P.³ Lawler, J.E.⁴

142
- 19844375020
- S. Babin and S. Okulovsky, Proc. SPIE 5567, 183 (2004).
- (2004) Proc. SPIE , vol.5567 , pp. 183
- Babin, S.¹ Okulovsky, S.²

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.