Atomic layer deposition of noble metals and their oxides

Chemistry of Materials

Volumn 26, Issue 1, 2014, Pages 786-801

  Hämäläinen, Jani ^a   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

ALD; atomic layer deposition; iridium; noble metal; noble metal oxide; osmium; palladium; platinum; rhodium; ruthenium; thin film

Indexed keywords

ALD; CONSECUTIVE REACTION; DEPOSITION TEMPERATURES; EVAPORATION TEMPERATURE; LOW TEMPERATURES; NOBLE METAL OXIDES; REACTION MECHANISM; TECHNOLOGICAL APPLICATIONS;

DEPOSITION; FILM GROWTH; IRIDIUM; METALLIC COMPOUNDS; MICROELECTRONICS; OSMIUM; OZONE; PALLADIUM; PLATINUM; PRECIOUS METALS; RHODIUM; RUTHENIUM; THIN FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84892590985     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm402221y     Document Type: Review

References (150)

1. nd ed. (Internet version); CRC Press: Boca Raton, FL, 2012.
2. Ryden, W. D.; Lawson, A. W.; Sartain, C. C. Phys. Rev. B 1970, 1, 1494
3. Yen, P. C.; Chen, R. S.; Chen, C. C.; Huang, Y. S.; Tiong, K. K. J. Cryst. Growth 2004, 262, 271
4. Roy, A.; Ghose, J. Mater. Res. Bull. 1998, 33, 547
5. Shannon, R. D. Solid State Commun. 1968, 6, 139
6. Shannon, R. D. Solid State Commun. 1969, 7, 257
7. Pearsall, T. P.; Lee, C. A. Phys. Rev. B 1974, 10, 2190
8. Rogers, D. B.; Shannon, R. D.; Sleight, A. W.; Gillson, J. L. Inorg. Chem. 1969, 8, 841
9. Ryynänen, T.; Ylä-Outinen, L.; Narkilahti, S.; Tanskanen, J. M. A.; Hyttinen, J.; Hämäläinen, J.; Leskelä, M.; Lekkala, J. J. Vac. Sci. Technol., A 2012, 30 041501
10. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2001; Vol. 1, pp. 103-159.
11. Ritala, M.; Niinistö, J. In Chemical Vapor Deposition: Precursors, Processes and Applications; Jones, A. C.; Hitchman, M. L., Eds.; Royal Society of Chemistry: Cambridge, U.K., 2009; pp. 158-206.
12. Miikkulainen, V.; Leskelä, M.; Ritala, M.; Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2013, 113 021301
13. Leskelä, M.; Ritala, M.; Nilsen, O. MRS Bull. 2011, 36, 877
14. Profijt, H. B.; Potts, S. E.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Vac. Sci. Technol., A 2011, 29 050801
15. Aaltonen, T. Atomic Layer Deposition of Noble Metal Thin Films. Ph.D. Thesis, University of Helsinki, Helsinki, Finland, 2005; available from http://ethesis.helsinki.fi/en/.
16. Hämäläinen, J. Atomic Layer Deposition of Noble Metal Oxide and Noble Metal Thin Films. Ph.D. Thesis, University of Helsinki, Helsinki, Finland, 2013; available from http://ethesis.helsinki.fi/en/.
17. Vila-Comamala, J.; Gorelick, S.; Färm, E.; Kewish, C. M.; Diaz, A.; Barrett, R.; Guzenko, V. A.; Ritala, M.; David, C. Opt. Express 2011, 19, 175
18. Jiang, X.; Gür, T. M.; Prinz, F. B.; Bent, S. F. Chem. Mater. 2010, 22, 3024
19. Park, S.-J.; Kim, W.-H.; Lee, H.-B.-R.; Maeng, W. J.; Kim, H. Microelectron. Eng. 2008, 85, 39
20. Park, S.-J.; Kim, W.-H.; Maeng, W. J.; Yang, Y. S.; Park, C. G.; Kim, H.; Lee, K.-N.; Jung, S.-W.; Seong, W. K. Thin Solid Films 2008, 516, 7345
21. Kwon, O.-K.; Kim, J.-H.; Park, H.-S.; Kang, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G109
22. Kwon, O.-K.; Kwon, S.-H.; Park, H.-S.; Kang, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, C753
23. Lee, D.-J.; Yim, S.-S.; Kim, K.-S.; Kim, S.-H.; Kim, K.-B. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, K61
24. Kim, J.-Y.; Kil, D.-S.; Kim, J.-H.; Kwon, S.-H.; Ahn, J.-H.; Roh, J.-S.; Park, S.-K. J. Electrochem. Soc. 2012, 159, H560
25. Kim, S. K.; Han, S.; Kim, G. H.; Jang, J. H.; Han, J. H.; Hwang, C. S. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D477
26. Kim, W.-H.; Park, S.-J.; Son, J.-Y.; Kim, H. Nanotechnology 2008, 19 045302
27. Methaapanon, R.; Geyer, S. M.; Lee, H.-B.-R.; Bent, S. F. J. Mater. Chem. 2012, 22, 25154
28. van der Straten, O.; Rossnagel, S. M.; Doyle, J. P.; Rodbell, K. P. ECS Trans. 2006, 1, 51
29. Kukli, K.; Kemell, M.; Puukilainen, E.; Aarik, J.; Aidla, A.; Sajavaara, T.; Laitinen, M.; Tallarida, M.; Sundqvist, J.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D158
30. Zhao, C.; Pawlak, M. A.; Popovici, M.; Schaekers, M.; Sleeckx, E.; Vancoille, E.; Wouters, D. J.; Tokei, Zs.; Kittl, J. A. ECS Trans. 2009, 25, 377
31. Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Jõgi, I.; Arroval, T.; Lu, J.; Sajavaara, T.; Laitinen, M.; Kiisler, A.-A.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Peck, J.; Natwora, J.; Geary, J.; Spohn, R.; Meiere, S.; Thompson, D. M. Thin Solid Films 2012, 520, 2756
32. Park, S. K.; Kanjolia, R.; Anthis, J.; Odedra, R.; Boag, N.; Wielunski, L.; Chabal, Y. J. Chem. Mater. 2010, 22, 4867
33. Leick, N.; Verkuijlen, R. O. F.; Lamagna, L.; Langereis, E.; Rushworth, S.; Roozeboom, F.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Vac. Sci. Technol., A 2011, 29 021016
34. Min, Y.-S.; Bae, E. J.; Jeong, K. S.; Cho, Y. J.; Lee, J.-H.; Choi, W. B.; Park, G.-S. Adv. Mater. 2003, 15, 1019
35. Choi, S.-H.; Cheon, T.; Kim, S.-H.; Kang, D.-H.; Park, G.-S.; Kim, S. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D351
36. Eom, T.-K.; Sari, W.; Choi, K.-J.; Shin, W.-C.; Kim, J. H.; Lee, D.-J.; Kim, K.-B.; Sohn, H.; Kim, S.-H. Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, D85
37. Cheon, T.; Choi, S.-H.; Kim, S.-H.; Kang, D.-H. Electrochem. Solid-State Lett. 2011, 14, D57
38. Kim, S.-H. ECS Trans. 2011, 41, 19
39. Gregorczyk, K.; Henn-Lecordier, L.; Gatineau, J.; Dussarrat, C.; Rubloff, G. Chem. Mater. 2011, 23, 2650
40. Gregorczyk, K.; Banerjee, P.; Rubloff, G. W. Mater. Lett. 2012, 73, 43
41. Song, Y. W.; Lee, J.; Lee, K.; Lee, Y.; Jang, H. K. ECS Trans. 2006, 2, 1
42. Wang, H.; Gordon, R. G.; Alvis, R.; Ulfig, R. M. Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 312
43. Li, H.; Farmer, D. B.; Gordon, R. G.; Lin, Y.; Vlassak, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D642
44. Schaekers, M.; Capon, B.; Detavernier, C.; Blasco, N. ECS Trans. 2010, 33, 135
45. Gatineau, J.; Yanagita, K.; Dussarrat, C. Microelectron. Eng. 2006, 83, 2248
46. Kwon, S.-H.; Kwon, O.-K.; Kim, J.-H.; Jeong, S.-J.; Kim, S.-W.; Kang, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, H773
47. Salaün, A.; Newcomb, S. B.; Povey, I. M.; Salaün, M.; Keeney, L.; O'Mahony, A.; Pemble, M. E. Chem. Vap. Deposition 2011, 17, 114
48. Kim, J.-H.; Kil, D.-S.; Yeom, S.-J.; Roh, J.-S.; Kwak, N.-J.; Kim, J.-W. Appl. Phys. Lett. 2007, 91 052908
49. Lee, S. W.; Han, J. H.; Kim, S. K.; Han, S.; Lee, W.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2011, 23, 976
50. Hušeková, K.; Dobročka, E.; Rosová, A.; Šoltýs, J.; Šatka, A.; Fillot, F.; Fröhlich, K. Thin Solid Films 2010, 518, 4701
51. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. Electrochem. Solid-State Lett. 2005, 8, C99
52. Park, K. J.; Parsons, G. N. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 043111
53. Hämäläinen, J.; Puukilainen, E.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. Thin Solid Films 2013, 531, 243
54. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, D418
55. Kemell, M.; Pore, V.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 419
56. Walsh, T. A.; Bur, J. A.; Kim, Y.-S.; Lu, T.-M.; Lin, S.-Y. J. Opt. Soc. Am. B 2009, 26, 1450
57. Comstock, D. J.; Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hersam, M. C. Electrochem. Commun. 2010, 12, 1543
58. Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Groenen, R.; Lindfors, S. Chem. Vap. Deposition 2008, 14, 347
59. Lim, Y. H.; Yoo, H.; Choi, B. H.; Lee, J. H.; Lee, H.-N.; Lee, H. K. Phys. Status Solidi C 2011, 8, 891
60. Kim, S.-W.; Kwon, S.-H.; Kwak, D.-K.; Kang, S.-W. J. Appl. Phys. 2008, 103 023517
61. Kim, S.-W.; Kwon, S.-H.; Kang, S.-W. ECS Trans. 2008, 16, 309
62. Hämäläinen, J.; Hatanpää, T.; Puukilainen, E.; Costelle, L.; Pilvi, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Mater. Chem. 2010, 20, 7669
63. Hämäläinen, J.; Hatanpää, T.; Puukilainen, E.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Mater. Chem. 2011, 21, 16488
64. Dussarrat, C.; Gatineau, J. Proc. Electrochem. Soc. 2005, 2005-05, 354
65. Senkevich, J. J.; Tang, F.; Rogers, D.; Drotar, J. T.; Jezewski, C.; Lanford, W. A.; Wang, G.-C.; Lu, T.-M. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 258
66. Ten Eyck, G. A.; Pimanpang, S.; Bakhru, H.; Lu, T.-M.; Wang, G.-C. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 290
67. Weber, M. J.; Mackus, A. J. M.; Verheijen, M. A.; van der Marel, C.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2012, 24, 2973
68. Knoops, H. C. M.; Mackus, A. J. M.; Donders, M. E.; van de Sanden, M. C. M.; Notten, P. H. L.; Kessels, W. M. M. ECS Trans. 2008, 16, 209
69. Knoops, H. C. M.; Mackus, A. J. M.; Donders, M. E.; van de Sanden, M. C. M.; Notten, P. H. L.; Kessels, W. M. M. Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, G34
70. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sajavaara, T.; Keinonen, J.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2003, 15, 1924
71. Montague, J. R.; Dalberth, M.; Gray, J. M.; Seghete, D.; Bertness, K. A.; George, S. M.; Bright, V. M.; Rogers, C. T.; Sanford, N. A. Sens. Actuators, A 2011, 165, 59
72. Bethge, O.; Pozzovivo, G.; Henkel, C.; Abermann, S.; Bertagnolli, E. J. Micromech. Microeng. 2012, 22 085013
73. Henkel, C.; Abermann, S.; Bethge, O.; Bertagnolli, E. Semicond. Sci. Technol. 2009, 24 125013
74. Zhu, Y.; Dunn, K. A.; Kaloyeros, A. E. J. Mater. Res. 2007, 22, 1292
75. Mackus, A. J. M.; Dielissen, S. A. F.; Mulders, J. J. L.; Kessels, W. M. M. Nanoscale 2012, 4, 4477
76. Comstock, D. J.; Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hersam, M. C. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3099
77. Shim, J. H.; Prinz, F. B. ECS Trans. 2008, 11, 27
78. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2008, 20, 6840
79. Baker, L.; Cavanagh, A. S.; Seghete, D.; George, S. M.; Mackus, A. J. M.; Kessels, W. M. M.; Liu, Z. Y.; Wagner, F. T. J. Appl. Phys. 2011, 109 084333
80. Niskanen, A.; Hatanpää, T.; Arstila, K.; Leskelä, M.; Ritala, M. Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 408
81. Kariniemi, M.; Niinistö, J.; Hatanpää, T.; Kemell, M.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2011, 23, 2901
82. Chalker, P. R.; Romani, S.; Marshall, P. A.; Rosseinsky, M. J.; Rushworth, S.; Williams, P. A. Nanotechnology 2010, 21 405602
83. Barry, S. T.; Coyle, J. P.; Kariniemi, M.; Niinistö, J.; Ritala, M.; Leskelä, M. Novel Ligand System for Group 11 Metals: Thermal and Plasma-Enhanced ALD of Copper and Gold. Poster presentation at the 12th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2012), Dresden, Germany, 2012.
84. Whitehorne, T. J. J.; Coyle, J. P.; Mahmood, A.; Monillas, W. H.; Yap, G. P. A.; Barry, S. T. Eur. J. Inorg. Chem. 2011, 3240
85. Knapas, K.; Ritala, M. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2013, 38, 167
86. Aaltonen, T.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130
87. Knapas, K.; Ritala, M. Chem. Mater. 2011, 23, 2766
88. Kessels, W. M. M.; Knoops, H. C. M.; Dielissen, S. A. F.; Mackus, A. J. M.; van de Sanden, M. C. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 95 013114
89. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Arstila, K.; Keinonen, J.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 215
90. Leick, N.; Agarwal, S.; Mackus, A. J. M.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2012, 24, 3696
91. Christensen, S. T.; Elam, J. W. Chem. Mater. 2010, 22, 2517
92. King, J. S.; Wittstock, A.; Biener, J.; Kucheyev, S. O.; Wang, Y. M.; Baumann, T. F.; Giri, S. K.; Hamza, A. V.; Baeumer, M.; Bent, S. F. Nano Lett. 2008, 8, 2405
93. Mackus, A. J. M.; Leick, N.; Baker, L.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2012, 24, 1752
94. Geyer, S. M.; Methaapanon, R.; Shong, B.; Pianetta, P. A.; Bent, S. F. J. Phys. Chem. Lett. 2013, 4, 176
95. Kim, S. K.; Hoffmann-Eifert, S.; Waser, R. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 11329
96. Kim, S. K.; Hoffmann-Eifert, S.; Waser, R. ECS Trans. 2009, 25, 289
97. Kim, W.-H.; Park, S.-J.; Kim, D. Y.; Kim, H. J. Korean Phys. Soc. 2009, 55, 32
98. Hämäläinen, J.; Kemell, M.; Munnik, F.; Kreissig, U.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2008, 20, 2903
99. Hämäläinen, J.; Puukilainen, E.; Kemell, M.; Costelle, L.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2009, 21, 4868
100. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sammelselg, V.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G489
101. Elam, J. W.; Zinovev, A.; Han, C. Y.; Wang, H. H.; Welp, U.; Hryn, J. N.; Pellin, M. J. Thin Solid Films 2006, 515, 1664
102. Hämäläinen, J.; Sajavaara, T.; Puukilainen, E.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2012, 24, 55
103. Kim, S. K.; Han, J. H.; Kim, G. H.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2010, 22, 2850
104. Haukka, S. ECS Trans. 2007, 3, 15
105. Choi, B. H.; Lim, Y. H.; Lee, J. H.; Kim, Y. B.; Lee, H.-N.; Lee, H. K. Microelectron. Eng. 2010, 87, 1391
106. Kukli, K.; Ritala, M.; Kemell, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, D35
107. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Tung, Y.-L.; Chi, Y.; Arstila, K.; Meinander, K.; Leskelä, M. J. Mater. Res. 2004, 19, 3353
108. Mackus, A. J. M.; Mulders, J. J. L.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Appl. Phys. 2010, 107 116102
109. Mackus, A. J. M.; Verheijen, M. A.; Leick, N.; Bol, A. A.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2013, 25, 1905
110. Mackus, A. J. M.; Thissen, N. F. W.; Mulders, J. J. L.; Trompenaars, P. H. F.; Verheijen, M. A.; Bol, A. A.; Kessels, W. M. M. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 10788
111. Aaltonen, T.; Alén, P.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45
112. Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Lee, B.; Feng, Z.; Bedzyk, M. J.; Hersam, M. C. Chem. Mater. 2009, 21, 516
113. Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Jõgi, I.; Lu, J.; Tallarida, M.; Kemell, M.; Kiisler, A.-A.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Cryst. Growth 2010, 312, 2025
114. Kim, S. K.; Han, S.; Han, J. H.; Hwang, C. S. Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 4302
115. Choi, B. H.; Lee, J. H.; Lee, H. K.; Kim, J. H. Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 9654
116. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. In Advanced Metallization Conference 2004 (AMC 2004); Erb, D.; Ramm, P.; Masu, K.; Osaki, A., Eds.; Materials Research Society: Warrendale, PA, 2005; pp. 663-667.
117. Elam, J. W.; Zinovev, A. V.; Pellin, M. J.; Comstock, D. J.; Hersam, M. C. ECS Trans. 2007, 3, 271
118. Park, K. J.; Terry, D. B.; Stewart, S. M.; Parsons, G. N. Langmuir 2007, 23, 6106
119. Yim, S.-S.; Lee, D.-J.; Kim, K.-S.; Kim, S.-H.; Yoon, T.-S.; Kim, K.-B. J. Appl. Phys. 2008, 103 113509
120. Shrestha, P.; Gu, D.; Tran, N. H.; Tapily, K.; Baumgart, H.; Namkoong, G. ECS Trans. 2010, 33, 127
121. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Lee, S. W.; Hwang, G. W.; Hwang, C. S.; Lee, J. W.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D95
122. Heo, J.; Lee, S. Y.; Eom, D.; Hwang, C. S.; Kim, H. J. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, G5
123. Hsueh, Y.-C.; Hu, C.-T.; Wang, C.-C.; Liu, C.; Perng, T.-P. ECS Trans. 2008, 16, 855
124. Liu, C.; Wang, C.-C.; Kei, C.-C.; Hsueh, Y.-C.; Perng, T.-P. Small 2009, 5, 1535
125. Coombs, S.; Dameron, A.; Engtrakul, C.; Pylypenko, S.; Lee, J.; Olson, T. S.; Bochert, C.; Gennett, T.; Simpson, L.; Pivovar, B.; Dinh, H. N. ECS Trans. 2010, 33, 221
126. Heo, J.; Won, S.-J.; Eom, D.; Lee, S. Y.; Ahn, Y. B.; Hwang, C.-S.; Kim, H. J. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, H210
127. Hsueh, Y.-C.; Wang, C.-C.; Liu, C.; Kei, C.-C.; Perng, T.-P. Nanotechnology 2012, 23 405603
128. Bult, J.; Dameron, A.; Pylypenko, S.; Engtrakul, C.; Bochert, C.; Chen, L.; Leong, G.; Frisco, S.; Simpson, L.; Dinh, H. N.; Pivovar, B. ECS Trans. 2010, 33, 89
129. Choi, G.-J.; Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Park, W. Y.; Seo, M.; Choi, B. J.; Hwang, C. S. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, G71
130. Färm, E.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 15791
131. Färm, E.; Kemell, M.; Santala, E.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, K10
132. Färm, E.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 415
133. Färm, E.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskelä, M. Thin Solid Films 2008, 517, 972
134. Park, K. J.; Doub, J. M.; Gougousi, T.; Parsons, G. N. Appl. Phys. Lett. 2005, 86 051903
135. Jiang, X.; Bent, S. F. ECS Trans. 2007, 3, 249
136. Färm, E. Selective-Area Atomic Layer Deposition. Ph.D. Thesis, University of Helsinki, Helsinki, Finland, 2011; available from http://ethesis.helsinki.fi/en/.
137. Färm, E.; Lindroos, S.; Ritala, M.; Leskelä, M. Chem. Mater. 2012, 24, 275
138. Lashdaf, M.; Hatanpää, T.; Krause, A. O. I.; Lahtinen, J.; Lindblad, M.; Tiitta, M. Appl. Catal., A 2003, 241, 51
139. Lashdaf, M.; Krause, A. O. I.; Lindblad, M.; Tiitta, M.; Venäläinen, T. Appl. Catal., A 2003, 241, 65
140. Vuori, H.; Pasanen, A.; Lindblad, M.; Valden, M.; Veringa Niemelä, M.; Krause, A. O. I. Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 4204
141. Cronauer, D. C.; Jacobs, G.; Linganiso, L.; Kropf, A. J.; Elam, J. W.; Christensen, S. T.; Marshall, C. L.; Davis, B. H. Catal. Lett. 2011, 141, 968
142. Rikkinen, E.; Santasalo-Aarnio, A.; Airaksinen, S.; Borghei, M.; Viitanen, V.; Sainio, J.; Kauppinen, E. I.; Kallio, T.; Krause, A. O. I. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 23067
143. Setthapun, W.; Williams, W. D.; Kim, S. M.; Feng, H.; Elam, J. W.; Rabuffetti, F. A.; Poeppelmeier, K. R.; Stair, P. C.; Stach, E. A.; Ribeiro, F. H.; Miller, J. T.; Marshall, C. L. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 9758
144. Vuori, H.; Lindblad, M.; Krause, A. O. I. Stud. Surf. Sci. Catal. 2006, 162, 505
145. Vuori, H.; Silvennoinen, R. J.; Lindblad, M.; Österholm, H.; Krause, A. O. I. Catal. Lett. 2009, 131, 7
146. Silvennoinen, R. J.; Jylhä, O. J. T.; Lindblad, M.; Sainio, J. P.; Puurunen, R. L.; Krause, A. O. I. Appl. Surf. Sci. 2007, 253, 4103
147. Feng, H.; Elam, J. W.; Libera, J. A.; Setthapun, W.; Stair, P. C. Chem. Mater. 2010, 22, 3133
148. Goldstein, D. N.; George, S. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 95 143106
149. Goldstein, D. N.; George, S. M. Thin Solid Films 2011, 519, 5339
150. Santala, E.; Hämäläinen, J.; Lu, J.; Leskelä, M.; Ritala, M. Nanosci. Nanotechnol. Lett. 2009, 1, 218