Catalytic combustion and dehydrogenation reactions during atomic layer deposition of platinum

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 10, 2012, Pages 1752-1761

  MacKus, Adriaan J M ^a   Leick, Noémi ^a   Baker, Layton ^b   Kessels, Wilhelmus M M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^b UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

Author keywords

atomic layer deposition (ALD); combustion; dehydrogenation; platinum; reaction mechanisms

Indexed keywords

CATALYTIC COMBUSTION; DEHYDROGENATION REACTIONS; HYDROCARBON SPECIES; HYDROGEN ATOMS; MECHANISTIC STUDIES; METHYL SPECIES; MODEL SYSTEM; PT FILMS; REACTION MECHANISM; SURFACE SCIENCE; SURFACE SCIENCE STUDIES; TEMPERATURE DEPENDENCE;

CATALYSIS; COMBUSTION; DEHYDROGENATION; HYDROCARBONS; MICROELECTRONICS; PLATINUM; PRECIOUS METALS; SURFACE REACTIONS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84861391345     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm203812v     Document Type: Article

References (72)

1. Jiang, X.; Bent, S. F. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D648
2. Zhu, Y.; Dunn, K. A.; Kaloyeros, A. E. J. Mater. Res. 2007, 22, 1292
3. King, J. S.; Wittstock, A.; Biener, J.; Kucheyev, S. O.; Wang, Y. M.; Baumann, T. F.; Giri, S. K.; Hamza, A. V.; Baeumer, M.; Bent, S. F. Nano Lett. 2008, 8, 2405
4. Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Lee, B.; Feng, Z.; Bedzyk, M. J.; Hersam, M. C. Chem. Mater. 2009, 21, 516
5. Liu, C.; Wang, C. C.; Kei, C. C.; Hsueh, Y. C.; Perng, T. P. Small 2009, 5, 1535
6. Jiang, X. R.; Gur, T. N.; Prinz, F. B.; Bent, S. F. Chem. Mater. 2010, 22, 3024
7. Henkel, C.; Abermann, S.; Bethge, O.; Bertagnolli, E. Semicond. Sci. Technol. 2009, 24, 125013
8. Novak, S.; Lee, B.; Yang, X. Y.; Misra, V. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, H589
9. Comstock, D. J.; Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hersam, M. C. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3099
10. Li, J. H.; Liang, X. H.; King, D. M.; Jiang, Y. B.; Weimer, A. W. Appl. Catal., B 2010, 97, 220
11. Mackus, A. J. M.; Mulders, J. J. L.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Appl. Phys. 2010, 107, 116102
12. Enterkin, J. A.; Setthapun, W.; Elam, J. W.; Christensen, S. T.; Rabuffetti, F. A.; Marks, L. D.; Stair, P. C.; Poeppelmeier, K. R.; Marshall, C. L. ACS Catal. 2011, 1, 629
13. Lin, Y. H.; Hsueh, Y. C.; Lee, P. S.; Wang, C. C.; Wu, J. M.; Perng, T. P.; Shih, H. C. J. Mater. Chem. 2011, 21, 10552
14. Utriainen, M.; Kroger-Laukkanen, M.; Johansson, L. S.; Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 2000, 157, 151
15. Hämäläinen, J.; Munnik, F.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Mater. 2008, 20, 6840
16. Knoops, H. C. M.; Mackus, A. J. M.; Donders, M. E.; van de Sanden, M. C. M.; Notten, P. H. L.; Kessels, W. M. M. Electrochem. Solid State Lett. 2009, 12, G34
17. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sajavaara, T.; Keinonen, J.; Leskela, M. Chem. Mater. 2003, 15, 1924
18. Elliott, S. D. Langmuir 2010, 26, 9179
19. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Arstila, K.; Keinonen, J.; Leskela, M. Chemical Vap. Deposition 2004, 10, 215
20. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Electrochem. Solid State Lett. 2005, 8, C99
21. Hämäläinen, J.; Sajavaara, T.; Puukilainen, E.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Mater. 2012, 24, 55
22. Aaltonen, T.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M. Electrochem. Solid State Lett. 2003, 6, C130
23. Kessels, W. M. M.; Knoops, H. C. M.; Dielissen, S. A. F.; Mackus, A. J. M.; van de Sanden, M. C. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013114
24. Christensen, S. T.; Elam, J. W. Chem. Mater. 2010, 22, 2517
25. Setthapun, W.; Williams, W. D.; Kim, S. M.; Feng, H.; Elam, J. W.; Rabuffetti, F. A.; Poeppelmeir, K. R.; Stair, P. C.; Stach, E. A.; Ribeiro, F. H.; Miller, J. T.; Marshall, C. L. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 9758
26. Haukka, S.; Lakomaa, E. L.; Suntola, T. Thin Solid Films 1993, 225, 280
27. Lindblad, M.; Haukka, S.; Kytokivi, A.; Lakomaa, E. L.; Rautiainen, A.; Suntola, T. Appl. Surf. Sci. 1997, 121, 286
28. Ma, Q.; Guo, H. S.; Gordon, R. G.; Zaera, F. Chem. Mater. 2011, 23, 3325
29. Somorjai, G. A.; Park, J. Y. Chem. Soc. Rev. 2008, 37, 2155
30. Langereis, E.; Knoops, H. C. M.; Mackus, A. J. M.; Roozeboom, F.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Appl. Phys. 2007, 102, 083517
31. Langereis, E.; Heil, S. B. S.; Knoops, H. C. M.; Keuning, W.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 073001
32. Baker, L.; Cavanagh, A. S.; Seghete, D.; George, S. M.; Mackus, A. J. M.; Kessels, W. M. M.; Liu, Z. Y.; Wagner, F. T. J. Appl. Phys. 2011, 109, 084333
33. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Tung, Y. L.; Chi, Y.; Arstila, K.; Meinander, K.; Leskela, M. J. Mater. Res. 2004, 19, 3353
34. Jiang, X. R.; Bent, S. F. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 17613
35. Hiratani, M.; Nabatame, T.; Matsui, Y.; Imagawa, K.; Kimura, S. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, C524
36. Elliott, S. D.; Greer, J. C. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3246
37. Gland, J. L.; Sexton, B. A.; Fisher, G. B. Surf. Sci. 1980, 95, 587
38. Luntz, A. C.; Grimblot, J.; Fowler, D. E. Phys. Rev. B 1989, 39, 12903
39. Nolan, P. D.; Lutz, B. R.; Tanaka, P. L.; Davis, J. E.; Mullins, C. B. J. Chem. Phys. 1999, 111, 3696
40. Parker, D. H.; Bartram, M. E.; Koel, B. E. Surf. Sci. 1989, 217, 489
41. Derry, G. N.; Ross, P. N. Surf. Sci. 1984, 140, 165
42. Getman, R. B.; Xu, Y.; Schneider, W. F. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9559
43. Saliba, N.; Tsai, Y. L.; Panja, C.; Koel, B. E. Surf. Sci. 1999, 419, 79
44. Weaver, J. F.; Chen, J. J.; Gerrard, A. L. Surf. Sci. 2005, 592, 83
45. Parkinson, C. R.; Walker, M.; McConville, C. F. Surf. Sci. 2003, 545, 19
46. Bradley, J. M.; Guo, X. C.; Hopkinson, A.; King, D. A. J. Chem. Phys. 1996, 104, 4283
47. Griffiths, K.; Jackman, T. E.; Davies, J. A.; Norton, P. R. Surf. Sci. 1984, 138, 113
48. Eisert, F.; Elg, A. P.; Rosen, A. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1995, 60, 209
49. Shavorskiy, A.; Eralp, T.; Gladys, M. J.; Held, G. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 21755
50. Zaera, F.; Hoffmann, H. J. Phys. Chem. 1991, 95, 6297
51. Zaera, F. Surf. Sci. 1992, 262, 335
52. Fairbrother, D. H.; Peng, X. D.; Trenary, M.; Stair, P. C. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 3619
53. Manner, W. L.; Girolami, G. S.; Nuzzo, R. G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 10295
54. Avery, N. R. Surf. Sci. 1984, 146, 363
55. Campbell, C. T.; Campbell, J. M.; Dalton, P. J.; Henn, F. C.; Rodriguez, J. A.; Seimanides, S. G. J. Phys. Chem. 1989, 93, 806
56. Morales, R.; Zaera, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 9650
57. Marsh, A. L.; Gland, J. L. Surf. Sci. 2003, 536, 145
58. Marsh, A. L.; Burnett, D. J.; Fischer, D. A.; Gland, J. L. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 12472
59. Berlowitz, P.; Megiris, C.; Butt, J. B.; Kung, H. H. Langmuir 1985, 1, 206
60. Gabelnick, A. M.; Gland, J. L. Surf. Sci. 1999, 440, 340
61. Gabelnick, A. M.; Burnett, D. J.; Gland, J. L.; Fischer, D. A. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 7748
62. Loginova, E.; Bartelt, N. C.; Feibelman, P. J.; McCarty, K. F. New J. Phys. 2009, 11, 063046
63. Barbier, J. Appl. Catal. 1986, 23, 225
64. Pieck, C. L.; Vera, C. R.; Querini, C. A.; Parera, J. A. Appl. Catal., A 2005, 278, 173
65. Aaltonen, T.; Alen, P.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45
66. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Sammelselg, V.; Leskela, M. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G489
67. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Tung, Y. L.; Chi, Y.; Arstila, K.; Meinander, K.; Leskela, M. J. Mater. Res. 2004, 19, 3353
68. Hämäläinen, J.; Puukilainen, E.; Kemell, M.; Costelle, L.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Mater. 2009, 21, 4868
69. Hämäläinen, J.; Hatanpaa, T.; Puukilainen, E.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Mater. Chem. 2011, 21, 16488
70. Ten Eyck, G. A.; Senkevich, J. J.; Tang, F.; Liu, D. L.; Pimanpang, S.; Karaback, T.; Wang, G. C.; Lu, T. M.; Jezewski, C.; Lanford, W. A. Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 60
71. Kariniemi, M.; Niinisto, J.; Hatanpaa, T.; Kemell, M.; Sajavaara, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Mater. 2011, 23, 2901
72. Hämäläinen, J.; Hatanpaa, T.; Puukilainen, E.; Costelle, L.; Pilvi, T.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Mater. Chem. 2010, 20, 7669