Tuning the composition and nanostructure of Pt/Ir films via anodized aluminum oxide templated atomic layer deposition

Advanced Functional Materials

Volumn 20, Issue 18, 2010, Pages 3099-3105

  Comstock, David J ^a   Christensen, Steven T ^b   Elam, Jeffrey W ^b   Pellin, Michael J ^b,c   Hersam, Mark C ^a,c  

^a Northwestern University   (United States)

^b ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

^c NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALLOY FILM; ALTERNATIVE SYNTHESIS; ANODIZED ALUMINUM OXIDE; ATOMIC SCALE; CONFORMALITY; ELECTROCHEMICAL SENSING; ENHANCED SURFACE; EXPOSURE-TIME; MORPHOLOGICAL CONTROL; MORPHOLOGY AND COMPOSITION; NANO-STRUCTURED; NANO-STRUCTURED METAL FILMS; NON-ENZYMATIC; PT FILMS; PT PRECURSORS; ROUGHNESS FACTOR; TEMPLATED;

ALUMINUM; ALUMINUM COATINGS; ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMS; GLUCOSE; IRIDIUM; METALLIC FILMS; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURES; OXIDES; PLATINUM; PLATINUM ALLOYS;

OXIDE FILMS;

EID: 77957190518     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201000389     Document Type: Article

References (49)

1. J. Jiang, A. Kucernak J. Electroanal. Chem. 2002, 520, 64.
2. J. Jiang, A. Kucernak,J. Electroanal. Chem. 2002, 533, 153.
3. A. Kucernak, J. Jiang, Chem. Eng.J. 2003, 93, 81.
4. D. R. Rolison, Science. 2003, 299, 1698.
5. P. N. Bartlett, S. Guerin, Anal. Chem. 2003, 75, 126.
6. M. H. Yang, F. L. Qu, Y. S. Lu, Y. He, G. L. Shen, R. Q. Yu, Biomaterials 2006, 27, 5944.
7. L. X. Cao, P. S. Yan, K. Sun, D. W. Kirk, Electroanalysis 2009, 21, 1183.
8. A. H. Whitehead, J. M. Elliott, J. R. Owen, G. S. Attard, Chem. Commun. 1999, 331.
9. G. S. Attard, P. N. Bartlett, N. R. B. Coleman, J. M. Elliott, J. R. Owen, J. H. Wang, Science. 1997, 278, 838.
10. J. M. Elliott, G. S. Attard, P. N. Bartlett, N. R. B. Coleman, D. A. S. Merckel, J. R. Owen, Chem. Mater. 1999, 11, 3602.
11. J. C. Hulteen, C. R. Martin, J. Mater. Chem. 1997, 7, 1075.
12. C. R. Martin, Science. 1994, 266, 1961.
13. M. Ritala, M. Leskela, in Handbook of Thin Film Materials, Vol. 7 (Ed: H. S. Nalwa), Academic Press, San Diego, CA 2001, 103.
14. J. W. Elam, D. A. Baker, A. B. F. Martinson, M. J. Pellin, J. T. Hupp, J. Phys. Chem. C. 2008, 112, 1938.
15. C. Lee, S. Y. Park, J. Lim, H. W. Kim, Mater. Lett. 2007, 61, 2495.
16. J. Niinisto, K. Kukli, T. Sajavaara, M. Ritala, M. Leskela, L. Oberbeck, J. Sundqvist, U. Schroder, Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, G1.
17. M. Vehkamaki, T. Hatanpaa, T. Hanninen, M. Ritala, M. Leskela, Electrochem. Solid-State Lett. 1999, 2, 504.
18. J. W. Elam, S. M. George, Chem. Mater. 2003, 15, 1020.
19. M. Nieminen, T. Sajavaara, E. Rauhala, M. Putkonen, L. Niinisto, J. Mater. Chem. 2001, 11, 2340.
20. C. N. Ginestra, R. Sreenivasan, A. Karthikeyan, S. Ramanathan, P. C. Mclntyre, Electrochem. Solid-State Lett. 2007, 10, B161.
21. D. H. Triyoso, R. I. Hegde, X. D. Wang, M. W. Stoker, R. Rai, M. E. Ramon, B. E. White, P. J. Tobin, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G834.
22. J. W. Elam, Z. A. Sechrist, S. M. George, Thin Solid Films. 2002, 414, 43.
23. C. D. Bae, S. Y. Kim, B. Y. Ahn, J. Y. Kim, M. M. Sung, H. J. Shin, J. Mater. Chem. 2008, 18, 1362.
24. L. K. Tan, M. A. S. Chong, H. Gao, J. Phys. Chem. C. 2008, 112, 69.
25. J. W. Elam, D. Routkevitch, P. P. Mardilovich, S. M. George, Chem. Mater. 2003, 15, 3507.
26. W. H. Kim, S. J. Park, J. Y. Son, H. Kim, Nanotechnology. 2008, 19, 045302.
27. D. J. Lee, S. S. Yim, K. S. Kim, S. H. Kim, K. B. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, K61.
28. M. Daub, M. Knez, U. Gosele, K. Nielsch, J. Appl. Phys. 2007, 101, 09J111.
29. K. Jefimovs, J. Laukkanen, T. Vallius, T. Pilvi, M. Ritala, T. Meilahti, M. Kaipiainen, M. Bavdaz, M. Leskela, J. Turunen, Microelectron. Eng. 2006, 83, 1339.
30. P. Banerjee, I. Perez, L. Henn-Lecordier, S. B. Lee, G. W. Rubloff Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 292.
31. A. B. F. Martinson, J. W. Elam, J. T. Hupp, M. J. Pellin, Nano Lett. 2007, 7, 2183.
32. A. B. F. Martinson, T. W. Hamann, M. J. Pellin, J. T. Hupp, Chem.-Eur.J. 2008, 14, 4458.
33. S. A. G. Evans, J. M. Elliott, L. M. Andrews, P. N. Bartlett, P. J. Doyle, G. Denuault, Anal. Chem. 2002, 74, 1322.
34. S. Park, T. D. Chung, H. C. Kim, Anal. Chem. 2003, 75, 3046.
35. J. H. Yuan, K. Wang, X. H. Xia, Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 803.
36. P. Holt-Hindle, S. Nigro, M. Asmussen, A. C. Chen, Electrochem. Commun. 2008, 10, 1438.
37. T. Aaltonen, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskela, Chem. Mater. 2003, 15, 1924.
38. S. T. Christensen, J. W. Elam, Chem. Mater. 2010, 22, 2517.
39. T. Aaltonen, M. Ritala, V. Sammelselg, M. Leskela, J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G489.
40. H. Masuda, F. Hasegwa, S. Ono, J. Electrochem. Soc. 1997, 144, L127.
41. O. Jessensky, F. Muller, U. Gosele, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1173.
42. H. Masuda, K. Yada, A. Osaka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1998, 37, L1340.
43. A. W. Ott, J. W. Klaus, J. M. Johnson, S. M. George, K. C. McCarley, J. D. Way, Chem. Mater. 1997, 9, 707.
44. S. Trasatti, O. A. Petrii, J. Electroanal. Chem. 1992, 327, 353.
45. R. G. Gordon, D. Hausmann, E. Kim, J. Shepard, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 73.
46. N. B. Morozova, P. P. Semyannikov, S. V. Sysoev, V. M. Grankin, I. K. Igumenov, J. Therm. Anal. Calorim. 2000, 60, 489.
47. Z. L. Xue, H. Thridandam, H. D. Kaesz, R. F. Hicks, Chem. Mater. 1992, 4, 162.
48. H. Masuda, K. Fukuda, Science. 1995, 268, 1466.
49. J. W. Elam, M. D. Groner, S. M. George, Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981.