Dehydrogenation Reactions during atomic layer deposition of ru using O 2

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 19, 2012, Pages 3696-3700

  Leick, N ^a   Agarwal, S ^b   MacKus, A J M ^a   Kessels, W M M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^b Department of Metallurgical and Materials Engineering   (United States)

Author keywords

atomic layer deposition; dehydrogenation reactions; noble metal; ruthenium

Indexed keywords

COMBUSTION PRODUCTS; DEHYDROGENATION REACTIONS; GAS-PHASE SPECIES; ORGANOMETALLIC PRECURSORS; QUADRUPOLE MASS SPECTROMETRY; SURFACE CHEMISORPTION;

CARBON DIOXIDE; CHEMISORPTION; DEHYDROGENATION; GAS DYNAMICS; HYDROGEN; MASS SPECTROMETRY; ORGANOMETALLICS; PRECIOUS METALS; REACTION PRODUCTS; RUTHENIUM; SURFACE REACTIONS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84867385973     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm301115s     Document Type: Article

References (36)

1. Kim, S. K.; Lee, S. W.; Han, J. H.; Lee, B.; Han, S.; Hwang, C. S. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2989-3003
2. Christensen, S. T.; Feng, H.; Libera, J. L.; Guo, N.; Miller, J. T.; Stair, P. C.; Elam, J. W. Nano Lett. 2010, 10, 3047-3051
3. Liu, C.; Wang, C.-C.; Kei, C.-C.; Hsueh, Y.-C.; Perng, T.-P. Small 2009, 5, 1535-1538
4. Comstock, D. J.; Christensen, S. T.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hersam, M. C. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3099-3105
5. Eom, T. K.; Sari, W.; Choi, K. J.; Shin, W. C.; Kim, J. H.; Lee, D. J.; Kim, K. B.; Sohn, H.; Kim, S. H. Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, D85-D88
6. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Lee, S. W.; Hwang, G. W.; Hwang, C. S.; Lee, J. W.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D95-D101
7. Kukli, K.; Ritala, M.; Kemell, M.; Leskela, M. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, D35-D40
8. Kukli, K.; Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Jogi, I.; Lu, J.; Tallarida, M.; Kemell, M.; Kiisler, A. A.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Cryst. Growth 2010, 312, 2025-2032
9. Wang, H. T.; Gordon, R. G.; Alvis, R.; Ulfig, R. M. Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 312-319
10. Aaltonen, T.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M. Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130-C133
11. Christensen, S. T.; Elam, J. W. Chem. Mater. 2010, 22, 2517-2525
12. Kessels, W. M. M.; Knoops, H. C. M.; Dielissen, S. A. F.; Mackus, A. J. M.; van de Sanden, M. C. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013114
13. Rauscher, H.; Jakob, P.; Menzel, D.; Lloyd, D. R. Surf. Sci. 1991, 256, 27-41
14. Weiss, M. J.; Hagedorn, C. J.; Weinberg, W. H. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 5047-5055
15. Ilharco, L. M.; Garcia, A. R.; Hargreaves, E. C.; Chesters, M. A. Surf. Sci. 2000, 459, 115-123
16. Garcia, A. R.; Barros, R. B.; Ilharco, L. M. Surf. Sci. 2009, 603, 380-386
17. Hrbek, J. J. Catal. 1986, 100, 523-525
18. Wu, M. C.; Xu, Q.; Goodman, D. W. J. Phys. Chem. 1994, 98, 5104-5110
19. Mackus, A. J. M.; Leick, N.; Baker, L.; Kessels, W. M. M. Chem. Mater. 2012, 24, 1752-1761
20. van Hemmen, J. L.; Heil, S. B. S.; Klootwijk, J. H.; Roozeboom, F.; Hodson, C. J.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G165-G169
21. Leick, N.; Verkuijlen, R. O. F.; Lamagna, L.; Langereis, E.; Rushworth, S.; Roozeboom, F.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2011, 29, 021016
22. Knoops, H. C. M.; Langereis, E.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Vac. Sci. Technol. A 12AD, 30, 01A101
23. Bottcher, A.; Niehus, H. J. Chem. Phys. 1999, 110, 3186-3195
24. NIST Chemistry WebBook, NIST Standard Reference Database Number 69; http://webbook.nist.gov/chemistry/.
25. Mugarza, A.; Shimizu, T. K.; Cabrera-Sanfelix, P.; Sánchez-Portal, D.; Arnau, A.; Salmeron, M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 14052-14057
26. Feibelman, P. J. Science 2002, 295, 99-102
27. Tatarkhanov, M.; Ogletree, D. F.; Rose, F.; Mitsui, T.; Fomin, E.; Maier, S.; Rose, M.; Cerdá, J. I.; Salmeron, M. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 18425-18434
28. Aaltonen, T.; Ritala, M.; Arstila, K.; Keinonen, J.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 215-219
29. Ciobica, I. M.; Frechard, F.; van Santen, R. A.; Kleyn, A. W.; Hafner, J. Chem. Phys. Lett. 1999, 311, 185-192
30. George, P. M.; Avery, N. R.; Weinberg, W. H.; Tebbe, F. N. J. Am. Chem. Soc. 1983, 105, 1393-1394
31. Ollis, D. F. J. Catal. 1981, 102, 90-102
32. Zaera, F. Surf. Sci. 1992, 262, 335-350
33. Fairbrother, D. H.; Peng, X. D.; Trenary, M.; Stair, P. C. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 3619-3625
34. Avery, N. R. Surf. Sci. 1984, 146, 363-381
35. Colindres, S. C.; García, J. R. V.; Antonio, J. A. T.; Chavez, C. A. J. Alloys Compd. 2009, 483, 406-409
36. Johnson, D. F.; Weinberg, W. H. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 3695-3702