Photoassisted scanning tunneling microscopy

Journal of Applied Physics

Volumn 91, Issue 3, 2002, Pages 1717-1753

  Grafström, Stefan ^a  

^a DRESDEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD ENHANCEMENT; NONLINEAR EFFECT; OPTICAL SPECTROSCOPY; PHOTOASSISTED SCANNING TUNNELING MICROSCOPIES; SCANNING NEAR-FIELD OPTICAL MICROSCOPY; SEMI-CONDUCTOR SURFACES; SPIN-POLARIZED TUNNELING; SURFACE PLASMONS; TIME-RESOLVED;

PHOTOEXCITATION; ULTRASHORT PULSES;

SCANNING TUNNELING MICROSCOPY;

EID: 33845433526     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1432113     Document Type: Article

References (352)

1. G. Binnig and H. Rohrer, Helv. Phys. Acta 55, 726 (1982).
2. R. Wiesendanger, Scanning Probe Microscopy and Spectroscopy (Cambridge University Press, Cambridge, 1994).
3. The "M" in the acronyms stands both for "microscope" and "microscopy."
4. G. F. A. van de Walle, H. van Kempen, P. Wyder, and P. Davidsson, Appl. Phys. Lett. 50, 22 (1987).
5. J. K. Gimzewski, B. Reihl, J. H. Coombs, and R. R. Schlittler, Z. Phys. B: Condens. Matter 72, 497 (1988).
6. A. Downes and M. E. Welland, Phys. Rev. Lett. 81, 1857 (1998).
7. R. Berndt, Scanning Microsc. 9, 687 (1995).
8. A. Gustafsson, M.-E. Pistol, L. Montelius, and L. Samuelson, J. Appl. Phys. 84, 1715 (1998).
9. Proceedings of the 6th International Conference on Near-field Optics and Related Techniques [J. Microscopy 202 (2001)].
10. N. M. Amer, A. Skumanich, and D. Ripple, Appl. Phys. Lett. 49, 137 (1986).
11. S. Grafström, J. Kowalski, R. Neumann, O. Probst, and M. Wörtge, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 568 (1991).
12. S. Grafström, P. Schuller, J. Kowalski, and R. Neumann, J. Appl. Phys. 83, 3453 (1998).
13. V. Gerstner, A. Thon, and W. Pfeiffer, J. Appl. Phys. 87, 2574 (2000).
14. N. M. Miskovsky, S. H. Park, J. He, and P. H. Cutler, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 366 (1993).
15. M. J. G. Lee, R. Reifenberger, E. S. Robins, and H. G. Lindenmayr, J. Appl. Phys. 51, 4996 (1980).
16. H. F. Liu and T. T. Tsong, Rev. Sci. Instrum. 55, 1779 (1984).
17. K. W. Hadley, P. J. Donders, and M. J. G. Lee, J. Appl. Phys. 57, 2617 (1985).
18. E. S. Robins, M. J. G. Lee, and P. Langlois, Can. J. Phys. 64, 111 (1986).
19. M. J. G. Lee and E. S. Robins, J. Appl. Phys. 65, 1699 (1989).
20. 2) to describe the Gaussian profile in their original paper. Note also that here the "rise time" characterizes the response to a steplike excitation, while the rise time discussed by Gerstner et al. in Ref. 13 refers to excitation by a short pulse, which essentially can be considered to be a δ pulse.
21. In Ref. 11 the separation of the contributions of the sample and the tip is partly misleading. One has to keep in mind that the contribution of the tip extends to considerably higher frequencies when the light is focused on the very apex than when the focus is retracted toward the shank.
22. F. Depasse, N. Trannoy, and P. Grossel, Microsc. Microanal. Microstruct. 8, 21 (1997).
23. A. V. Bragas, A. S. M. Landi, J. A. Coy, and O. E. Martínez, J. Appl. Phys. 82, 4153 (1997).
24. S. M. Landi, A. V. Bragas, J. A. Coy, and O. E. Martínez, Ultramicroscopy 77, 207 (1999).
25. N. Trannoy, M. Egée, and P. Grossel, AIP Conf. Proc. 463, 135 (1999).
26. M. A. Olmstead, N. M. Amer, S. Kohn, D. Fournier, and A. C. Boccara, Appl. Phys. A: Solids Surf. A32, 141 (1983).
27. P. Grossel, F. Depasse, and N. Trannoy, Int. J. Eng. Sci. 35, 699 (1997).
28. F. Depasse, S. Gomès, N. Trannoy, and P. Grossel, J. Phys. D 30, 3279 (1997).
29. O. Probst, S. Grafström, J. Fritz, S. Dey, J. Kowalski, R. Neumann, M. Wörtge, and G. zu Putlitz, Appl. Phys. A: Solids Surf. A59, 109 (1994).
30. Z. Hasan, D. Andsager, D. Saltz, K. Cartwright, and M. H. Nayfeh, Rev. Sci. Instrum. 63, 2099 (1992).
31. J. A. Stovneng and P. Lipavsky, Phys. Rev. B 42, 9214 (1990).
32. C. C. Williams and H. K. Wickramasinghe, Nature (London) 344, 317 (1990).
33. J. Xu, B. Koslowski, R. Möller, K. Läuger, K. Dransfeld, and I. H. Wilson, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2156 (1994).
34. J. M. R. Weaver, L. M. Walpita, and H. K. Wickramasinghe, Nature (London) 342, 783 (1989).
35. D. Hoffmann, J. Y. Grand, R. Möller, A. Rettenberger, and K. Läuger, Phys. Rev. B 52, 13796 (1995).
36. A. Rettenberger, C. Baur, K. Läuger, D. Hoffmann, J. Y. Grand, and R. Möller, Appl. Phys. Lett. 67, 1217 (1995).
37. D. H. Hoffmann, A. Rettenberger, J.-Y. Grand, K. Läuger, P. Leiderer, K. Dransfeld, and R. Möller, Thin Solid Films 264, 223 (1995).
38. D. Hoffmann, A. Haas, T. Kunstmann, J. Seifritz, and R. Möller, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1418 (1997).
39. D. Hoffmann, J. Seifritz, B. Weyers, and R. Möller, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 109, 117 (2000).
40. A. Schneider, M. Wenderoth, K. J. Engel, M. A. Rosentreter, A. J. Heinrich, and R. G. Ulbrich, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S161 (1998).
41. S. H. Park, N. M. Miskovsky, P. H. Cutler, and E. Kazes, Surf. Sci. 266, 265 (1992).
42. D. J. E. Knight and P. T. Woods, J. Phys. E 9, 898 (1976).
43. P. H. Cutler, T. E. Feuchtwang, T. T. Tsong, H. Nguyen, and A. A. Lucas, Phys. Rev. B 35, 7774 (1987).
44. L. Arnold, W. Krieger, and H. Walther, Appl. Phys. Lett. 51, 786 (1987).
45. L. Arnold, W. Krieger, and H. Walther, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 466 (1988).
46. W. Krieger, H. Koppermann, T. Suzuki, and H. Walther, IEEE Trans. Instrum. Meas. 38, 1019 (1989).
47. W. Krieger, T. Suzuki, M. Völcker, and H. Walther, Phys. Rev. B 41, 10229 (1990).
48. H. Q. Nguyen, P. H. Cutler, T. E. Feuchtwang, Z. H. Huang, Y. Kuk, P. J. Silverman, A. A. Lucas, and T. E. Sullivan, IEEE Trans. Electron Devices 36, 2671 (1989).
49. M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2129 (1994).
50. M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, in Scanned Probe Microscopy, edited by H. K. Wickramasinghe (AIP, New York, 1992).
51. P. H. Cutler, T. E. Feuchtwang, Z. Huang, T. T. Tsong, H. Nguyen, A. A. Lucas, and T. E. Sullivan, J. Phys. Colloq. 48, C697 (1987).
52. A. A. Lucas, P. H. Cutler, T. E. Feuchtwang, T. T. Tsong, T. E. Sullivan, Y. Yuk, H. Nguyen, and P. J. Silverman, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 461 (1988).
53. T. E. Sullivan and P. H. Cutler, AIP Conf. Proc. 241, 111 (1991).
54. T. E. Sullivan, Y. Kuk, and P. H. Cutler, IEEE Trans. Electron Devices 36, 2659 (1989).
55. Y. Kuk, R. S. Becker, P. J. Silverman, and G. P. Kochanski, Phys. Rev. Lett. 65, 456 (1990).
56. M. Völcker, W. Krieger, T. Suzuki, and H. Walther, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 541 (1991).
57. M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, Phys. Rev. Lett. 66, 1717 (1991).
58. A. Levy Yeyati and F. Flores, Ultramicroscopy 42-44, 242 (1992).
59. K. Kobayashi, T. Suzuki, and M. Tsukada, Surf. Sci. 285, 181 (1993).
60. C. Sammet, W. Krieger, M. Völcker, and H. Walther, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 257.
61. C. Sammet, M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, J. Appl. Phys. 78, 6477 (1995).
62. W. Krieger, A. Hornsteiner, E. Soergel, C. Sammet, M. Völcker, and H. Walther, Laser Phys. 6, 334 (1996).
63. T. Gutjahr-Löser, A. Hornsteiner, W. Krieger, and H. Walther, J. Appl. Phys. 85, 6331 (1999).
64. T. Kokubo, A. Gallagher, and J. L. Hall, J. Appl. Phys. 85, 1311 (1999).
65. A. V. Bragas, Phys. Low-Dimens. Struct. 9/10, 1 (1998).
66. A. Levy Yeyati and F. Flores, Phys. Rev. B 44, 9020 (1991).
67. A. Levy Yeyati and F. Flores, J. Phys.: Condens. Matter 4, 7341 (1992).
68. A. Levy Yeyati and F. Flores, Ann. Phys. (Leipzig) 2, 126 (1993).
69. A. Levy Yeyati, J. C. Cuevas, and A. Martin-Rodero, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 281.
70. M. J. Hagmann, Int. J. Quantum Chem., Quantum Chem. Symp. 28, 271 (1994).
71. M. J. Hagmann, Appl. Surf. Sci. 87/88, 368 (1995).
72. M. J. Hagmann, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 838 (1996).
73. P. H. Cutler, T. E. Feuchtwang, Z. Huang, T. T. Tsong, H. Nguyen, A. A. Lucas, and T. E. Sullivan, J. Phys. Colloq. 48, C6101 (1987).
74. C. R. Leavens and G. C. Aers, in Scanning Tunneling Microscopy III, edited by R. Wiesendanger and H.-J. Güntherodt (Springer Verlag, Berlin, 1993), Vol. 29, p. 105.
75. C. Baur, B. Koslowski, R. Möller, and K. Dransfeld, in Near Field Optics, edited by D. W. Pohl and D. Courjon (Kluwer Academic, Dordrecht, 1993), p. 325.
76. M. J. Hagmann, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3191 (1994).
77. M. J. Hagmann, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1348 (1995).
78. M. J. Hagmann, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 403 (1995).
79. M. J. Hagmann and M. Brugat, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 405 (1997).
80. M. J. Hagmann, Appl. Phys. Lett. 66, 789 (1995).
81. M. J. Hagmann, J. Appl. Phys. 78, 25 (1995).
82. M. J. Hagmann, Int. J. Quantum Chem. 70, 703 (1998).
83. N. M. Miskovsky, S. H. Park, and P. H. Cutler, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2148 (1994).
84. M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, J. Appl. Phys. 74, 5426 (1993).
85. G. P. Kochanski, Phys. Rev. Lett. 62, 2285 (1989).
86. W. Seifert, E. Gerner, M. Stachel, and K. Dransfeld, Ultramicroscopy 42-44, 379 (1991).
87. B. Michel, W. Mizutani, R. Schierle, A. Jarosch, W. Knop, H. Benedickter, W. Bächtold, and H. Rohrer, Rev. Sci. Instrum. 63, 4080 (1992).
88. S. J. Stranick, P. S. Weiss, A. N. Parikh, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 739 (1993).
89. T. Gutjahr-Löser, W. Krieger, H. Walther, and J. Kirschner, J. Appl. Phys. 86, 6331 (1999).
90. P. Johansson, R. Monreal, and P. Apell, Phys. Rev. B 42, 9210 (1990).
91. M. Moskovits, Rev. Mod. Phys. 57, 783 (1985).
92. H. Metiu, Prog. Surf. Sci. 17, 3 (1984).
93. J. Wessel, J. Opt. Soc. Am. B 2, 1538 (1985).
94. A. Wokaun, Mol. Phys. 56, 1 (1985).
95. P. F. Liao and A. Wokaun, J. Chem. Phys. 76, 751 (1982).
96. C. F. Bohren and D. R. Huffmann, Absorption and Scattering of Light by Small Particles (Wiley, New York, 1998).
97. W. Denk and D. W. Pohl, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 510 (1991).
98. A. Madrazo, M. Nieto-Vesperinas, and N. Garcia, Phys. Rev. B 53, 3654 (1996).
99. O. J. F. Martin and C. Girard, Appl. Phys. Lett. 70, 705 (1997).
100. M. J. Hagmann, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 597 (1997).
101. L. Novotny, R. X. Bian, and X. S. Xie, Phys. Rev. Lett. 79, 645 (1997).
102. J. Jersch, F. Demming, L. J. Hildenhagen, and K. Dickmann, Proc. SPIE 3097, 244 (1997).
103. F. Demming, J. Jersch, K. Dickmann, and P. I. Geshev, Appl. Phys. B: Lasers Opt. B66, 593 (1998).
104. Y.-F. Lu, Z.-H. Mai, and W.-K. Chim, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 5910 (1999).
105. Y. E. Lozovik, A. V. Klyuchnik, and S. P. Merkulova, Laser Phys. 9, 552 (1999).
106. S. Reutskiy, S. Pittalis, and B. Tirozzi, J. Mod. Opt. 47, 25 (2000).
107. C. Baur, A. Rettenberger, K. Dransfeld, P. Leiderer, B. Koslowski, R. Möller, and P. Johansson, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 235.
108. A. V. Bragas, S. M. Landi, and O. E. Martínez, Appl. Phys. Lett. 72, 2075 (1998).
109. G. Haase, Int. Rev. Phys. Chem. 19, 247 (2000).
110. W. Mönch, Semiconductor Surfaces and Interfaces, 2nd ed. (Springer Verlag, Berlin, 1995).
111. L. Kronik and Y. Shapira, Surf. Sci. Rep. 37, 1 (1999).
112. M. H. Hecht, Phys. Rev. B 41, 7918 (1990).
113. R. J. Hamers and K. Markert, Phys. Rev. Lett. 64, 1051 (1990).
114. R. J. Hamers and K. Markert, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 3524 (1990).
115. D. Gorelik, S. Aloni, J. Eitle, D. Meyler, and G. Haase, J. Chem. Phys. 108, 9877 (1998).
116. G. P. Kochanski and R. F. Bell, Surf. Sci. Lett. 273, L435 (1992).
117. T. Hagen, S. Grafström, J. Kowalski, and R. Neumann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S973 (1998).
118. P. Muralt, D. W. Pohl, and W. Denk, IBM J. Res. Dev. 30, 443 (1986).
119. D. G. Cahill and R. J. Hamers, Phys. Rev. B 44, 1387 (1991).
120. D. G. Cahill and R. J. Hamers, Scanning Microsc. 6, 931 (1992).
121. D. G. Cahill and R. M. Feenstra, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 792 (1993).
122. M. McEllistrem, G. Haase, D. Chen, and R. J. Hamers, Phys. Rev. Lett. 70, 2471 (1993).
123. D. Gorelik, S. Aloni, and G. Haase, Surf. Sci. 432, 265 (1999).
124. R. H. M. Groeneveld, M. W. J. Prins, and H. van Kempen, Surf. Sci. 331-333, 1299 (1995).
125. T. W. Matthes, C. Sommerhalter, A. Rettenberger, M. Böhmisch, J. Boneberg, M. C. Lux-Steiner, and P. Leiderer, Appl. Surf. Sci. 123-124, 187 (1998).
126. Y. Kuk, R. S. Becker, P. J. Silverman, and G. P. Kochanski, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 545 (1991).
127. D. G. Cahill and R. J. Hamers, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 564 (1991).
128. S. Aloni, I. Nevo, and G. Haase, Phys. Rev. B 60, R2165 (1999).
129. F.-R. F. Fan and A. J. Bard, J. Phys. Chem. 97, 1431 (1993).
130. G. F. A. van de Walle, H. van Kempen, P. Wyder, and P. Davidsson, Surf. Sci. 181, 356 (1987).
131. G. S. Rohrer, D. A. Bonnell, and R. H. French, J. Am. Ceram. Soc. 73, 3257 (1990).
132. D. A. Bonnell, G. S. Rohrer, and R. H. French, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 551 (1991).
133. R. Möller, S. Akari, C. Bauer, B. Koslowski, and K. Dransfeld, AIP Conf. Proc. 241, 314 (1991).
134. M. W. J. Prins, R. Jansen, R. H. M. Groeneveld, A. P. van Gelder, and H. van Kempen, Phys. Rev. B 53, 8090 (1996).
135. C. Sommerhalter, T. W. Matthes, J. Boneberg, P. Leiderer, and M. C. Lux-Steiner, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 1876 (1997).
136. L. N. Bolotov, I. V. Makarenko, A. F. Shulekin, and A. N. Titkov, Surf. Sci. 331-333, 468 (1995).
137. M. W. J. Prins and A. P. van Gelder, Physica B 218, 297 (1996).
138. R. Hiesgen and D. Meissner, Fresenius J. Anal. Chem. 358, 54 (1997).
139. R. Hiesgen and D. Meissner, Electrochim. Acta 42, 2881 (1997).
140. R. Hiesgen and D. Meissner, Adv. Mater. 10, 619 (1998).
141. R. Hiesgen and D. Meissner, J. Phys. Chem. B 102, 6549 (1998).
142. H.-A. Lin, R. Jaccodine, and M. S. Freund, Appl. Phys. Lett. 72, 1993 (1998).
143. T. Takahashi and M. Yoshita, Appl. Phys. Lett. 70, 2162 (1997).
144. S. Akari, M. C. Lux-Steiner, M. Vögt, M. Stachel, and K. Dransfeld, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 561 (1991).
145. S. Akari, M. C. Lux-Steiner, K. Glöckler, T. Schill, R. Heitkamp, B. Koslowski, and K. Dransfeld, Ann. Phys. (Leipzig) 2, 141 (1993).
146. S. Akari, K. Friemelt, K. Glöckler, M. C. Lux-Steiner, E. Bucher, and K. Dransfeld, Appl. Phys. A: Solids Surf. A57, 221 (1993).
147. M. C. Lux-Steiner, S. Akari, K. Friemelt, and K. Glöckler, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 35, 149 (1994).
148. E. Schaar-Gabriel, N. Alonso-Vante, and H. Tributsch, Surf. Sci. 366, 508 (1996).
149. C. Ballif, M. Regula, and F. Lévy, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 57, 189 (1999).
150. C. Sommerhalter, T. W. Matthes, J. Boneberg, M. C. Lux-Steiner, and P. Leiderer, Appl. Surf. Sci. 144-145, 564 (1999).
151. D. Eich, U. Herber, U. Groh, U. Stahl, C. Heske, M. Marsi, M. Kiskinova, W. Riedl, R. Fink, and E. Umbach, Thin Solid Films 361-362, 258 (2000).
152. O. J. Glembocki, E. S. Snow, C. R. K. Marrian, S. M. Prokes, and D. S. Katzer, Ultramicroscopy 42-44, 764 (1992).
153. T. Takahashi, M. Yoshita, and H. Sakaki, Appl. Phys. Lett. 68, 502 (1996).
154. T. Takahashi and M. Yoshita, Appl. Phys. Lett. 68, 3479 (1996).
155. T. Takahashi, M. Yoshita, I. Kamiya, and H. Sakaki, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S1055 (1998).
156. H. Yamamoto, I. Kamiya, and T. Takahashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 3871 (1999).
157. T. Miki and H. Yanagi, Langmuir 14, 3405 (1998).
158. A. Pavlov and Y. Pavlova, Thin Solid Films 297, 132 (1997).
159. R. Laiho, A. Pavlov, and Y. Pavlova, Thin Solid Films 297, 138 (1997).
160. A. Pavlov and H. Ihantola, Scanning 19, 459 (1997).
161. D. Schwall, F. A. Otter, and J. M. Galligan, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2127 (1998).
162. V. V. Afonin, V. L. Gurevich, R. Laiho, A. Pavlov, and Y. Pavlova, Phys. Solid State 40, 1147 (1998).
163. V. V. Afonin, V. L. Gurevich, R. Laiho, A. Pavlov, and Y. Pavlova, J. Phys.: Condens. Matter 10, 8687 (1998).
164. J. Therrien, G. Belomoin, and M. Nayfeh, Appl. Phys. Lett. 77, 1668 (2000).
165. Y. Maeda, T. Matsumoto, and T. Kawai, Surf. Sci. 384, L896 (1997).
166. K. S. Cho, W. H. Lee, D. Kim, and J.-W. Choi, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 349, 319 (2000).
167. P. B. Lukins and T. Oates, Biochim. Biophys. Acta 1409, 1 (1998).
168. P. B. Lukins, Biochem. Biophys. Res. Commun. 256, 288 (1999).
169. P. B. Lukins, Chem. Phys. Lett. 321, 13 (2000).
170. H.-A. Lin, R. J. Jaccodine, and M. S. Freund, Appl. Phys. Lett. 73, 2462 (1998).
171. H.-A. Lin, R. J. Jaccodine, and M. S. Freund, Appl. Phys. Lett. 74, 1105 (1999).
172. Y. Suganuma and M. Tomitori, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 48 (2000).
173. H. Möltgen, E. Donkels, H. Bettermann, and K. Kleinermanns, Mater. Lett. 45, 63 (2000).
174. V. Y. Aleshkin, A. V. Biryukov, S. V. Gaponov, Z. F. Krasilnik, and V. L. Mironov, Tech. Phys. Lett. 26, 3 (2000).
175. L. Q. Qian and B. W. Wessels, Appl. Phys. Lett. 58, 1295 (1991).
176. J. D. Patterson and J. G. Mantovani, Proc. SPIE 3123, 75 (1997).
177. J. Li, J. G. Mantovani, and J. D. Patterson, Infrared Phys. Technol. 40, 463 (1999).
178. L. Q. Qian and B. W. Wessels, Appl. Phys. Lett. 58, 2538 (1991).
179. V. Y. Aleshkin, A. V. Biryukov, S. V. Gaponov, Z. F. Krasilnik, and V. L. Mironov, Russ. Acad. Sci. Bull. Phys. 64, 296 (2000).
180. E. Beham, A. Zrenner, and G. Böhm, Physica E (Amsterdam) 7, 359 (2000).
181. A. Zrenner, F. Findeis, E. Beham, M. Markmann, G. Böhm, and G. Abstreiter, J. Lumin. 87-89, 35 (2000).
182. L. L. Kazmerski, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1549 (1991).
183. R. J. Hamers and D. G. Cahill, Appl. Phys. Lett. 57, 2031 (1990).
184. R. J. Hamers and D. G. Cahill, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 514 (1991).
185. K. Maeda, M. Uota, and Y. Mera, Mater. Sci. Eng., B 42, 127 (1996).
186. M. J. Gallagher, T. G. Ruskell, D. Chen, and D. Sarid, Appl. Phys. Lett. 64, 256 (1994).
187. K. Kawashima, S. Takai, G. Kudou, H. Adachi, M. Takeuchi, and K. Fujiwara, Proc. SPIE 3897, 658 (1999).
188. H. Sugimura, N. Kitamura, and H. Masuhara, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L1506 (1992).
189. H. Sugimura, T. Uchida, N. Shimo, N. Kitamura, and H. Masuhara, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 253, 205 (1994).
190. T. W. Mercer, T. L. Carroll, Y. Liang, N. J. DiNardo, and D. A. Bonnell, J. Appl. Phys. 75, 8225 (1994).
191. A. Pavlov, Y. Pavlova, R. Laiho, R. Herino, I. Mihalcescu, and R. Romestain, Diffus. Defect Data, Pt. B 54, 119 (1997).
192. J. K. Gimzewski, R. Berndt, and R. R. Schlittler, Ultramicroscopy 42-44, 366 (1992).
193. S. M. Gray, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 109, 183 (2000).
194. K. Tsuji and K. Hirokawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1506 (1995).
195. K. Tsuji and K. Hirokawa, Rev. Sci. Instrum. 67, 3573 (1996).
196. K. Tsuji and K. Wagatsuma, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 1264 (1997).
197. K. Tsuji, Y. Hasegawa, K. Wagatsuma, and T. Sakurai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 37, L1271 (1998).
198. Y. Hasegawa, K. Tsuji, K. Nakayama, K. Wagatsuma, and T. Sakurai, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 2676 (2000).
199. G. Gerber, F. Sattler, S. Vogler, J. Y. Grand, P. Leiderer, and R. Möller, in Ultrafast Phenomena IX, edited by P. F. Barbara, W. H. Knox, G. A. Mourou, and A. H. Zewail (Springer Verlag, Berlin, 1994), Vol. 60, p. 149.
200. M. J. Feldstein, P. Vöhringer, W. Wang, and N. F. Scherer, J. Phys. Chem. 100, 4739 (1996).
201. W. Pfeiffer, F. Sattler, S. Vogler, G. Gerber, J.-Y. Grand, and R. Möller, Appl. Phys. B: Lasers Opt. B64, 265 (1997).
202. D. T. Pierce and F. Meier, Phys. Rev. B 13, 5484 (1976).
203. D. T. Pierce, R. J. Celotta, G.-C. Wang, W. N. Unertl, A. Galejs, C. E. Kuyatt, and S. R. Mielczarek, Rev. Sci. Instrum. 51, 478 (1980).
204. D. T. Pierce, Phys. Scr. 38, 291 (1988).
205. R. Wiesendanger, H.-J. Güntherodt, G. Güntherodt, R. J. Gambino, and R. Ruf, Phys. Rev. Lett. 65, 247 (1990).
206. R. Wiesendanger, D. Bürgler, G. Tarrach, T. Schaub, U. Hartmann, H.-J. Güntherodt, I. V. Shvets, and J. M. D. Coey, Appl. Phys. A: Solids Surf. A53, 349 (1991).
207. G. Nunes and N. M. Amer, Appl. Phys. Lett. 63, 1851 (1993).
208. K. Yamaguchi, K. Okamoto, and S. Yugo, J. Appl. Phys. 77, 6061 (1995).
209. K. Yamaguchi and S. Tada, J. Electrochem. Soc. 143, 2616 (1996).
210. R. Shinohara, K. Yamaguchi, Y. Suzuki, and W. Nabhan, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 7151 (1998).
211. R. Shinohara, K. Yamaguchi, H. Hirota, Y. Suzuki, T. Manago, H. Akinaga, T. Kuroda, and F. Minami, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 7093 (2000).
212. T. Endo, K. Sueoka, and K. Mukasa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 397 (2000).
213. R. Jansen, M. C. M. M. van der Wielen, M. W. J. Prins, D. L. Abraham, and H. van Kempen, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2133 (1994).
214. M. W. J. Prins, M. C. M. M. van der Wielen, R. Jansen, D. L. Abraham, and H. van Kempen, Appl. Phys. Lett. 64, 1207 (1994).
215. M. C. M. M. van der Wielen, M. W. J. Prins, R. Jansen, D. L. Abraham, and H. van Kempen, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 275.
216. M. Yoshita and T. Takahashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 6957 (1997).
217. M. W. J. Prins, M. C. M. M. van der Wielen, D. L. Abraham, H. van Kempen, and H. W. van Kesteren, IEEE Trans. Magn. 30, 4491 (1994).
218. M. W. J. Prins, R. H. M. Groeneveld, D. L. Abraham, H. van Kempen, and H. W. van Kesteren, Appl. Phys. Lett. 66, 1141 (1995).
219. M. W. J. Prins, R. H. M. Groeneveld, D. L. Abraham, B. R. Schad, and H. van Kempen, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1206 (1996).
220. H. van Kempen, E. J. G. Boon, M. C. M. M. van der Wielen, J. W. G. Wildöer, M. W. J. Prins, R. Jansen, and R. Schad, Acta Phys. Pol. A 93, 323 (1998).
221. R. Schad, S. M. Jordan, M. J. P. Stoelinga, M. W. J. Prins, R. H. M. Groeneveld, H. van Kempen, and H. W. van Kesteren, Appl. Phys. Lett. 73, 2669 (1998).
222. S. N. Molotkov, JETP Lett. 55, 173 (1992).
223. R. Laiho and H. J. Reittu, Surf. Sci. 289, 363 (1993).
224. H. J. Reittu, J. Phys.: Condens. Matter 6, 1847 (1994).
225. R. Jansen, M. W. J. Prins, and H. van Kempen, Phys. Rev. B 57, 4033 (1998).
226. M. W. J. Prins, H. van Kempen, H. van Leuken, R. A. de Groot, W. van Roy, and J. De Boeck, J. Phys.: Condens. Matter 7, 9447 (1995).
227. M. W. J. Prins, R. Jansen, and H. van Kempen, Phys. Rev. B 53, 8105 (1996).
228. M. W. J. Prins, D. L. Abraham, and H. van Kempen, J. Magn. Magn. Mater. 121, 152 (1993).
229. M. W. J. Prins, D. L. Abraham, and H. van Kempen, Surf. Sci. 287/288, 750 (1993).
230. K. Sueoka, K. Mukasa, and K. Hayakawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 2989 (1993).
231. K. Mukasa, K. Sueoka, H. Hasegawa, Y. Tazuke, and K. Hayakawa, Optoelectron., Devices Technol. 10, 259 (1995).
232. Y. Suzuki, W. Nabhan, and K. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 71, 3153 (1997).
233. W. Nabhan and Y. Suzuki, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S101 (1998).
234. Y. Suzuki, W. Nabhan, R. Shinohara, K. Yamaguchi, and T. Katayama, J. Magn. Magn. Mater. 198-199, 540 (1999).
235. J. Jansen, R. Schad, and H. van Kempen, J. Magn. Magn. Mater. 198-199, 668 (1999).
236. W. Nabhan, Y. Suzuki, R. Shinohara, K. Yamaguchi, and E. Tamura, Appl. Surf. Sci. 144-145, 570 (1999).
237. H. Kodama, T. Uzumaki, M. Oshiki, K. Sueoka, and K. Mukasa, J. Appl. Phys. 83, 6831 (1998).
238. M. I. Shtokman, Optoelectron, Instrumentation Data Processing 3, 27 (1989).
239. S.-T. Yau, D. Saltz, and M. H. Nayfeh, Appl. Phys. Lett. 57, 2913 (1990).
240. S.-T. Yau, D. Saltz, and M. H. Nayfeh, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1371 (1991).
241. C.-Y. Liu and A. J. Bard, Chem. Phys. Lett. 174, 162 (1990).
242. A. A. Gorbunov and W. Pompe, Phys. Status Solidi A 145, 333 (1994).
243. K. Dickmann and J. Jersch, Laser Optoelektron. 27, 76 (1995).
244. J. Jersch and K. Dickmann, Appl. Phys. Lett. 68, 868 (1996).
245. K. Dickmann, J. Jersch, and F. Demming, Surf. Interface Anal. 25, 500 (1997).
246. J. Jersch, F. Demming, J. Hildenhagen, and K. Dickmann, Opt. Laser Technol. 29, 433 (1997).
247. J. Jersch, F. Demming, L. J. Hildenhagen, and K. Dickmann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, 29 (1998).
248. J. Jersch, F. Demming, and K. Dickmann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A64, 29 (1997).
249. B. Hu, Y. F. Lu, Z. Mai, W. D. Song, and W. K. Chim, Proc. SPIE 4088, 232 (2000).
250. Y. F. Lu, Z. H. Mai, G. Qiu, and W. K. Chim, Appl. Phys. Lett. 75, 2359 (1999).
251. Z. H. Mai, Y. F. Lu, W. D. Song, and W. K. Chim, Proc. SPIE 3898, 200 (1999).
252. Z. H. Mai, Y. F. Lu, W. D. Song, and W. K. Chim, Appl. Surf. Sci. 154-155, 360 (2000).
253. Z. H. Mai, Y. F. Lu, S. M. Huang, W. K. Chim, and J. S. Pan, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1853 (2000).
254. Y. E. Lozovik, D. V. Lisin, A. I. Ivanov, V. O. Kompanets, Y. A. Matveets, S. V. Chekalin, and S. P. Merkulova, Proc. SPIE 3734, 424 (1999).
255. Y. E. Lozovik, D. V. Lisin, A. I. Ivanov, V. O. Kompanets, Y. A. Matveets, S. V. Chekalin, and S. P. Merkulova, Laser Phys. 9, 564 (1999).
256. V. A. Ukraintsev and J. T. Yates, Jr., J. Appl. Phys. 80, 2561 (1996).
257. Z. Dohnálek, I. Lyubinetsky, and J. T. Yates, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1488 (1997).
258. I. Lyubinetsky, Z. Dohnálek, V. A. Ukraintsev, and J. T. Yates, Jr., J. Appl. Phys. 82, 4115 (1997).
259. J. Boneberg, M. Tresp, M. Ochmann, H.-J. Münzer, and P. Leiderer, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, 615 (1998).
260. R. Huber, M. Koch, and J. Feldmann, Appl. Phys. Lett. 73, 2521 (1998).
261. J. Boneberg, H. J. Münzer, M. Tresp, M. Ochmann, and P. Leiderer, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A67, 381 (1998).
262. J. Jersch, F. Demming, I. Fedotov, and K. Dickmann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A68, 637 (1999).
263. F. Demming, K. Dickmann, and J. Jersch, Rev. Sci. Instrum. 69, 2406 (1998).
264. M. Ochmann, H. J. Münzer, J. Boneberg, and P. Leiderer, Rev. Sci. Instrum. 70, 2049 (1999).
265. J. Jersch, F. Demming, I. Fedotov, and K. Dickmann, Rev. Sci. Instrum. 70, 3173 (1999).
266. P. I. Geshev, F. Demming, J. Jersch, and K. Dickmann, Thin Solid Films 368, 157 (2000).
267. P. I. Geshev, F. Demming, J. Jersch, and K. Dickmann, Appl. Phys. B: Lasers Opt. B70, 91 (2000).
268. H. Raether, Surface Plasmons on Smooth and Rough Surfaces and on Gratings (Springer Verlag, Berlin, 1988).
269. R. Möller, U. Albrecht, J. Boneberg, B. Koslowski, P. Leiderer, and K. Dransfeld, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 506 (1991).
270. N. Kroo, J.-P. Thost, M. Völcker, W. Krieger, and H. Walther, Europhys. Lett. 15, 289 (1991).
271. J.-P. Thost, W. Krieger, N. Kroo, Z. Szentirmay, and H. Walther, Opt. Commun. 103, 194 (1993).
272. A. Hornsteiner, W. Krieger, Z. Szentirmay, N. Kroo, and H. Walther, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 251.
273. M. Rücker, W. Knoll, and J. P. Rabe, J. Appl. Phys. 72, 5027 (1992).
274. J. P. Dufour, T. David, Y. Lacroute, and J. P. Goudonnet, Surf. Sci. 310, 301 (1994).
275. M. Specht, J. D. Pedarnig, W. M. Heckl, and T. W. Hänsch, Phys. Rev. Lett. 68, 476 (1992).
276. Y.-K. Kim, P. M. Lundquist, J. A. Helfrich, J. M. Mikrut, G. K. Wong, P. R. Auvil, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 66, 3407 (1995).
277. J. Boneberg, M. Ochmann, H.-J. Münzer, and P. Leiderer, Ultramicroscopy 71, 345 (1998).
278. K. M. Engenhardt and S. Gregory, J. Opt. Soc. Am. B 17, 593 (2000).
279. I. Smolyaninov, A. Zayats, and O. Keller, Phys. Lett. A 200, 438 (1995).
280. I. I. Smolyaninov, Int. J. Mod. Phys. B 11, 2465 (1997).
281. J. D. Pedarnig, M. Specht, W. M. Heckl, and T. W. Hänsch, Appl. Phys. A: Solids Surf. A55, 476 (1992).
282. Y.-K. Kim, P. R. Auvil, and J. B. Ketterson, Appl. Opt. 36, 841 (1997).
283. A. E. Kryukov, Y. K. Kim, and J. B. Ketterson, J. Appl. Phys. 82, 5411 (1997).
284. U. D. Keil, H. Taekjip, J. R. Jensen, and J. M. Hvam, Appl. Phys. Lett. 72, 3074 (1998).
285. K. Takeuchi and Y. Kasahara, Appl. Phys. Lett. 63, 3548 (1993).
286. S. Weiss, D. F. Ogletree, D. Botkin, M. Salmeron, and D. S. Chemla, Appl. Phys. Lett. 63, 2567 (1993).
287. D. Botkin, S. Weiss, D. F. Ogletree, M. Salmeron, and D. S. Chemla, Proc. SPIE 2116, 376 (1994).
288. D. Botkin, S. Weiss, D. F. Ogletree, J. Beeman, M. Salmeron, and D. S. Chemla, Rev. Sci. Instrum. 66, 4130 (1995).
289. R. H. M. Groeneveld, T. Rasing, L. M. F. Kaufmann, E. Smalbrugge, J. H. Wolter, M. R. Melloch, and H. van Kempen, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 861 (1996).
290. K. Takeuchi and A. Mizuhara, Electron. Lett. 32, 1709 (1996).
291. U. D. Keil, J. R. Jensen, and J. M. Hvam, J. Appl. Phys. 81, 2929 (1997).
292. G. P. Donati, G. Rodriguez, and A. J. Taylor, J. Opt. Soc. Am. B 17, 1077 (2000).
293. S. Heisig, W. Steffens, and E. Oesterschulze, Proc. SPIE 3467, 305 (1998).
294. W. M. Steffens, S. Heisig, U. D. Keil, and E. Oesterschulze, Appl. Phys. B: Lasers Opt. B69, 455 (1999).
295. K. Takeuchi, A. Mizuhara, and Y. Kasahara, IEEE Trans. Instrum. Meas. 44, 815 (1995).
296. S. Weiss, D. Botkin, D. F. Ogletree, M. Salmeron, and D. S. Chemla, Phys. Status Solidi B 188, 343 (1995).
297. R. H. M. Groeneveld, T. Rasing, L. M. F. Kaufmann, E. Smalbrugge, J. H. Wolter, M. R. Melloch, and H. van Kempen, Physica B 218, 294 (1996).
298. R. H. M. Groeneveld and H. van Kempen, Appl. Phys. Lett. 69, 2294 (1996).
299. D. Botkin, J. Glass, D. S. Chemla, D. F. Ogletree, M. Salmeron, and S. Weiss, Appl. Phys. Lett. 69, 1321 (1996).
300. U. D. Keil, J. R. Jensen, and J. M. Hvam, Appl. Phys. Lett. 70, 2625 (1997).
301. J. R. Jensen, U. D. Keil, and J. M. Hvam, Appl. Phys. Lett. 70, 2762 (1997).
302. U. D. Keil, J. R. Jensen, and J. M. Hvam, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S23 (1998).
303. G. P. Donati, G. Rodriguez, and A. J. Taylor, in Ultrafast Phenomena XI, edited by T. Elsaesser, D. Wiersma, J. Fujimoto, and W. Zinth (Springer Verlag, Berlin, 1998), p. 159.
304. U. D. Keil, J. R. Jensen, and J. M. Hvam, Appl. Phys. Lett. 72, 1644 (1998).
305. M. R. Freeman and G. Nunes, Jr., Appl. Phys. Lett. 63, 2633 (1993).
306. M. R. Freeman and G. Nunes, Jr., Appl. Surf. Sci. 107, 238 (1996).
307. M. R. Freeman, A. Y. Elezzabi, G. M. Steeves, and G. Nunes, Jr., Surf. Sci. 386, 290 (1997).
308. A. Levy and N. M. Amer, Appl. Phys. Lett. 66, 3594 (1995).
309. G. Nunes, Jr. and M. R. Freeman, Science 262, 1029 (1993).
310. G. M. Steeves, A. Y. Elezzabi, and M. R. Freeman, Appl. Phys. Lett. 70, 1909 (1997).
311. G. M. Steeves, A. Y. Elezzabi, and M. R. Freeman, Appl. Phys. Lett. 72, 504 (1998).
312. G. M. Steeves, A. Y. Elezzabi, R. Teshima, R. A. Said, and M. R. Freeman, IEEE J. Quantum Electron. 34, 1415 (1998).
313. N. N. Khusnatdinov, T. J. Nagle, and G. Nunes, Appl. Phys. Lett. 77, 4434 (2000).
314. V. Gerstner, A. Knoll, W. Pfeiffer, A. Thon, and G. Gerber, J. Appl. Phys. 88, 4851 (2000).
315. M. J. Feldstein and N. F. Scherer, Proc. SPIE 3272, 58 (1998).
316. S. Grafström, O. Probst, S. Dey, J. Freund, J. Kowalski, R. Neumann, M. Wörtge, and G. zu Putlitz, Proc. SPIE 1891, 56 (1993).
317. S. N. Molotkov, JETP Lett. 54, 481 (1991).
318. M. A. Kozhushner and I. I. Oleinik, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 215.
319. O. Probst, S. Dey, J. Fritz, S. Grafström, T. Hagen, J. Kowalski, G. zu Putlitz, and R. Neumann, in Photons and Local Probes, edited by O. Marti and R. Möller (Kluwer Academic, Dordrecht, 1995), p. 269.
320. S. Grafström, J. Kowalski, and R. Neumann, in Atomic Physics Methods in Modern Research, edited by K. Jungmann, J. Kowalski, I. Reinhard, and F. Träger (Springer Verlag, Berlin, 1997), p. 295.
321. S. Grafström, P. Schuller, J. Kowalski, and R. Neumann, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A66, S1237 (1998).
322. S. M. Landi and O. E. Martínez, J. Appl. Phys. 88, 4840 (2000).
323. D. A. Smith and R. W. Owens, Appl. Phys. Lett. 76, 3825 (2000).
324. C. Im, K. M. Engenhardt, and S. Gregory, Phys. Rev. B 59, 3153 (1999).
325. E. A. Synge, Philos. Mag. 6, 356 (1928).
326. D. W. Pohl, in Near Field Optics, edited by D. W. Pohl and D. Courjon (Kluwer Academic, Dordrecht, 1993), p. 1.
327. U. Dürig, D. W. Pohl, and F. Rohner, J. Appl. Phys. 59, 3318 (1986).
328. A. Harootunian, E. Betzig, M. Isaacson, and A. Lewis, Appl. Phys. Lett. 49, 674 (1986).
329. E. Betzig, P. L. Finn, and J. S. Weiner, Appl. Phys. Lett. 60, 2484 (1992).
330. Y. Inouye and S. Kawata, Opt. Lett. 19, 159 (1994).
331. F. Zenhausern, M. P. O'Boyle, and H. K. Wickramasinghe, Appl. Phys. Lett. 65, 1623 (1994).
332. R. Bachelot, P. Gleyzes, and A. C. Boccara, Opt. Lett. 20, 1924 (1995).
333. J. Koglin, U. C. Fischer, and H. Fuchs, Phys. Rev. B 55, 7977 (1997).
334. F. Zenhausern, Y. Martin, and H. K. Wickramasinghe, Science 269, 1083 (1995).
335. B. Hecht, H. Bielefeld, Y. Inouye, D. W. Pohl, and L. Novotny, J. Appl. Phys. 81, 2492 (1997).
336. U. C. Fischer, U. T. Dürig, and D. W. Pohl, Appl. Phys. Lett. 52, 249 (1988).
337. K. Lieberman and A. Lewis, Appl. Phys. Lett. 62, 1335 (1993).
338. M. Garcia-Parajo, E. Cambril, and Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 65, 1498 (1994).
339. Y. Inouye and S. Kawata, J. Microsc. 178, 14 (1995).
340. D. G. Volgunov, S. V. Gaponov, V. F. Dryakhlushin, A. Y. Klimov, A. Y. Luk'yanov, V. L. Mironov, A. I. Panfilov, A. A. Petrukhin, D. G. Revin, and V. V. Rogov, Instrum. Exp. Tech. 41, 132 (1998).
341. H. Hatano, Y. Inouye, and S. Kawata, Opt. Lett. 22, 1532 (1997).
342. P. Tománek, J. Brüstlová, P. Dobis, and L. Grmela, Ultramicroscopy 71, 199 (1998).
343. K. Nakajima, R. Micheletto, K. Mitsui, T. Isoshima, M. Hara, T. Wada, H. Sasabe, and W. Knoll, Mol. Cryst. Liq. Cryst. Sci. Technol., Sect. A 322, 209 (1998).
344. K. Nakajima, R. Micheletto, K. Mitsui, T. Isoshima, M. Hara, T. Wada, H. Sasabe, and W. Knoll, Appl. Surf. Sci. 144-145, 520 (1999).
345. K. Nakajima, R. Micheletto, K. Mitsui, T. Isoshima, M. Hara, T. Wada, H. Sasabe, and W. Knoll, Mol. Cryst. Liq. Cryst. Sci. Technol., Sect. A 327, 241 (1999).
346. K. Nakajima, R. Micheletto, K. Mitsui, T. Isoshima, M. Hara, T. Wada, H. Sasabe, and W. Knoll, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 3949 (1999).
347. J. Ferber, U. C. Fischer, N. Hagedorn, and H. Fuchs, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A69, 581 (1999).
348. A. V. Bragas and O. E. Martínez, Opt. Lett. 25, 631 (2000).
349. S. Aloni, I. Nevo, and G. Haase, J. Chem. Phys. 115, 1875 (2001).
350. A. Hida, Y. Mera, and K. Maeda, Appl. Phys. Lett. 78, 3029 (2001).
351. A. Hida, Y. Mera, and K. Maeda, Appl. Phys. Lett. 78, 3190 (2001).
352. A. E. Pochtenny, O. M. Stukalov, V. L. Mironov, D. G. Volgunov, and A. G. Biryukov, Phys. Low-Dimens. Struct. 3/4, 109 (2001).