-
17
-
-
33746905528
-
-
J. W. Elam G. Xiong C. Y. Han H. H. Wang J. P. Birrell U. Welp J. N. Hryn M. J. Pellin T. F. Baumann J. F. Poco J. H. Satcher J. Nanomater. 2006 2006 64501
-
(2006)
J. Nanomater.
, vol.2006
, pp. 64501
-
-
Elam, J.W.1
Xiong, G.2
Han, C.Y.3
Wang, H.H.4
Birrell, J.P.5
Welp, U.6
Hryn, J.N.7
Pellin, M.J.8
Baumann, T.F.9
Poco, J.F.10
Satcher, J.H.11
-
23
-
-
84885481453
-
-
G. N. Parsons S. E. Atanasov E. C. Dandley C. K. Devine B. Gong J. S. Jur K. Lee C. J. Oldham Q. Peng J. C. Spagnola P. S. Williams Coord. Chem. Rev. 2013 257 3323 3331
-
(2013)
Coord. Chem. Rev.
, vol.257
, pp. 3323-3331
-
-
Parsons, G.N.1
Atanasov, S.E.2
Dandley, E.C.3
Devine, C.K.4
Gong, B.5
Jur, J.S.6
Lee, K.7
Oldham, C.J.8
Peng, Q.9
Spagnola, J.C.10
Williams, P.S.11
-
24
-
-
84859847165
-
-
X. F. Li X. B. Meng J. Liu D. S. Geng Y. Zhang M. N. Banis Y. L. Li J. L. Yang R. Y. Li X. L. Sun M. Cai M. W. Verbrugge Adv. Funct. Mater. 2012 22 1647 1654
-
(2012)
Adv. Funct. Mater.
, vol.22
, pp. 1647-1654
-
-
Li, X.F.1
Meng, X.B.2
Liu, J.3
Geng, D.S.4
Zhang, Y.5
Banis, M.N.6
Li, Y.L.7
Yang, J.L.8
Li, R.Y.9
Sun, X.L.10
Cai, M.11
Verbrugge, M.W.12
-
25
-
-
84876222690
-
-
Y. Chen J. Wang X. Meng Y. Zhong R. Li X. Sun S. Ye S. Knights J. Power Sources 2013 238 144 149
-
(2013)
J. Power Sources
, vol.238
, pp. 144-149
-
-
Chen, Y.1
Wang, J.2
Meng, X.3
Zhong, Y.4
Li, R.5
Sun, X.6
Ye, S.7
Knights, S.8
-
26
-
-
84913002420
-
-
Method for producing compound thin films, 4058430
-
T. Suntola and J. Antson, Method for producing compound thin films, US Pat., 4058430, 1977
-
(1977)
US Pat.
-
-
Suntola, T.1
Antson, J.2
-
27
-
-
84885162366
-
-
G. N. Parsons J. W. Elam S. M. George S. Haukka H. Jeon W. M. M. Kessels M. Leskelä P. Poodt M. Ritala S. M. Rossnagel J. Vac. Sci. Technol., A 2013 31 050818
-
(2013)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.31
, pp. 050818
-
-
Parsons, G.N.1
Elam, J.W.2
George, S.M.3
Haukka, S.4
Jeon, H.5
Kessels, W.M.M.6
Leskelä, M.7
Poodt, P.8
Ritala, M.9
Rossnagel, S.M.10
-
35
-
-
84921667020
-
-
W. Niu X. Li S. K. Karuturi D. W. Fam H. Fan S. Shrestha L. H. Wong A. I. Tok Nanotechnology 2015 26 064001
-
(2015)
Nanotechnology
, vol.26
, pp. 064001
-
-
Niu, W.1
Li, X.2
Karuturi, S.K.3
Fam, D.W.4
Fan, H.5
Shrestha, S.6
Wong, L.H.7
Tok, A.I.8
-
36
-
-
84924235965
-
-
B. J. O'Neill D. H. K. Jackson J. Lee C. Canlas P. C. Stair C. L. Marshall J. W. Elam T. F. Kuech J. A. Dumesic G. W. Huber ACS Catal. 2015 5 1804 1825
-
(2015)
ACS Catal.
, vol.5
, pp. 1804-1825
-
-
O'Neill, B.J.1
Jackson, D.H.K.2
Lee, J.3
Canlas, C.4
Stair, P.C.5
Marshall, C.L.6
Elam, J.W.7
Kuech, T.F.8
Dumesic, J.A.9
Huber, G.W.10
-
68
-
-
84890432192
-
-
I. Bloom L. Trahey A. Abouimrane I. Belharouak X. F. Zhang Q. L. Wu W. Q. Lu D. P. Abraham M. Bettge J. W. Elam X. B. Meng A. K. Burrell C. M. Ban R. Tenent J. Nanda N. Dudney J. Power Sources 2014 249 509 514
-
(2014)
J. Power Sources
, vol.249
, pp. 509-514
-
-
Bloom, I.1
Trahey, L.2
Abouimrane, A.3
Belharouak, I.4
Zhang, X.F.5
Wu, Q.L.6
Lu, W.Q.7
Abraham, D.P.8
Bettge, M.9
Elam, J.W.10
Meng, X.B.11
Burrell, A.K.12
Ban, C.M.13
Tenent, R.14
Nanda, J.15
Dudney, N.16
-
69
-
-
66949114271
-
-
S.-W. Kim T. H. Han J. Kim H. Gwon H.-S. Moon S.-W. Kang S. O. Kim K. Kang ACS Nano 2009 3 1085 1090
-
(2009)
ACS Nano
, vol.3
, pp. 1085-1090
-
-
Kim, S.-W.1
Han, T.H.2
Kim, J.3
Gwon, H.4
Moon, H.-S.5
Kang, S.-W.6
Kim, S.O.7
Kang, K.8
-
75
-
-
84921790937
-
-
K. E. Gregorczyk A. C. Kozen X. Chen M. A. Schroeder M. Noked A. Cao L. Hu G. W. Rubloff ACS Nano 2015 9 464 473
-
(2015)
ACS Nano
, vol.9
, pp. 464-473
-
-
Gregorczyk, K.E.1
Kozen, A.C.2
Chen, X.3
Schroeder, M.A.4
Noked, M.5
Cao, A.6
Hu, L.7
Rubloff, G.W.8
-
77
-
-
85027941904
-
-
X. B. Meng K. He D. Su X. F. Zhang C. J. Sun Y. Ren H. H. Wang W. Weng L. Trahey C. P. Canlas J. W. Elam Adv. Funct. Mater. 2014 24 5435 5442
-
(2014)
Adv. Funct. Mater.
, vol.24
, pp. 5435-5442
-
-
Meng, X.B.1
He, K.2
Su, D.3
Zhang, X.F.4
Sun, C.J.5
Ren, Y.6
Wang, H.H.7
Weng, W.8
Trahey, L.9
Canlas, C.P.10
Elam, J.W.11
-
81
-
-
84957916589
-
-
S. C. Riha A. A. Koegel X. Meng I. S. Kim Y. Cao M. J. Pellin J. W. Elam A. B. F. Martinson ACS Appl. Mater. Interfaces 2016 8 2774 2780
-
(2016)
ACS Appl. Mater. Interfaces
, vol.8
, pp. 2774-2780
-
-
Riha, S.C.1
Koegel, A.A.2
Meng, X.3
Kim, I.S.4
Cao, Y.5
Pellin, M.J.6
Elam, J.W.7
Martinson, A.B.F.8
-
91
-
-
84906256324
-
-
X. Sun C. G. Zhou M. Xie T. Hu H. T. Sun G. Q. Xin G. K. Wang S. M. George J. Lian Chem. Commun. 2014 50 10703 10706
-
(2014)
Chem. Commun.
, vol.50
, pp. 10703-10706
-
-
Sun, X.1
Zhou, C.G.2
Xie, M.3
Hu, T.4
Sun, H.T.5
Xin, G.Q.6
Wang, G.K.7
George, S.M.8
Lian, J.9
-
95
-
-
84948739704
-
-
J. Liu M. N. Banis B. Xiao Q. Sun A. Lushington R. Li J. Guo T.-K. Sham X. Sun J. Mater. Chem. A 2015 3 24281 24288
-
(2015)
J. Mater. Chem. A
, vol.3
, pp. 24281-24288
-
-
Liu, J.1
Banis, M.N.2
Xiao, B.3
Sun, Q.4
Lushington, A.5
Li, R.6
Guo, J.7
Sham, T.-K.8
Sun, X.9
-
106
-
-
84878656883
-
-
S. Sun G. Zhang N. Gauquelin N. Chen J. Zhou S. Yang W. Chen X. Meng D. Geng M. N. Banis R. Li S. Ye S. Knights G. A. Botton T.-K. Sham X. Sun Sci. Rep. 2013 3 1775
-
(2013)
Sci. Rep.
, vol.3
, pp. 1775
-
-
Sun, S.1
Zhang, G.2
Gauquelin, N.3
Chen, N.4
Zhou, J.5
Yang, S.6
Chen, W.7
Meng, X.8
Geng, D.9
Banis, M.N.10
Li, R.11
Ye, S.12
Knights, S.13
Botton, G.A.14
Sham, T.-K.15
Sun, X.16
-
110
-
-
84887517748
-
-
E. Sairanen M. C. Figueiredo R. Karinen A. Santasalo-Aarnio H. Jiang J. Sainio T. Kallio J. Lehtonen Appl. Catal., B 2014 148-149 11 21
-
(2014)
Appl. Catal., B
, vol.148-149
, pp. 11-21
-
-
Sairanen, E.1
Figueiredo, M.C.2
Karinen, R.3
Santasalo-Aarnio, A.4
Jiang, H.5
Sainio, J.6
Kallio, T.7
Lehtonen, J.8
-
111
-
-
84881477895
-
-
M. Cargnello V. V. T. Doan-Nguyen T. R. Gordon R. E. Diaz E. A. Stach R. J. Gorte P. Fornasiero C. B. Murray Science 2013 341 771 773
-
(2013)
Science
, vol.341
, pp. 771-773
-
-
Cargnello, M.1
Doan-Nguyen, V.V.T.2
Gordon, T.R.3
Diaz, R.E.4
Stach, E.A.5
Gorte, R.J.6
Fornasiero, P.7
Murray, C.B.8
-
112
-
-
84928975102
-
-
N. Cheng M. Norouzi Banis J. Liu A. Riese S. Mu R. Li T.-K. Sham X. Sun Energy Environ. Sci. 2015 8 1450 1455
-
(2015)
Energy Environ. Sci.
, vol.8
, pp. 1450-1455
-
-
Cheng, N.1
Norouzi Banis, M.2
Liu, J.3
Riese, A.4
Mu, S.5
Li, R.6
Sham, T.-K.7
Sun, X.8
-
116
-
-
84958231583
-
-
X. Tian J. Luo H. Nan H. Zou R. Chen T. Shu X. Li Y. Li H. Song S. Liao R. R. Adzic J. Am. Chem. Soc. 2016 138 1575 1583
-
(2016)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.138
, pp. 1575-1583
-
-
Tian, X.1
Luo, J.2
Nan, H.3
Zou, H.4
Chen, R.5
Shu, T.6
Li, X.7
Li, Y.8
Song, H.9
Liao, S.10
Adzic, R.R.11
-
118
-
-
85016047814
-
-
NREL: National Center for Photovoltaics Home, (accessed March 22, 2016)
-
NREL: National Center for Photovoltaics Home Page, http://www.nrel.gov/ncpv/, (accessed March 22, 2016)
-
-
-
-
132
-
-
77956758367
-
-
N. Naghavi D. Abou-Ras N. Allsop N. Barreau S. Bücheler A. Ennaoui C. H. Fischer C. Guillen D. Hariskos J. Herrero R. Klenk K. Kushiya D. Lincot R. Menner T. Nakada C. Platzer-Björkman S. Spiering A. N. Tiwari T. Törndahl Prog. Photovoltaics 2010 18 411 433
-
(2010)
Prog. Photovoltaics
, vol.18
, pp. 411-433
-
-
Naghavi, N.1
Abou-Ras, D.2
Allsop, N.3
Barreau, N.4
Bücheler, S.5
Ennaoui, A.6
Fischer, C.H.7
Guillen, C.8
Hariskos, D.9
Herrero, J.10
Klenk, R.11
Kushiya, K.12
Lincot, D.13
Menner, R.14
Nakada, T.15
Platzer-Björkman, C.16
Spiering, S.17
Tiwari, A.N.18
Törndahl, T.19
-
134
-
-
85015982763
-
-
New Orleans, LA
-
C. Bugot, C. Broussillou, A. Sorba, L. Parissi, N. Schneider, D. Lincot and F. Donsanti, 2015 IEEE 42nd Photovoltaic Specialist Conference (PVSC), New Orleans, LA, 2015, pp. 1-6
-
(2015)
2015 IEEE 42nd Photovoltaic Specialist Conference (PVSC)
, pp. 1-6
-
-
Bugot, C.1
Broussillou, C.2
Sorba, A.3
Parissi, L.4
Schneider, N.5
Lincot, D.6
Donsanti, F.7
-
135
-
-
84950335843
-
-
C. Platzer-Björkman C. Frisk J. K. Larsen T. Ericson S.-Y. Li J. J. S. Scragg J. Keller F. Larsson T. Törndahl Appl. Phys. Lett. 2015 107 243904
-
(2015)
Appl. Phys. Lett.
, vol.107
, pp. 243904
-
-
Platzer-Björkman, C.1
Frisk, C.2
Larsen, J.K.3
Ericson, T.4
Li, S.-Y.5
Scragg, J.J.S.6
Keller, J.7
Larsson, F.8
Törndahl, T.9
-
139
-
-
74549179277
-
-
J.-C. Wang W.-T. Weng M.-Y. Tsai M.-K. Lee S.-F. Horng T.-P. Perng C.-C. Kei C.-C. Yu H.-F. Meng J. Mater. Chem. 2010 20 862 866
-
(2010)
J. Mater. Chem.
, vol.20
, pp. 862-866
-
-
Wang, J.-C.1
Weng, W.-T.2
Tsai, M.-Y.3
Lee, M.-K.4
Horng, S.-F.5
Perng, T.-P.6
Kei, C.-C.7
Yu, C.-C.8
Meng, H.-F.9
-
140
-
-
84938399193
-
-
M. Vasilopoulou D. G. Georgiadou A. Soultati N. Boukos S. Gardelis L. C. Palilis M. Fakis G. Skoulatakis S. Kennou M. Botzakaki S. Georga C. A. Krontiras F. Auras D. Fattakhova-Rohlfing T. Bein T. A. Papadopoulos D. Davazoglou P. Argitis Adv. Energy Mater. 2014 4 1400214
-
(2014)
Adv. Energy Mater.
, vol.4
, pp. 1400214
-
-
Vasilopoulou, M.1
Georgiadou, D.G.2
Soultati, A.3
Boukos, N.4
Gardelis, S.5
Palilis, L.C.6
Fakis, M.7
Skoulatakis, G.8
Kennou, S.9
Botzakaki, M.10
Georga, S.11
Krontiras, C.A.12
Auras, F.13
Fattakhova-Rohlfing, D.14
Bein, T.15
Papadopoulos, T.A.16
Davazoglou, D.17
Argitis, P.18
-
142
-
-
84940504701
-
-
G. Zhang Y. Wu H. Ding Y. Zhu J. Li Y. Lin S. Jiang Q. Zhang N. Pan Y. Luo X. Wang RSC Adv. 2015 5 71883 71889
-
(2015)
RSC Adv.
, vol.5
, pp. 71883-71889
-
-
Zhang, G.1
Wu, Y.2
Ding, H.3
Zhu, Y.4
Li, J.5
Lin, Y.6
Jiang, S.7
Zhang, Q.8
Pan, N.9
Luo, Y.10
Wang, X.11
-
145
-
-
84908030817
-
-
B. Vermang J. T. Wätjen V. Fjällström F. Rostvall M. Edoff R. Kotipalli F. Henry D. Flandre Prog. Photovoltaics 2014 22 1023 1029
-
(2014)
Prog. Photovoltaics
, vol.22
, pp. 1023-1029
-
-
Vermang, B.1
Wätjen, J.T.2
Fjällström, V.3
Rostvall, F.4
Edoff, M.5
Kotipalli, R.6
Henry, F.7
Flandre, D.8
-
146
-
-
84936984446
-
-
J. Liang Q. Lin H. Li Y. Su X. Yang Z. Wu J. Zheng X. Wang Y. Lin F. Pan Appl. Phys. Lett. 2015 107 013907
-
(2015)
Appl. Phys. Lett.
, vol.107
, pp. 013907
-
-
Liang, J.1
Lin, Q.2
Li, H.3
Su, Y.4
Yang, X.5
Wu, Z.6
Zheng, J.7
Wang, X.8
Lin, Y.9
Pan, F.10
-
153
-
-
84881253515
-
-
H.-J. Son C. Prasittichai J. E. Mondloch L. Luo J. Wu D. W. Kim O. K. Farha J. T. Hupp J. Am. Chem. Soc. 2013 135 11529 11532
-
(2013)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.135
, pp. 11529-11532
-
-
Son, H.-J.1
Prasittichai, C.2
Mondloch, J.E.3
Luo, L.4
Wu, J.5
Kim, D.W.6
Farha, O.K.7
Hupp, J.T.8
-
154
-
-
78650742073
-
-
N. Tétreault E. Horváth T. Moehl J. Brillet R. Smajda S. Bungener N. Cai P. Wang S. M. Zakeeruddin L. Forró A. Magrez M. Grätzel ACS Nano 2010 4 7644 7650
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 7644-7650
-
-
Tétreault, N.1
Horváth, E.2
Moehl, T.3
Brillet, J.4
Smajda, R.5
Bungener, S.6
Cai, N.7
Wang, P.8
Zakeeruddin, S.M.9
Forró, L.10
Magrez, A.11
Grätzel, M.12
-
162
-
-
80755142857
-
-
N. Tétreault É. Arsenault L.-P. Heiniger N. Soheilnia J. Brillet T. Moehl S. Zakeeruddin G. A. Ozin M. Grätzel Nano Lett. 2011 11 4579 4584
-
(2011)
Nano Lett.
, vol.11
, pp. 4579-4584
-
-
Tétreault, N.1
Arsenault, É.2
Heiniger, L.-P.3
Soheilnia, N.4
Brillet, J.5
Moehl, T.6
Zakeeruddin, S.7
Ozin, G.A.8
Grätzel, M.9
-
163
-
-
84875459048
-
-
K. E. Roelofs T. P. Brennan J. C. Dominguez C. D. Bailie G. Y. Margulis E. T. Hoke M. D. McGehee S. F. Bent J. Phys. Chem. C 2013 117 5584 5592
-
(2013)
J. Phys. Chem. C
, vol.117
, pp. 5584-5592
-
-
Roelofs, K.E.1
Brennan, T.P.2
Dominguez, J.C.3
Bailie, C.D.4
Margulis, G.Y.5
Hoke, E.T.6
McGehee, M.D.7
Bent, S.F.8
-
166
-
-
77951886455
-
-
S. K. Sarkar J. Y. Kim D. N. Goldstein N. R. Neale K. Zhu C. M. Elliott A. J. Frank S. M. George J. Phys. Chem. C 2010 114 8032 8039
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 8032-8039
-
-
Sarkar, S.K.1
Kim, J.Y.2
Goldstein, D.N.3
Neale, N.R.4
Zhu, K.5
Elliott, C.M.6
Frank, A.J.7
George, S.M.8
-
174
-
-
84920167983
-
-
B. R. Sutherland S. Hoogland M. M. Adachi P. Kanjanaboos C. T. Wong J. J. McDowell J. Xu O. Voznyy Z. Ning A. J. Houtepen Adv. Mater. 2015 27 53 58
-
(2015)
Adv. Mater.
, vol.27
, pp. 53-58
-
-
Sutherland, B.R.1
Hoogland, S.2
Adachi, M.M.3
Kanjanaboos, P.4
Wong, C.T.5
McDowell, J.J.6
Xu, J.7
Voznyy, O.8
Ning, Z.9
Houtepen, A.J.10
-
177
-
-
84979582260
-
-
H. Hu B. Dong H. Hu F. Chen M. Kong Q. Zhang T. Luo L. Zhao Z. Guo J. Li Z. Xu S. Wang D. Eder L. Wan ACS Appl. Mater. Interfaces 2016 8 17999 18007
-
(2016)
ACS Appl. Mater. Interfaces
, vol.8
, pp. 17999-18007
-
-
Hu, H.1
Dong, B.2
Hu, H.3
Chen, F.4
Kong, M.5
Zhang, Q.6
Luo, T.7
Zhao, L.8
Guo, Z.9
Li, J.10
Xu, Z.11
Wang, S.12
Eder, D.13
Wan, L.14
-
178
-
-
84960364215
-
-
H. Si Q. Liao Z. Zhang Y. Li X. Yang G. Zhang Z. Kang Y. Zhang Nano Energy 2016 22 223 231
-
(2016)
Nano Energy
, vol.22
, pp. 223-231
-
-
Si, H.1
Liao, Q.2
Zhang, Z.3
Li, Y.4
Yang, X.5
Zhang, G.6
Kang, Z.7
Zhang, Y.8
-
179
-
-
84924104898
-
-
H. Wei J. Shi X. Xu J. Xiao J. Luo J. Dong S. Lv L. Zhu H. Wu D. Li Phys. Chem. Chem. Phys. 2015 17 4937 4944
-
(2015)
Phys. Chem. Chem. Phys.
, vol.17
, pp. 4937-4944
-
-
Wei, H.1
Shi, J.2
Xu, X.3
Xiao, J.4
Luo, J.5
Dong, J.6
Lv, S.7
Zhu, L.8
Wu, H.9
Li, D.10
-
182
-
-
84953455690
-
-
S. Albrecht M. Saliba J. P. C. Baena F. Lang L. Kegelmann M. Mews L. Steier A. Abate J. Rappich L. Korte Energy Environ. Sci. 2016 9 81 88
-
(2016)
Energy Environ. Sci.
, vol.9
, pp. 81-88
-
-
Albrecht, S.1
Saliba, M.2
Baena, J.P.C.3
Lang, F.4
Kegelmann, L.5
Mews, M.6
Steier, L.7
Abate, A.8
Rappich, J.9
Korte, L.10
-
186
-
-
0141955860
-
-
J. Ihanus M. Ritala M. Leskelä E. Soininen W. Park A. E. Kaloyeros W. Harris K. W. Barth A. W. Topol T. Sajavaara J. Keinonen J. Appl. Phys. 2003 94 3862 3868
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.94
, pp. 3862-3868
-
-
Ihanus, J.1
Ritala, M.2
Leskelä, M.3
Soininen, E.4
Park, W.5
Kaloyeros, A.E.6
Harris, W.7
Barth, K.W.8
Topol, A.W.9
Sajavaara, T.10
Keinonen, J.11
-
195
-
-
77949456784
-
-
H. C. Chen M. J. Chen M. K. Wu W. C. Li H. L. Tsai J. R. Yang H. Kuan M. Shiojiri IEEE J. Quantum Electron. 2010 46 265 271
-
(2010)
IEEE J. Quantum Electron.
, vol.46
, pp. 265-271
-
-
Chen, H.C.1
Chen, M.J.2
Wu, M.K.3
Li, W.C.4
Tsai, H.L.5
Yang, J.R.6
Kuan, H.7
Shiojiri, M.8
-
196
-
-
80054927952
-
-
H. C. Chen M. J. Chen Y. H. Huang W. C. Sun W. C. Li J. R. Yang H. Kuan M. Shiojiri IEEE Trans. Electron Devices 2011 58 3970 3975
-
(2011)
IEEE Trans. Electron Devices
, vol.58
, pp. 3970-3975
-
-
Chen, H.C.1
Chen, M.J.2
Huang, Y.H.3
Sun, W.C.4
Li, W.C.5
Yang, J.R.6
Kuan, H.7
Shiojiri, M.8
-
197
-
-
84876362199
-
-
T. Wang H. Wu H. Zheng J. B. Wang Z. Wang C. Chen Y. Xu C. Liu Appl. Phys. Lett. 2013 102 141912
-
(2013)
Appl. Phys. Lett.
, vol.102
, pp. 141912
-
-
Wang, T.1
Wu, H.2
Zheng, H.3
Wang, J.B.4
Wang, Z.5
Chen, C.6
Xu, Y.7
Liu, C.8
-
201
-
-
85015993684
-
-
S. Edward S. Fu-Hsiang S. Ying-Tsang T. Hung-Ling C. Ching-Huang W. Mong-Kai Y. Jer-Ren C. Miin-Jang Nanotechnology 2009 20 445202
-
(2009)
Nanotechnology
, vol.20
, pp. 445202
-
-
Edward, S.1
Fu-Hsiang, S.2
Ying-Tsang, S.3
Hung-Ling, T.4
Ching-Huang, C.5
Mong-Kai, W.6
Jer-Ren, Y.7
Miin-Jang, C.8
-
203
-
-
70349690251
-
-
M. K. Wu Y. T. Shih W. C. Li H. C. Chen M. J. Chen H. Kuan J. R. Yang M. Shiojiri IEEE Photonics Technol. Lett. 2008 20 1772 1774
-
(2008)
IEEE Photonics Technol. Lett.
, vol.20
, pp. 1772-1774
-
-
Wu, M.K.1
Shih, Y.T.2
Li, W.C.3
Chen, H.C.4
Chen, M.J.5
Kuan, H.6
Yang, J.R.7
Shiojiri, M.8
-
204
-
-
77956061863
-
-
M. J. Chen Y. T. Shih M. K. Wu H. C. Chen H. L. Tsai W. C. Li J. R. Yang H. Kuan M. Shiojiri IEEE Trans. Electron Devices 2010 57 2195 2202
-
(2010)
IEEE Trans. Electron Devices
, vol.57
, pp. 2195-2202
-
-
Chen, M.J.1
Shih, Y.T.2
Wu, M.K.3
Chen, H.C.4
Tsai, H.L.5
Li, W.C.6
Yang, J.R.7
Kuan, H.8
Shiojiri, M.9
-
209
-
-
84870464955
-
-
K. Y. Yen C. H. Chiu C. W. Li C. H. Chou P. S. Lin T. P. Chen T. Y. Lin J. R. Gong IEEE Photonics Technol. Lett. 2012 24 2105 2108
-
(2012)
IEEE Photonics Technol. Lett.
, vol.24
, pp. 2105-2108
-
-
Yen, K.Y.1
Chiu, C.H.2
Li, C.W.3
Chou, C.H.4
Lin, P.S.5
Chen, T.P.6
Lin, T.Y.7
Gong, J.R.8
-
210
-
-
84888342936
-
-
K.-Y. Yen C.-H. Chiu C.-Y. Hsiao C.-W. Li C.-H. Chou K.-Y. Lo T.-P. Chen C.-H. Lin T.-Y. Lin J.-R. Gong J. Cryst. Growth 2014 387 91 95
-
(2014)
J. Cryst. Growth
, vol.387
, pp. 91-95
-
-
Yen, K.-Y.1
Chiu, C.-H.2
Hsiao, C.-Y.3
Li, C.-W.4
Chou, C.-H.5
Lo, K.-Y.6
Chen, T.-P.7
Lin, C.-H.8
Lin, T.-Y.9
Gong, J.-R.10
-
211
-
-
84884820377
-
-
C. Y. Lee C. C. Huang C. L. Liao Y. F. Chang S. F. Chen C. L. Ho J. Z. Liu M. C. Wu IEEE Electron Device Lett. 2013 34 1283 1285
-
(2013)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.34
, pp. 1283-1285
-
-
Lee, C.Y.1
Huang, C.C.2
Liao, C.L.3
Chang, Y.F.4
Chen, S.F.5
Ho, C.L.6
Liu, J.Z.7
Wu, M.C.8
-
218
-
-
45749104253
-
-
Y. Naoi K. Ikeda T. Hama K. Ono R. Choi T. Fukumoto K. Nishino S. Sakai S. M. Lee M. Koike Phys. Status Solidi C 2007 4 2810 2813
-
(2007)
Phys. Status Solidi C
, vol.4
, pp. 2810-2813
-
-
Naoi, Y.1
Ikeda, K.2
Hama, T.3
Ono, K.4
Choi, R.5
Fukumoto, T.6
Nishino, K.7
Sakai, S.8
Lee, S.M.9
Koike, M.10
-
219
-
-
84940862281
-
-
H.-Y. Shih M. Shiojiri C.-H. Chen S.-F. Yu C.-T. Ko J.-R. Yang R.-M. Lin M.-J. Chen Sci. Rep. 2015 5 13671
-
(2015)
Sci. Rep.
, vol.5
, pp. 13671
-
-
Shih, H.-Y.1
Shiojiri, M.2
Chen, C.-H.3
Yu, S.-F.4
Ko, C.-T.5
Yang, J.-R.6
Lin, R.-M.7
Chen, M.-J.8
-
221
-
-
85016034117
-
-
G. Hao Z. Xiong C. Hongjun L. Honggang Z. Peiyuan L. Qinghua H. Shujuan C. Hudong S. Bing W. Shengkai C. Yiping Appl. Phys. Express 2013 6 072103
-
(2013)
Appl. Phys. Express
, vol.6
, pp. 072103
-
-
Hao, G.1
Xiong, Z.2
Hongjun, C.3
Honggang, L.4
Peiyuan, Z.5
Qinghua, L.6
Shujuan, H.7
Hudong, C.8
Bing, S.9
Shengkai, W.10
Yiping, C.11
-
223
-
-
77957727081
-
-
G. Luka P. Stakhira V. Cherpak D. Volynyuk Z. Hotra M. Godlewski E. Guziewicz B. Witkowski W. Paszkowicz A. Kostruba J. Appl. Phys. 2010 108 064518
-
(2010)
J. Appl. Phys.
, vol.108
, pp. 064518
-
-
Luka, G.1
Stakhira, P.2
Cherpak, V.3
Volynyuk, D.4
Hotra, Z.5
Godlewski, M.6
Guziewicz, E.7
Witkowski, B.8
Paszkowicz, W.9
Kostruba, A.10
-
227
-
-
84877332652
-
-
Y.-J. Choi S. C. Gong C.-S. Park H.-S. Lee J. G. Jang H. J. Chang G. Y. Yeom H.-H. Park ACS Appl. Mater. Interfaces 2013 5 3650 3655
-
(2013)
ACS Appl. Mater. Interfaces
, vol.5
, pp. 3650-3655
-
-
Choi, Y.-J.1
Gong, S.C.2
Park, C.-S.3
Lee, H.-S.4
Jang, J.G.5
Chang, H.J.6
Yeom, G.Y.7
Park, H.-H.8
-
228
-
-
84871861887
-
-
S. C. Gong Y.-J. Choi H. Kim C.-S. Park H.-H. Park J. G. Jang H. J. Chang G. Y. Yeom J. Vac. Sci. Technol., A 2013 31 01A101
-
(2013)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.31
, pp. 01A101
-
-
Gong, S.C.1
Choi, Y.-J.2
Kim, H.3
Park, C.-S.4
Park, H.-H.5
Jang, J.G.6
Chang, H.J.7
Yeom, G.Y.8
-
232
-
-
84870667218
-
-
M. Vasilopoulou S. Kennou S. Ladas S. N. Georga M. Botzakaki D. Skarlatos C. A. Krontiras N. A. Stathopoulos P. Argitis L. C. Palilis Org. Electron. 2013 14 312 319
-
(2013)
Org. Electron.
, vol.14
, pp. 312-319
-
-
Vasilopoulou, M.1
Kennou, S.2
Ladas, S.3
Georga, S.N.4
Botzakaki, M.5
Skarlatos, D.6
Krontiras, C.A.7
Stathopoulos, N.A.8
Argitis, P.9
Palilis, L.C.10
-
233
-
-
85016040590
-
-
S. Sunyoung P. Keunhee J. Donggeun K. Hyoungsub C. Heeyeop K. Hyunmin Y. Junsin C. Mann-ho B. Jin-hyo Jpn. J. Appl. Phys. 2007 46 L461 L464
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.46
, pp. L461-L464
-
-
Sunyoung, S.1
Keunhee, P.2
Donggeun, J.3
Hyoungsub, K.4
Heeyeop, C.5
Hyunmin, K.6
Junsin, Y.7
Mann-Ho, C.8
Jin-Hyo, B.9
-
235
-
-
84948168612
-
-
D. Chen J. Liang C. Liu G. Saldanha F. Zhao K. Tong J. Liu Q. Pei Adv. Funct. Mater. 2015 25 7512 7520
-
(2015)
Adv. Funct. Mater.
, vol.25
, pp. 7512-7520
-
-
Chen, D.1
Liang, J.2
Liu, C.3
Saldanha, G.4
Zhao, F.5
Tong, K.6
Liu, J.7
Pei, Q.8
-
236
-
-
85027926357
-
-
R. L. Z. Hoye M. R. Chua K. P. Musselman G. Li M.-L. Lai Z.-K. Tan N. C. Greenham J. L. MacManus-Driscoll R. H. Friend D. Credgington Adv. Mater. 2015 27 1414 1419
-
(2015)
Adv. Mater.
, vol.27
, pp. 1414-1419
-
-
Hoye, R.L.Z.1
Chua, M.R.2
Musselman, K.P.3
Li, G.4
Lai, M.-L.5
Tan, Z.-K.6
Greenham, N.C.7
MacManus-Driscoll, J.L.8
Friend, R.H.9
Credgington, D.10
-
238
-
-
84889780248
-
-
A. Singh H. Klumbies U. Schröder L. Müller-Meskamp M. Geidel M. Knaut C. Hoßbach M. Albert K. Leo T. Mikolajick Appl. Phys. Lett. 2013 103 233302
-
(2013)
Appl. Phys. Lett.
, vol.103
, pp. 233302
-
-
Singh, A.1
Klumbies, H.2
Schröder, U.3
Müller-Meskamp, L.4
Geidel, M.5
Knaut, M.6
Hoßbach, C.7
Albert, M.8
Leo, K.9
Mikolajick, T.10
-
240
-
-
84949725113
-
-
Y.-Q. Yang Y. Duan Y.-H. Duan X. Wang P. Chen D. Yang F.-B. Sun K.-W. Xue Org. Electron. 2014 15 1120 1125
-
(2014)
Org. Electron.
, vol.15
, pp. 1120-1125
-
-
Yang, Y.-Q.1
Duan, Y.2
Duan, Y.-H.3
Wang, X.4
Chen, P.5
Yang, D.6
Sun, F.-B.7
Xue, K.-W.8
-
241
-
-
84950320828
-
-
M. Li D. Gao S. Li Z. Zhou J. Zou H. Tao L. Wang M. Xu J. Peng RSC Adv. 2015 5 104613 104620
-
(2015)
RSC Adv.
, vol.5
, pp. 104613-104620
-
-
Li, M.1
Gao, D.2
Li, S.3
Zhou, Z.4
Zou, J.5
Tao, H.6
Wang, L.7
Xu, M.8
Peng, J.9
-
242
-
-
84947983011
-
-
H. Choi S. Shin H. Jeon Y. Choi J. Kim S. Kim S. C. Chung K. Oh J. Vac. Sci. Technol., A 2016 34 01A121
-
(2016)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.34
, pp. 01A121
-
-
Choi, H.1
Shin, S.2
Jeon, H.3
Choi, Y.4
Kim, J.5
Kim, S.6
Chung, S.C.7
Oh, K.8
-
244
-
-
84928531048
-
-
Y.-S. Tsai A. Chittawanij F.-S. Juang P.-C. Lin L.-A. Hong F.-Y. Tsai M.-H. Tseng C.-C. Wang C.-C. Chen K.-L. Lin S.-H. Chen J. Phys. Chem. Solids 2015 83 135 139
-
(2015)
J. Phys. Chem. Solids
, vol.83
, pp. 135-139
-
-
Tsai, Y.-S.1
Chittawanij, A.2
Juang, F.-S.3
Lin, P.-C.4
Hong, L.-A.5
Tsai, F.-Y.6
Tseng, M.-H.7
Wang, C.-C.8
Chen, C.-C.9
Lin, K.-L.10
Chen, S.-H.11
-
246
-
-
84952361235
-
-
L. H. Kim Y. J. Jeong T. K. An S. Park J. H. Jang S. Nam J. Jang S. H. Kim C. E. Park Phys. Chem. Chem. Phys. 2016 18 1042 1049
-
(2016)
Phys. Chem. Chem. Phys.
, vol.18
, pp. 1042-1049
-
-
Kim, L.H.1
Jeong, Y.J.2
An, T.K.3
Park, S.4
Jang, J.H.5
Nam, S.6
Jang, J.7
Kim, S.H.8
Park, C.E.9
-
247
-
-
67649126473
-
-
J. Meyer D. Schneidenbach T. Winkler S. Hamwi T. Weimann P. Hinze S. Ammermann H.-H. Johannes T. Riedl W. Kowalsky Appl. Phys. Lett. 2009 94 233305
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 233305
-
-
Meyer, J.1
Schneidenbach, D.2
Winkler, T.3
Hamwi, S.4
Weimann, T.5
Hinze, P.6
Ammermann, S.7
Johannes, H.-H.8
Riedl, T.9
Kowalsky, W.10
-
249
-
-
84925739986
-
-
F.-B. Sun Y. Duan Y.-Q. Yang P. Chen Y.-H. Duan X. Wang D. Yang K.-W. Xue Org. Electron. 2014 15 2546 2552
-
(2014)
Org. Electron.
, vol.15
, pp. 2546-2552
-
-
Sun, F.-B.1
Duan, Y.2
Yang, Y.-Q.3
Chen, P.4
Duan, Y.-H.5
Wang, X.6
Yang, D.7
Xue, K.-W.8
-
253
-
-
84903210391
-
-
Y. Duan X. Wang Y.-H. Duan Y.-Q. Yang P. Chen D. Yang F.-B. Sun K.-W. Xue N. Hu J.-W. Hou Org. Electron. 2014 15 1936 1941
-
(2014)
Org. Electron.
, vol.15
, pp. 1936-1941
-
-
Duan, Y.1
Wang, X.2
Duan, Y.-H.3
Yang, Y.-Q.4
Chen, P.5
Yang, D.6
Sun, F.-B.7
Xue, K.-W.8
Hu, N.9
Hou, J.-W.10
-
257
-
-
77951589467
-
-
C. X. Shan J. Y. Zhang B. Yao D. Z. Shen X. W. Fan K. L. Choy J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2009 27 1765 1768
-
(2009)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom.
, vol.27
, pp. 1765-1768
-
-
Shan, C.X.1
Zhang, J.Y.2
Yao, B.3
Shen, D.Z.4
Fan, X.W.5
Choy, K.L.6
-
262
-
-
79251558815
-
-
H.-D. Um S. A. Moiz K.-T. Park J.-Y. Jung S.-W. Jee C. H. Ahn D. C. Kim H. K. Cho D.-W. Kim J.-H. Lee Appl. Phys. Lett. 2011 98 033102
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.98
, pp. 033102
-
-
Um, H.-D.1
Moiz, S.A.2
Park, K.-T.3
Jung, J.-Y.4
Jee, S.-W.5
Ahn, C.H.6
Kim, D.C.7
Cho, H.K.8
Kim, D.-W.9
Lee, J.-H.10
-
263
-
-
84905047960
-
-
K. Y. Ko H. Kang J. Kim W. Lee H. S. Lee S. Im J. Y. Kang J.-M. Myoung H.-G. Kim S.-H. Kim H. Kim Mater. Sci. Semicond. Process. 2014 27 297 302
-
(2014)
Mater. Sci. Semicond. Process.
, vol.27
, pp. 297-302
-
-
Ko, K.Y.1
Kang, H.2
Kim, J.3
Lee, W.4
Lee, H.S.5
Im, S.6
Kang, J.Y.7
Myoung, J.-M.8
Kim, H.-G.9
Kim, S.-H.10
Kim, H.11
-
265
-
-
84923229171
-
-
K. Yong Ko H. Kang W. Lee C.-W. Lee J. Park H. S. Lee S. Im H.-G. Kim S.-H. Kim B.-W. Min H. Kim Mater. Sci. Semicond. Process. 2015 33 154 160
-
(2015)
Mater. Sci. Semicond. Process.
, vol.33
, pp. 154-160
-
-
Yong Ko, K.1
Kang, H.2
Lee, W.3
Lee, C.-W.4
Park, J.5
Lee, H.S.6
Im, S.7
Kim, H.-G.8
Kim, S.-H.9
Min, B.-W.10
Kim, H.11
-
266
-
-
84896533659
-
-
K. Y. Ko H. Kang J. Park B.-W. Min H. S. Lee S. Im J. Y. Kang J.-M. Myoung J.-H. Jung S.-H. Kim H. Kim Sens. Actuators, A 2014 210 197 204
-
(2014)
Sens. Actuators, A
, vol.210
, pp. 197-204
-
-
Ko, K.Y.1
Kang, H.2
Park, J.3
Min, B.-W.4
Lee, H.S.5
Im, S.6
Kang, J.Y.7
Myoung, J.-M.8
Jung, J.-H.9
Kim, S.-H.10
Kim, H.11
-
269
-
-
78650720811
-
-
Y.-H. Lin P.-S. Lee Y.-C. Hsueh K.-Y. Pan C.-C. Kei M.-H. Chan J.-M. Wu T.-P. Perng H. C. Shih J. Electrochem. Soc. 2011 158 K24 K27
-
(2011)
J. Electrochem. Soc.
, vol.158
, pp. K24-K27
-
-
Lin, Y.-H.1
Lee, P.-S.2
Hsueh, Y.-C.3
Pan, K.-Y.4
Kei, C.-C.5
Chan, M.-H.6
Wu, J.-M.7
Perng, T.-P.8
Shih, H.C.9
-
275
-
-
84905917273
-
-
W. Xing F. Fang S. Zisheng F. Xuan Z. Guang W. Junbo W. Zhipeng L. Jinhua W. Xiaohua J. Phys. D: Appl. Phys. 2014 47 335104
-
(2014)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.47
, pp. 335104
-
-
Xing, W.1
Fang, F.2
Zisheng, S.3
Xuan, F.4
Guang, Z.5
Junbo, W.6
Zhipeng, W.7
Jinhua, L.8
Xiaohua, W.9
-
279
-
-
84908412749
-
-
A. Haider H. Cansizoglu M. F. Cansizoglu T. Karabacak A. K. Okyay N. Biyikli J. Vac. Sci. Technol., A 2015 33 01A110
-
(2015)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.33
, pp. 01A110
-
-
Haider, A.1
Cansizoglu, H.2
Cansizoglu, M.F.3
Karabacak, T.4
Okyay, A.K.5
Biyikli, N.6
-
289
-
-
80053489423
-
-
Z. G. Shao D. J. Chen B. Liu H. Lu Z. L. Xie R. Zhang Y. D. Zheng J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom. 2011 29 051201
-
(2011)
J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom.
, vol.29
, pp. 051201
-
-
Shao, Z.G.1
Chen, D.J.2
Liu, B.3
Lu, H.4
Xie, Z.L.5
Zhang, R.6
Zheng, Y.D.7
-
291
-
-
84904793426
-
-
O. Salihoglu J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom. 2014 32 051201
-
(2014)
J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom.
, vol.32
, pp. 051201
-
-
Salihoglu, O.1
-
292
-
-
84930659689
-
-
J. Yang M. Shi X. Shao T. Li X. Li N. Tang H. Gong R. Liu H. Tang Z.-J. Qiu Infrared Phys. Technol. 2015 71 272 276
-
(2015)
Infrared Phys. Technol.
, vol.71
, pp. 272-276
-
-
Yang, J.1
Shi, M.2
Shao, X.3
Li, T.4
Li, X.5
Tang, N.6
Gong, H.7
Liu, R.8
Tang, H.9
Qiu, Z.-J.10
-
294
-
-
84952361671
-
-
X. Yu Z. Dong Y. Liu T. Liu J. Tao Y. Zeng J. K. W. Yang Q. J. Wang Nanoscale 2016 8 327 332
-
(2016)
Nanoscale
, vol.8
, pp. 327-332
-
-
Yu, X.1
Dong, Z.2
Liu, Y.3
Liu, T.4
Tao, J.5
Zeng, Y.6
Yang, J.K.W.7
Wang, Q.J.8
-
296
-
-
85027938720
-
-
J. Miao W. Hu Y. Jing W. Luo L. Liao A. Pan S. Wu J. Cheng X. Chen W. Lu Small 2015 11 2392 2398
-
(2015)
Small
, vol.11
, pp. 2392-2398
-
-
Miao, J.1
Hu, W.2
Jing, Y.3
Luo, W.4
Liao, L.5
Pan, A.6
Wu, S.7
Cheng, J.8
Chen, X.9
Lu, W.10
|