Vapor-Phase Atomic Layer Deposition of Co9S8 and Its Application for Supercapacitors

Nano Letters

Volumn 15, Issue 10, 2015, Pages 6689-6695

  Li, Hao ^a   Gao, Yuanhong ^a   Shao, Youdong ^a   Su, Yantao ^a   Wang, Xinwei ^a  

^a PEKING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Atomic layer deposition; Co9S8; cobalt sulfide; supercapacitor

Indexed keywords

ASPECT RATIO; ATOMS; CAPACITORS; COBALT; DEPOSITION; ELECTROCHEMICAL ELECTRODES; ELECTRODES; ELECTROLYTIC CAPACITORS; LITHIUM COMPOUNDS; THIN FILMS; VAPOR DEPOSITION;

3-D NANOSTRUCTURES; DEPOSITION PROCESS; ELECTROCHEMICAL DEVICES; ELECTROCHEMICAL PERFORMANCE; HIGH ASPECT RATIO; HIGH SPECIFIC CAPACITANCES; SUPER CAPACITOR; SUPERCAPACITOR ELECTRODES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84944312025     PISSN: 15306984     EISSN: 15306992     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/acs.nanolett.5b02508     Document Type: Article

References (36)

1. Gao, M. R.; Xu, Y. F.; Jiang, J.; Yu, S. H. Chem. Soc. Rev. 2013, 42 (7) 2986-3017 10.1039/c2cs35310e
2. Xu, J.; Wang, Q.; Wang, X.; Xiang, Q.; Liang, B.; Chen, D.; Shen, G. ACS Nano 2013, 7 (6) 5453-5462 10.1021/nn401450s
3. Rakhi, R. B.; Alhebshi, N. A.; Anjum, D. H.; Alshareef, H. N. J. Mater. Chem. A 2014, 2 (38) 16190-16198 10.1039/C4TA03341H
4. Zhou, Y.; Yan, D.; Xu, H.; Feng, J.; Jiang, X.; Yue, J.; Yang, J.; Qian, Y. Nano Energy 2015, 12, 528-537 10.1016/j.nanoen.2015.01.019
5. Feng, L. L.; Li, G. D.; Liu, Y.; Wu, Y.; Chen, H.; Wang, Y.; Zou, Y. C.; Wang, D.; Zou, X. ACS Appl. Mater. Interfaces 2015, 7 (1) 980-8 10.1021/am507811a
6. Ganesan, P.; Prabu, M.; Sanetuntikul, J.; Shanmugam, S. ACS Catal. 2015, 5 (6) 3625-3637 10.1021/acscatal.5b00154
7. Sidik, R. A.; Anderson, A. B. J. Phys. Chem. B 2006, 110 (2) 936-941 10.1021/jp054487f
8. Chang, S.-H.; Lu, M.-D.; Tung, Y.-L.; Tuan, H.-Y. ACS Nano 2013, 7 (10) 9443-9451 10.1021/nn404272j
9. Rui, X.; Tan, H.; Yan, Q. Nanoscale 2014, 6 (17) 9889-9924 10.1039/C4NR03057E
10. Zhang, X.; Liu, Q.; Meng, L.; Wang, H.; Bi, W.; Peng, Y.; Yao, T.; Wei, S.; Xie, Y. ACS Nano 2013, 7 (2) 1682-1688 10.1021/nn3056719
11. Chen, C.; Ye, M.; Zhang, N.; Wen, X.; Zheng, D.; Lin, C. J. Mater. Chem. A 2015, 3 (12) 6311-6314 10.1039/C4TA06987K
12. Ko, Y. N.; Choi, S. H.; Park, S. B.; Kang, Y. C. Chem.-Asian J. 2014, 9 (2) 572-576 10.1002/asia.201301209
13. Zhou, Y.; Yan, D.; Xu, H.; Liu, S.; Yang, J.; Qian, Y. Nanoscale 2015, 7 (8) 3520-5 10.1039/C4NR07143C
14. Su, Q.; Du, G.; Zhang, J.; Zhong, Y.; Xu, B.; Yang, Y.; Neupane, S.; Li, W. ACS Nano 2014, 8 (4) 3620-3627 10.1021/nn500194q
15. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110 (1) 111-131 10.1021/cr900056b
16. Johnson, R. W.; Hultqvist, A.; Bent, S. F. Mater. Today 2014, 17 (5) 236-246 10.1016/j.mattod.2014.04.026
17. Canlas, C. P.; Lu, J.; Ray, N. A.; Grosso-Giordano, N. A.; Lee, S.; Elam, J. W.; Winans, R. E.; Van Duyne, R. P.; Stair, P. C.; Notestein, J. M. Nat. Chem. 2012, 4 (12) 1030-1036 10.1038/nchem.1477
18. Lu, J.; Fu, B.; Kung, M. C.; Xiao, G.; Elam, J. W.; Kung, H. H.; Stair, P. C. Science 2012, 335 (6073) 1205-8 10.1126/science.1212906
19. Viswanathan, V.; Pickrahn, K. L.; Luntz, A. C.; Bent, S. F.; Norskov, J. K. Nano Lett. 2014, 14 (10) 5853-5857 10.1021/nl502775u
20. Wang, H.; Lu, Z.; Xu, S.; Kong, D.; Cha, J. J.; Zheng, G.; Hsu, P. C.; Yan, K.; Bradshaw, D.; Prinz, F. B.; Cui, Y. Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2013, 110 (49) 19701-6 10.1073/pnas.1316792110
21. Dasgupta, N. P.; Liu, C.; Andrews, S.; Prinz, F. B.; Yang, P. J. Am. Chem. Soc. 2013, 135 (35) 12932-5 10.1021/ja405680p
22. Paracchino, A.; Laporte, V.; Sivula, K.; Grätzel, M.; Thimsen, E. Nat. Mater. 2011, 10 (6) 456-461 10.1038/nmat3017
23. Zhong, M.; Hisatomi, T.; Kuang, Y.; Zhao, J.; Liu, M.; Iwase, A.; Jia, Q.; Nishiyama, H.; Minegishi, T.; Nakabayashi, M.; Shibata, N.; Niishiro, R.; Katayama, C.; Shibano, H.; Katayama, M.; Kudo, A.; Yamada, T.; Domen, K. J. Am. Chem. Soc. 2015, 137 (15) 5053-60 10.1021/jacs.5b00256
24. Mayer, M. T.; Du, C.; Wang, D. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134 (30) 12406-12409 10.1021/ja3051734
25. Savin, H.; Repo, P.; von Gastrow, G.; Ortega, P.; Calle, E.; Garín, M.; Alcubilla, R. Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 624-628 10.1038/nnano.2015.89
26. Guan, C.; Wang, X.; Zhang, Q.; Fan, Z.; Zhang, H.; Fan, H. J. Nano Lett. 2014, 14 (8) 4852-8 10.1021/nl502192p
27. Han, X.; Liu, Y.; Jia, Z.; Chen, Y. C.; Wan, J.; Weadock, N.; Gaskell, K. J.; Li, T.; Hu, L. Nano Lett. 2014, 14 (1) 139-47 10.1021/nl4035626
28. Scott, I. D.; Jung, Y. S.; Cavanagh, A. S.; Yan, Y.; Dillon, A. C.; George, S. M.; Lee, S. H. Nano Lett. 2011, 11 (2) 414-8 10.1021/nl1030198
29. Meng, X.; He, K.; Su, D.; Zhang, X.; Sun, C.; Ren, Y.; Wang, H.-H.; Weng, W.; Trahey, L.; Canlas, C. P.; Elam, J. W. Adv. Funct. Mater. 2014, 24 (34) 5435-5442 10.1002/adfm.201401002
30. Pickrahn, K. L.; Garg, A.; Bent, S. F. ACS Catal. 2015, 5 (3) 1609-1616 10.1021/cs501532b
31. Miikkulainen, V.; Leskela, M.; Ritala, M.; Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2013, 113 (2) 021301 10.1063/1.4757907
32. Dasgupta, N. P.; Meng, X.; Elam, J. W.; Martinson, A. B. F. Acc. Chem. Res. 2015, 48 (2) 341-348 10.1021/ar500360d
33. Wang, X.; Gordon, R. G. ECS J. Solid State Sci. Technol. 2013, 2 (3) N41-N44 10.1149/2.003303jss
34. Rossnagel, S. M.; Kuan, T. S. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Process. Phenom. 2004, 22 (1) 240-247 10.1116/1.1642639
35. Kumar, N.; Raman, N.; Sundaresan, A. Z. Anorg. Allg. Chem. 2014, 640 (6) 1069-1074 10.1002/zaac.201300649
36. Gordon, R. G.; Hausmann, D.; Kim, E.; Shepard, J. Chem. Vap. Deposition 2003, 9 (2) 73-78 10.1002/cvde.200390005