Atomic layer deposition of TiO2 on aerogel templates: New photoanodes for dye-sensitized solar cells

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 27, 2008, Pages 10303-10307

  Hamann, Thomas W ^a   Martinson, Alex B F ^a,b   Elam, Jeffrey W ^b   Pellin, Michael J ^a,b   Hupp, Joseph T ^a  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITIONS; CONDUCTIVE GLASS; HIGH SURFACE AREA; MESOPOROUS AEROGELS;

AEROGELS; ATOMIC PHYSICS; ATOMS; CERAMIC MATERIALS; COLLOIDS; CONDUCTIVE FILMS; PULSED LASER DEPOSITION;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 48249125101     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp802216p     Document Type: Article

References (28)

1. Gratzel, M. Inorg. Chem. 2005, 44, 6841-6851.
2. Nazeeruddin, M. K.; De Angelis, F.; Fantacci, S.; Selloni, A.; Viscardi, G.; Liska, P.; Ito, S.; Takeru, B.; Gratzel, M. G. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 16835-16847.
3. Kroon, J. M.; Bakker, N. J.; Smit, H. J. P.; Liska, P.; Thampi, K. R.; Wang, P.; Zakeeruddin, S. M.; Gratzel, M.; Hinsch, A.; Hore, S.; Würfel, U.; Sastrawan, R.; Durrant. J. R.; Palomares, E.; Pettersson, H.; Gruszecki, T.; Walter, J.; Skupien, K.; Tulloch, G. E. Prog. Photovoltaics 2007, 75, 1-18.
4. Peter, L. M. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 6601-6612.
5. Law, M.; Greene, L. E.; Johnson, J. C.; Saykally, R.; Yang, P. D. Nat. Mater. 2005, 4, 455-459.
6. Martinson, A. B. F.; Elam, J. W.; Hupp, J. T.; Pellin, M. J. Nano Lett. 2007, 7, 2183-2187.
7. Martinson, A. B. F.; McGarrah, J. E.; Parpia, M. O. K.; Hupp, J. T. Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 4655-4659.
8. Galoppini, E.; Rochford, J.; Chen, H. H.; Saraf, G.; Lu, Y. C.; Hagfeldt, A.; Boschloo, G. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 16159-16161.
9. Quintana, M.; Edvinsson, T.; Hagfeldt, A.; Boschloo, G. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 1035-1041.
10. Zhu, K.; Neale, N. R.; Miedaner, A. Frank, A. J. Nano Lett. 2007, 7, 69-74.
11. Shankar, K.; Mor, G. K.; Prakasam, H. E.; Yoriya, S.; Paulose, M.; Varghese, O. K.; Grimes, C. A. Nanotechnology, 2007, 18, 065707.
12. Akimov, Y. K. Instrum. Exp. Tech. 2003, 46, 287-299.
13. Fricke, J.; Tillotson, T. Thin Solid Films 1997, 297, 212-223.
14. Elam, J. W.; Xiong, G.; Han, C. Y.; Wang, H. H.; Birrell, J. P.; Welp, U.; Hryn, J. N.; Pellin, M. J.; Baumann, T. F.; Poco, J. F.; Satcher, J. J. H. J. Nanomater. 2006, 2006, 1.
15. Elam, J. W.; Libera, J. A.; Pellin, M. J.; Zinovev, A. V.; Greene, J. P.; Nolen, J. A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89.
16. Kucheyev, S. O.; Biener, J.; Wang, Y. M.; Baumann, T. F.; Wu, K. J.; van Buuren, T.; Hamza, A. V.; Satcher, J. H.; Elam, J. W.; Pellin, M. J. Appl. Phys. Lett. 2005, 86.
17. Ritala, M.; Leskela, M. Handbook of Thin Film Materials; Academic Press: San Diego, CA, 2001; Vol. 1.
18. Tan, B.; Toman, E.; Li, Y. G.; Wu, Y. Y. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 4162-1163.
19. Hamann, T. W.; Martinson, A. B. F.; Elam, J. W.; Pellin, M. J.; Hupp, J. T. Adv. Mater. 2008, 20, 1560-1564.
20. Akimov, Y. K. Instrum. Exp. Tech. 2003, 46, 287-299.
21. Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Surf. Sci. 2000, 161, 385-395.
22. Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Vapor Depos. 2002, 8, 21-28.
23. Xie, Q.; Jiang, Y. L.; Detavernier, C.; Deduytsche, D.; Van Meirhaeghe, R. L.; Ru, G. P.; Li, B. Z.; Qu, X. P. J. Appl. Phys. 2007, 102.
24. Toshiaki Ohsaka, F. I. Y. F. J. Raman Spectrosc. 1978, 7, 321-324.
25. Husing, N.; Schubert, U. Angew. Chem., Int. Ed. 1998, 37, 23-45.
26. Brunauer, S.; Emmett, P. H.; Teller, E. J. Am. Chem. Soc. 1938, 60, 309-319.
27. 13) = 1000
28. Law, M.; Greene, L. E.; Radenovic, A.; Kuykendall, T.; Liphardt, J.; Yang, P. D. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 22652-22663.