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Nanoscale

Volumn 6, Issue 19, 2014, Pages 10941-10960

The use of atomic layer deposition in advanced nanopatterning

(3) Mackus, A J M a Bol, A A a Kessels, W M M a

a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY (Netherlands)

Author keywords

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ATOMS; BLOCK COPOLYMERS; ETCHING; MICROELECTRONICS; THIN FILMS;

ATOMIC LEVEL CONTROL; BLOCK COPOLYMER LITHOGRAPHY; CONVENTIONAL METHODS; DOUBLE PATTERNING; ENABLING TECHNOLOGIES; NANOPATTERNING; PATTERNED FILMS; SELF ALIGNED FABRICATION;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84907146884 PISSN: 20403364 EISSN: 20403372 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c4nr01954g Document Type: Review

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- E. Färm M. Kemell M. Ritala M. Leskelä Thin Solid Films 2008 517 972
- (2008) Thin Solid Films , vol.517 , pp. 972
- Färm, E.¹ Kemell, M.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

65
- 0035839824
- M. Yan Y. Koide J. R. Babcock P. R. Markworth J. A. Belot T. J. Marks R. P. H. Chang Appl. Phys. Lett. 2001 79 1709
- (2001) Appl. Phys. Lett. , vol.79 , pp. 1709
- Yan, M.¹ Koide, Y.² Babcock, J.R.³ Markworth, P.R.⁴ Belot, J.A.⁵ Marks, T.J.⁶ Chang, R.P.H.⁷

66
- 84901298406
- F. S. M. Hashemi C. Prasittichai S. F. Bent J. Phys. Chem. C 2014 118 10957
- (2014) J. Phys. Chem. C , vol.118 , pp. 10957
- Hashemi, F.S.M.¹ Prasittichai, C.² Bent, S.F.³

67
- 68049139055
- W. Lee F. B. Prinz J. Electrochem. Soc. 2009 156 G125
- (2009) J. Electrochem. Soc. , vol.156 , pp. 125
- Lee, W.¹ Prinz, F.B.²

68
- 0347760141
- J. P. Lee M. M. Sung J. Am. Chem. Soc. 2004 126 28
- (2004) J. Am. Chem. Soc. , vol.126 , pp. 28
- Lee, J.P.¹ Sung, M.M.²

69
- 58049209881
- J. Liu Y. Mao E. Lan D. Rey Banatao G. J. Forse J. Lu H.-O. Blom T. O. Yeates B. Dunn J. P. Chang J. Am. Chem. Soc. 2008 130 16908
- (2008) J. Am. Chem. Soc. , vol.130 , pp. 16908
- Liu, J.¹ Mao, Y.² Lan, E.³ Rey Banatao, D.⁴ Forse, G.J.⁵ Lu, J.⁶ Blom, H.-O.⁷ Yeates, T.O.⁸ Dunn, B.⁹ Chang, J.P.¹⁰

70
- 33646543320
- R. Chen S. F. Bent Adv. Mater. 2006 18 1086
- (2006) Adv. Mater. , vol.18 , pp. 1086
- Chen, R.¹ Bent, S.F.²

71
- 77951683045
- W. Lee N. P. Dasgupta O. Trejo J.-R. Lee J. Hwang T. Usui F. B. Prinz Langmuir 2010 26 6845
- (2010) Langmuir , vol.26 , pp. 6845
- Lee, W.¹ Dasgupta, N.P.² Trejo, O.³ Lee, J.-R.⁴ Hwang, J.⁵ Usui, T.⁶ Prinz, F.B.⁷

72
- 72249088616
- H.-B.-R. Lee W.-H. Kim J. W. Lee J.-M. Kim K. Heo I. C. Hwang Y. Park S. Hong H. Kim J. Electrochem. Soc. 2010 157 D10
- (2010) J. Electrochem. Soc. , vol.157 , pp. 10
- Lee, H.-B.-R.¹ Kim, W.-H.² Lee, J.W.³ Kim, J.-M.⁴ Heo, K.⁵ Hwang, I.C.⁶ Park, Y.⁷ Hong, S.⁸ Kim, H.⁹

73
- 79951966665
- W.-H. Kim H.-B.-R. Lee K. Heo Y. K. Lee T.-M. Chung C. G. Kim S. Hong J. Heo H. Kim J. Electrochem. Soc. 2011 158 D1
- (2011) J. Electrochem. Soc. , vol.158 , pp. 1
- Kim, W.-H.¹ Lee, H.-B.-R.² Heo, K.³ Lee, Y.K.⁴ Chung, T.-M.⁵ Kim, C.G.⁶ Hong, S.⁷ Heo, J.⁸ Kim, H.⁹

74
- 18644382518
- K. J. Park J. M. Doub T. Gougousi G. N. Parsons Appl. Phys. Lett. 2005 86 051903
- (2005) Appl. Phys. Lett. , vol.86 , pp. 051903
- Park, K.J.¹ Doub, J.M.² Gougousi, T.³ Parsons, G.N.⁴

75
- 33845616203
- E. Färm M. Kemell M. Ritala M. Leskelä Chem. Vap. Deposition 2006 12 415
- (2006) Chem. Vap. Deposition , vol.12 , pp. 415
- Färm, E.¹ Kemell, M.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

76
- 84862744106
- E. Färm M. Vehkamäki M. Ritala M. Leskelä Semicond. Sci. Technol. 2012 27 074004
- (2012) Semicond. Sci. Technol. , vol.27 , pp. 074004
- Färm, E.¹ Vehkamäki, M.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

77
- 35548989676
- X. Jiang S. F. Bent J. Electrochem. Soc. 2007 154 D648
- (2007) J. Electrochem. Soc. , vol.154 , pp. 648
- Jiang, X.¹ Bent, S.F.²

78
- 84891375141
- C. Prasittichai H. Zhou S. F. Bent ACS Appl. Mater. Interfaces 2013 5 13391
- (2013) ACS Appl. Mater. Interfaces , vol.5 , pp. 13391
- Prasittichai, C.¹ Zhou, H.² Bent, S.F.³

79
- 77954857515
- H.-B.-R. Lee J. Kim H. Kim W.-H. Kim J. W. Lee I. Hwang J. Korean Phys. Soc. 2010 56 104
- (2010) J. Korean Phys. Soc. , vol.56 , pp. 104
- Lee, H.-B.-R.¹ Kim, J.² Kim, H.³ Kim, W.-H.⁴ Lee, J.W.⁵ Hwang, I.⁶

80
- 2942523964
- R. Chen H. Kim P. C. McIntyre S. F. Bent Appl. Phys. Lett. 2004 84 4017
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 4017
- Chen, R.¹ Kim, H.² McIntyre, P.C.³ Bent, S.F.⁴

81
- 13444293270
- R. Chen H. Kim P. C. Mcintyre S. F. Bent Chem. Mater. 2005 17 536
- (2005) Chem. Mater. , vol.17 , pp. 536
- Chen, R.¹ Kim, H.² McIntyre, P.C.³ Bent, S.F.⁴

82
- 33748270709
- R. Chen S. F. Bent Chem. Mater. 2006 18 3733
- (2006) Chem. Mater. , vol.18 , pp. 3733
- Chen, R.¹ Bent, S.F.²

83
- 0345308329
- J. P. Lee Y. J. Jang M. M. Sung Adv. Funct. Mater. 2003 13 873
- (2003) Adv. Funct. Mater. , vol.13 , pp. 873
- Lee, J.P.¹ Jang, Y.J.² Sung, M.M.³

84
- 63249132603
- M. Li M. Dai Y. J. Chabal Langmuir 2009 25 1911
- (2009) Langmuir , vol.25 , pp. 1911
- Li, M.¹ Dai, M.² Chabal, Y.J.³

85
- 72449202684
- O. Seitz M. Dai F. S. Aguirre-Tostado R. M. Wallace Y. J. Chabal J. Am. Chem. Soc. 2009 131 18159
- (2009) J. Am. Chem. Soc. , vol.131 , pp. 18159
- Seitz, O.¹ Dai, M.² Aguirre-Tostado, F.S.³ Wallace, R.M.⁴ Chabal, Y.J.⁵

86
- 84885008762
- D. H. Levy C. R. Ellinger S. F. Nelson Appl. Phys. Lett. 2013 103 043505
- (2013) Appl. Phys. Lett. , vol.103 , pp. 043505
- Levy, D.H.¹ Ellinger, C.R.² Nelson, S.F.³

87
- 84855571978
- D. H. Levy S. F. Nelson J. Vac. Sci. Technol., A 2012 30 018501
- (2012) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.30 , pp. 018501
- Levy, D.H.¹ Nelson, S.F.²

88
- 44149092898
- Y. Hua W. P. King C. L. Henderson Microelectron. Eng. 2008 85 934
- (2008) Microelectron. Eng. , vol.85 , pp. 934
- Hua, Y.¹ King, W.P.² Henderson, C.L.³

89
- 84894899032
- M. Coll A. Palau J. Gonzalez-Rosillo J. Gazquez X. Obradors T. Puig Thin Solid Films 2014 553 7
- (2014) Thin Solid Films , vol.553 , pp. 7
- Coll, M.¹ Palau, A.² Gonzalez-Rosillo, J.³ Gazquez, J.⁴ Obradors, X.⁵ Puig, T.⁶

90
- 33746615230
- K. J. Park G. N. Parsons Appl. Phys. Lett. 2006 89 043111
- (2006) Appl. Phys. Lett. , vol.89 , pp. 043111
- Park, K.J.¹ Parsons, G.N.²

91
- 78449275474
- M. N. Mullings H.-B.-R. Lee N. Marchack X. Jiang Z. Chen Y. Gorlin K.-P. Lin S. F. Bent J. Electrochem. Soc. 2010 157 D600
- (2010) J. Electrochem. Soc. , vol.157 , pp. 600
- Mullings, M.N.¹ Lee, H.-B.-R.² Marchack, N.³ Jiang, X.⁴ Chen, Z.⁵ Gorlin, Y.⁶ Lin, K.-P.⁷ Bent, S.F.⁸

92
- 50249143576
- R. H. A. Ras E. Sahramo J. Malm J. Raula M. Karppinen J. Am. Chem. Soc. 2008 130 11252
- (2008) J. Am. Chem. Soc. , vol.130 , pp. 11252
- Ras, R.H.A.¹ Sahramo, E.² Malm, J.³ Raula, J.⁴ Karppinen, M.⁵

93
- 84878119554
- A. J. M. Mackus N. F. W. Thissen J. J. L. Mulders P. H. F. Trompenaars M. A. Verheijen A. A. Bol W. M. M. Kessels J. Phys. Chem. C 2013 117 10788
- (2013) J. Phys. Chem. C , vol.117 , pp. 10788
- Mackus, A.J.M.¹ Thissen, N.F.W.² Mulders, J.J.L.³ Trompenaars, P.H.F.⁴ Verheijen, M.A.⁵ Bol, A.A.⁶ Kessels, W.M.M.⁷

94
- 67650392153
- H. C. M. Knoops A. J. M. Mackus M. E. Donders M. C. M. van de Sanden P. H. L. Notten W. M. M. Kessels Electrochem. Solid-State Lett. 2009 12 G34
- (2009) Electrochem. Solid-State Lett. , vol.12 , pp. 34
- Knoops, H.C.M.¹ Mackus, A.J.M.² Donders, M.E.³ Van De Sanden, M.C.M.⁴ Notten, P.H.L.⁵ Kessels, W.M.M.⁶

95
- 84861391345
- A. J. M. Mackus N. Leick L. Baker W. M. M. Kessels Chem. Mater. 2012 24 1752
- (2012) Chem. Mater. , vol.24 , pp. 1752
- Mackus, A.J.M.¹ Leick, N.² Baker, L.³ Kessels, W.M.M.⁴

96
- 84877749425
- A. J. M. Mackus M. A. Verheijen N. Leick A. A. Bol W. M. M. Kessels Chem. Mater. 2013 25 1905
- (2013) Chem. Mater. , vol.25 , pp. 1905
- Mackus, A.J.M.¹ Verheijen, M.A.² Leick, N.³ Bol, A.A.⁴ Kessels, W.M.M.⁵

97
- 84907141317
- 8,268,532 B2
- A. F. de Jong, J. J. L. Mulders, W. M. M. Kessels and A. J. M. Mackus, U.S. Pat., 8,268,532 B2, September 18 2012
- (2012) U.S. Pat.
- De Jong, A.F.¹ Mulders, J.J.L.² Kessels, W.M.M.³ Mackus, A.J.M.⁴

98
- 84863927942
- A. J. M. Mackus S. A. F. Dielissen J. J. L. Mulders W. M. M. Kessels Nanoscale 2012 4 4477
- (2012) Nanoscale , vol.4 , pp. 4477
- Mackus, A.J.M.¹ Dielissen, S.A.F.² Mulders, J.J.L.³ Kessels, W.M.M.⁴

99
- 33748895082
- A. Botman J. J. L. Mulders R. Weemaes S. Mentink Nanotechnology 2006 17 3779
- (2006) Nanotechnology , vol.17 , pp. 3779
- Botman, A.¹ Mulders, J.J.L.² Weemaes, R.³ Mentink, S.⁴

100
- 65649122635
- J. M. De Teresa R. Córdoba A. Fernández-Pacheco O. Montero P. Strichovanec M. R. Ibarra J. Nanomater. 2009 2009 936863
- (2009) J. Nanomater. , vol.2009 , pp. 936863
- De Teresa, J.M.¹ Córdoba, R.² Fernández-Pacheco, A.³ Montero, O.⁴ Strichovanec, P.⁵ Ibarra, M.R.⁶

101
- 0029310065
- M. Weber H. W. P. Koops M. Rudolph J. Kretz G. Schmidt J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. - Process., Meas., Phenom. 1995 13 1364
- (1995) J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. - Process., Meas., Phenom. , vol.13 , pp. 1364
- Weber, M.¹ Koops, H.W.P.² Rudolph, M.³ Kretz, J.⁴ Schmidt, G.⁵

102
- 84907157420
- P. Martensson J.-O. Carlsson J. Electrochem. Soc. 1998 145 5
- (1998) J. Electrochem. Soc. , vol.145 , pp. 5
- Martensson, P.¹ Carlsson, J.-O.²

103
- 34547376102
- R. Gupta B. G. Willis Appl. Phys. Lett. 2007 90 253102
- (2007) Appl. Phys. Lett. , vol.90 , pp. 253102
- Gupta, R.¹ Willis, B.G.²

104
- 84885135023
- S. McDonnell R. C. Longo O. Seitz J. B. Ballard G. Mordi D. Dick J. H. G. Owen J. N. Randall J. Kim Y. J. Chabal K. Cho R. M. Wallace J. Phys. Chem. C 2013 117 20250
- (2013) J. Phys. Chem. C , vol.117 , pp. 20250
- McDonnell, S.¹ Longo, R.C.² Seitz, O.³ Ballard, J.B.⁴ Mordi, G.⁵ Dick, D.⁶ Owen, J.H.G.⁷ Randall, J.N.⁸ Kim, J.⁹ Chabal, Y.J.¹⁰ Cho, K.¹¹ Wallace, R.M.¹²

105
- 0041916147
- T. Aaltonen A. Rahtu M. Ritala M. Leskelä Electrochem. Solid-State Lett. 2003 6 C130
- (2003) Electrochem. Solid-State Lett. , vol.6 , pp. 130
- Aaltonen, T.¹ Rahtu, A.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

106
- 84886021363
- N. Leick S. Agarwal A. J. M. Mackus S. E. Potts W. M. M. Kessels J. Phys. Chem. C 2013 117 21320
- (2013) J. Phys. Chem. C , vol.117 , pp. 21320
- Leick, N.¹ Agarwal, S.² Mackus, A.J.M.³ Potts, S.E.⁴ Kessels, W.M.M.⁵

107
- 0037943019
- T. Aaltonen P. Alén M. Ritala M. Leskelä Chem. Vap. Deposition 2003 9 45
- (2003) Chem. Vap. Deposition , vol.9 , pp. 45
- Aaltonen, T.¹ Alén, P.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

108
- 84907146371
- R. C. Longo S. McDonnell D. Dick R. M. Wallace Y. J. Chabal J. H. G. Owen J. B. Ballard J. N. Randall K. Cho J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom. 2014 32 03D112
- (2014) J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom. , vol.32 , pp. 03D112
- Longo, R.C.¹ McDonnell, S.² Dick, D.³ Wallace, R.M.⁴ Chabal, Y.J.⁵ Owen, J.H.G.⁶ Ballard, J.B.⁷ Randall, J.N.⁸ Cho, K.⁹

109
- 80053389766
- A. Pirkle J. Chan A. Venugopal D. Hinojos C. W. Magnuson S. McDonnell L. Colombo E. M. Vogel R. S. Ruoff R. M. Wallace Appl. Phys. Lett. 2011 99 122108
- (2011) Appl. Phys. Lett. , vol.99 , pp. 122108
- Pirkle, A.¹ Chan, J.² Venugopal, A.³ Hinojos, D.⁴ Magnuson, C.W.⁵ McDonnell, S.⁶ Colombo, L.⁷ Vogel, E.M.⁸ Ruoff, R.S.⁹ Wallace, R.M.¹⁰

110
- 84855802688
- Y.-C. Lin C.-C. Lu C.-H. Yeh C. Jin K. Suenaga P.-W. Chiu Nano Lett. 2012 12 414
- (2012) Nano Lett. , vol.12 , pp. 414
- Lin, Y.-C.¹ Lu, C.-C.² Yeh, C.-H.³ Jin, C.⁴ Suenaga, K.⁵ Chiu, P.-W.⁶

111
- 0000852701
- W. L. Gladfelter Chem. Mater. 1993 5 1372
- (1993) Chem. Mater. , vol.5 , pp. 1372
- Gladfelter, W.L.¹

112
- 84891752901
- S. K. Selvaraj J. Parulekar C. G. Takoudis J. Vac. Sci. Technol., A 2014 32 010601
- (2014) J. Vac. Sci. Technol., A , vol.32 , pp. 010601
- Selvaraj, S.K.¹ Parulekar, J.² Takoudis, C.G.³

113
- 84864702758
- Q. Tao K. Overhage G. Jursich C. Takoudis Thin Solid Films 2012 520 6752
- (2012) Thin Solid Films , vol.520 , pp. 6752
- Tao, Q.¹ Overhage, K.² Jursich, G.³ Takoudis, C.⁴

114
- 77954732824
- D. B. Farmer Y.-M. Lin P. Avouris Appl. Phys. Lett. 2010 97 013103
- (2010) Appl. Phys. Lett. , vol.97 , pp. 013103
- Farmer, D.B.¹ Lin, Y.-M.² Avouris, P.³

115
- 70450164080
- G. A. Somorjai H. Frei J. Y. Park J. Am. Chem. Soc. 2009 131 16589
- (2009) J. Am. Chem. Soc. , vol.131 , pp. 16589
- Somorjai, G.A.¹ Frei, H.² Park, J.Y.³

116
- 0037436556
- A. T. Bell Science 2003 299 1688
- (2003) Science , vol.299 , pp. 1688
- Bell, A.T.¹

117
- 84861572425
- F. Zaera Catal. Lett. 2012 142 501
- (2012) Catal. Lett. , vol.142 , pp. 501
- Zaera, F.¹

118
- 77950229150
- J. Lu P. C. Stair Angew. Chem. 2010 49 2547
- (2010) Angew. Chem. , vol.49 , pp. 2547
- Lu, J.¹ Stair, P.C.²

119
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- H.-B.-R. Lee M. N. Mullings X. Jiang B. M. Clemens S. F. Bent Chem. Mater. 2012 24 4051
- (2012) Chem. Mater. , vol.24 , pp. 4051
- Lee, H.-B.-R.¹ Mullings, M.N.² Jiang, X.³ Clemens, B.M.⁴ Bent, S.F.⁵

120
- 79957438698
- C. J. Serpell J. Cookson D. Ozkaya P. D. Beer Nat. Chem. 2011 3 478
- (2011) Nat. Chem. , vol.3 , pp. 478
- Serpell, C.J.¹ Cookson, J.² Ozkaya, D.³ Beer, P.D.⁴

121
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- (2008) Nat. Mater. , vol.7 , pp. 333
- Alayoglu, S.¹ Nilekar, A.U.² Mavrikakis, M.³ Eichhorn, B.⁴

122
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- X. Zhao M. Yin L. Ma L. Liang C. Liu J. Liao T. Lu W. Xing Energy Environ. Sci. 2011 4 2736
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- Zhao, X.¹ Yin, M.² Ma, L.³ Liang, L.⁴ Liu, C.⁵ Liao, J.⁶ Lu, T.⁷ Xing, W.⁸

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124
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- M. J. Weber A. J. M. Mackus M. A. Verheijen C. van der Marel W. M. M. Kessels Chem. Mater. 2012 24 2973
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125
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- Lu, J.¹ Low, K.-B.² Lei, Y.³ Libera, J.A.⁴ Nicholls, A.⁵ Stair, P.C.⁶ Elam, J.W.⁷

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128
- 84873690545
- H.-B.-R. Lee S. H. Baeck T. F. Jaramillo S. F. Bent Nano Lett. 2013 13 457
- (2013) Nano Lett. , vol.13 , pp. 457
- Lee, H.-B.-R.¹ Baeck, S.H.² Jaramillo, T.F.³ Bent, S.F.⁴

129
- 33846418347
- R. H. A. Ras M. Kemell J. de Wit M. Ritala G. ten Brinke M. Leskelä O. Ikkala Adv. Mater. 2007 19 102
- (2007) Adv. Mater. , vol.19 , pp. 102
- Ras, R.H.A.¹ Kemell, M.² De Wit, J.³ Ritala, M.⁴ Ten Brinke, G.⁵ Leskelä, M.⁶ Ikkala, O.⁷

130
- 67651093857
- Y. Wang Y. Qin A. Berger E. Yau C. C. He L. B. Zhang U. Gosele M. Knez M. Steinhart Adv. Mater. 2009 21 2763
- (2009) Adv. Mater. , vol.21 , pp. 2763
- Wang, Y.¹ Qin, Y.² Berger, A.³ Yau, E.⁴ He, C.C.⁵ Zhang, L.B.⁶ Gosele, U.⁷ Knez, M.⁸ Steinhart, M.⁹

131
- 79961055811
- A. Andreozzi L. Lamagna G. Seguini M. Fanciulli S. Schamm-Chardon C. Castro M. Perego Nanotechnology 2011 22 335303
- (2011) Nanotechnology , vol.22 , pp. 335303
- Andreozzi, A.¹ Lamagna, L.² Seguini, G.³ Fanciulli, M.⁴ Schamm-Chardon, S.⁵ Castro, C.⁶ Perego, M.⁷

132
- 84866307424
- F. Li X. Yao Z. Wang W. Xing W. Jin J. Huang Y. Wang Nano Lett. 2012 12 5033
- (2012) Nano Lett. , vol.12 , pp. 5033
- Li, F.¹ Yao, X.² Wang, Z.³ Xing, W.⁴ Jin, W.⁵ Huang, J.⁶ Wang, Y.⁷

133
- 84893840095
- E. Kim Y. Vaynzof A. Sepe S. Guldin M. Scherer P. Cunha S. V. Roth U. Steiner Adv. Funct. Mater. 2014 24 863
- (2014) Adv. Funct. Mater. , vol.24 , pp. 863
- Kim, E.¹ Vaynzof, Y.² Sepe, A.³ Guldin, S.⁴ Scherer, M.⁵ Cunha, P.⁶ Roth, S.V.⁷ Steiner, U.⁸

134
- 84888874929
- J. Yin X. Yao J.-Y. Liou W. Sun Y.-S. Sun Y. Wang ACS Nano 2013 7 9961
- (2013) ACS Nano , vol.7 , pp. 9961
- Yin, J.¹ Yao, X.² Liou, J.-Y.³ Sun, W.⁴ Sun, Y.-S.⁵ Wang, Y.⁶

135
- 84873436013
- S. J. Ku G. C. Jo C. H. Bak S. M. Kim Y. R. Shin K. H. Kim S. H. Kwon J.-B. Kim Nanotechnology 2013 24 085301
- (2013) Nanotechnology , vol.24 , pp. 085301
- Ku, S.J.¹ Jo, G.C.² Bak, C.H.³ Kim, S.M.⁴ Shin, Y.R.⁵ Kim, K.H.⁶ Kwon, S.H.⁷ Kim, J.-B.⁸

136
- 78649834544
- Q. Peng Y.-C. Tseng S. B. Darling J. W. Elam Adv. Mater. 2010 22 5129
- (2010) Adv. Mater. , vol.22 , pp. 5129
- Peng, Q.¹ Tseng, Y.-C.² Darling, S.B.³ Elam, J.W.⁴

137
- 79959784768
- Q. Peng Y.-C. Tseng S. B. Darling J. W. Elam ACS Nano 2011 5 4600
- (2011) ACS Nano , vol.5 , pp. 4600
- Peng, Q.¹ Tseng, Y.-C.² Darling, S.B.³ Elam, J.W.⁴

138
- 84879518072
- V. Suresh M. S. Huang M. P. Srinivasan S. Krishnamoorthy ACS Appl. Mater. Interfaces 2013 5 5727
- (2013) ACS Appl. Mater. Interfaces , vol.5 , pp. 5727
- Suresh, V.¹ Huang, M.S.² Srinivasan, M.P.³ Krishnamoorthy, S.⁴

139
- 84875852783
- J. Yin Q. Xu Z. Wang X. Yao Y. Wang J. Mater. Chem. C 2013 1 1029
- (2013) J. Mater. Chem. C , vol.1 , pp. 1029
- Yin, J.¹ Xu, Q.² Wang, Z.³ Yao, X.⁴ Wang, Y.⁵

140
- 84872851940
- J. Kamcev D. S. Germack D. Nykypanchuk R. B. Grubbs C.-Y. Nam C. T. Black ACS Nano 2013 7 339
- (2013) ACS Nano , vol.7 , pp. 339
- Kamcev, J.¹ Germack, D.S.² Nykypanchuk, D.³ Grubbs, R.B.⁴ Nam, C.-Y.⁵ Black, C.T.⁶

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.