Degradation of the deposition blocking layer during area-selective plasma-enhanced atomic layer deposition of Cobalt

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 56, Issue 1, 2010, Pages 104-107

  Lee, Han Bo Ram ^a   Kim, Jaemin ^a   Kim, Hyungjun ^a   Kim, Woo Hee ^b   Lee, Jeong Won ^b   Hwang, Inchan ^b  

^a Yonsei University   (South Korea)

^b Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

Area selective deposition; Atomic layer deposition; Cobalt; Self assembled monolayer

Indexed keywords

EID: 77954857515     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.56.104     Document Type: Article

References (23)

1. H. Kim, H. B. R. Lee and W. J. Maeng, Thin Solid Films 517, 2563 (2009).
2. K. J. Park, J. M. Doub, T. Gougousi and G. N. Parsons, Appl. Phys. Lett. 86, 051903 (2005).
3. X. Jiang, Hong Huang, F. B. Prinz and S. F. Bent, Chem. Mater. 20, 3897 (2008).
4. C.-S. Kim, I. W. Jang, K. N. Lee, S. S. Lee, S. H. Park, G. S. Park, G. D. Ban and Y. J. Park, J. Semicon. Tech. Sci. 2, 185 (2002).
5. F.M. Yang, T. C. Chang, P. T. Liu, P. H. Yeh, Y. C. Yu, J. Y. Lin, S. M. Sze and J. C. Lou, Appl. Phys. Lett. 90, 132102 (2007).
6. C-J. Kim, S. W. Ryu, Y. K. Choi, J. J. Chang, S. H. Bae and B. H. Sohn, Appl. Phys. Lett. 93, 052106 (2008).
7. H. B. R. Lee and H. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 9, G323 (2006).
8. H. B. R. Lee, J. Y. Son and H. Kim, Appl. Phys. Lett. 90, 213509 (2007).
9. B. K. Choi, K. H. Park, K. R. Han, Y. M. Kim and J. H. Lee, J. Semicon. Tech. Sci. 7, 76 (2007).
10. J. H. Lee and J. H. Cha, Microelectron. Eng. 71, 321 (2004).
11. H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2231 (2003).
12. H. Kim, C. Cabral, C. Lavoie and S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1321 (2002).
13. H. Kim and S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 802 (2002).
14. W. H. Kim, S. J. Park, J. Y. Son and H. Kim, Nanotechnology 19, 045302 (2008).
15. D. K. Schwartz, Annual Rev. Phys. Chem. 52, 107 (2001).
16. S. Choi, J. Koo, H. Jeon and Y. J. Kim, J. Korean Phys. Soc. 44, 35 (2004).
17. K. E. Elers, J. Winkler, K. Weeks and S. Marcus, J. Electrochem. Soc. 152, G589 (2005).
18. M. Ylilammi, Thin Solid Films 279, 124 (1996).
19. B. S. Lim, A. Rahtu, J. S. Park and R. G. Gordon, Inorg. Chem. 42, 7951 (2003).
20. A. Almenningen, E. Gard, A. Haaland and J. Brunvoll, J. Organomet. Chem. 107, 273 (1976).
21. M. Tatoulian, O. Bouloussa, F. Moriere, F. ArefiKhonsari, J. Amouroux and F. Rondelez, Langmuir 20, 10481 (2004).
22. C. Y. Xue and K. L. Yang, Langmuir 23, 5831 (2007).
23. K. Raiber, A. Terfort, C. Benndorf, N. Krings and H. Strehblow, Surf. Sci. 595, 56 (2005).