Low-temperature ABC-type atomic layer deposition: synthesis of highly uniform ultrafine supported metal nanoparticles

Angewandte Chemie - International Edition

Volumn 49, Issue 14, 2010, Pages 2547-2551

  Lu, Junling ^a   Stair, Peter C ^a,b  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b ARGONNE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

Atomic layer deposition; Low temperature techniques; Metal nanoparticles; Palladium; Supported catalysts

Indexed keywords

ELEVATED TEMPERATURE; LOW TEMPERATURES; METAL NANOPARTICLES; PALLADIUM SUPPORTED CATALYSTS; SUPPORT LAYER; SUPPORTED METALS; ULTRAFINE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CALCINATION; CATALYST SUPPORTS; LOW TEMPERATURE PHENOMENA; METALS; NANOPARTICLES; PALLADIUM;

ATOMS;

EID: 77950229150     PISSN: 14337851     EISSN: 15213773     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/anie.200907168     Document Type: Article

References (30)

1. H. J. Freund, M. Bäumer, H. Kuhlenbeck, Adv. Catal. 2000, 45, 333-384.
2. C. T. Campbell, Surf. Sci. Rep. 1997, 27,1-111.
3. M. Valden. X. Lai, D. W. Goodman, Science 1998, 281, 16471650.
4. U. Heiz, E. L. Bullock, J. Mater. Chem. 2004, 14, 564-577.
5. S. Abbet, K. Judai, L. Klinger, U. Heiz, Pure Appl. Chem. 2002, 74, 1527-1535.
6. S. Vajda, M. J. Pellin, J. P. Greeley, C. L. Marshall, L. A. Curtiss, G. A. Ballentine. J. W. Elam, S. Catillon-Mucherie, P. C. Redfern, F. Mehmood, P. Zapol, Nat. Mater. 2009, 8, 213-216.
7. K. Judai, S. Abbet, A. S. Wörz, U. Heiz, C. R. Henry, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 2732-2737.
8. B. Yoon, H. Häkkinen, U. Landman, A. S. Wörz, J. M. Antonietti. S. Abbet, K. Judai, U. Heiz, Science 2005, 307, 403-407.
9. R. L. Augustine, Heterogeneous Catalysis for the Synthetic Chemist, Marcel Dekker, New York, 1996, pp. 267-312.
10. J. A. Schwarz, C. Contescu, A. Contescu, Chem. Rev. 1995, 95, 477-510.
11. M. L. Toebes, J. A. van Dillen, Y. P. de Jong, J. Mol. Catal. A 2001, 173, 75-98.
12. T. Lopez, M. Asomoza, P. Bosch, E. Garciafigueroa, R. Gomez. J. Catal. 1992, 138, 463-473.
13. Y. Xie, K. L. Ding, Z. M. Liu, R. T. Tao, Z. Y. Sun, H. Y. Zhang, G. M. An, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 6648-6649.
14. K. Okamoto, R. Akiyama, H. Yoshida, T. Yoshida, S. Kobayashi, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2125-2135.
15. L. Guczi, A. Horvath, A. Beck, A. Sarkany, Sci. Technol. Catal. 2002 2003, 145, 351-354.
16. L. C. Chao, R. P. Andres, J. Colloid Interface Sci. 1994, 165, 290295.
17. R. Rinaldi, A. D. Porcari, T. C. R. Rocha, W. H. Cassinelli, R. U. Ribeiro, J. M. C. Bueno, D. Zanchet, J. Mol. Catal. A 2009, 301, 11-17.
18. M. Leskelä, M. Ritala. J. Phys. Iv 1999, 9, 837-852.
19. R. L. Puurunen J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301-121352.
20. J. E. Herrera, J. H. Kwak, J. Z. Hu, Y. Wang, C. H. F. Peden, Top. Catal. 2006, 39, 245-255.
21. S. T. Christensen, J. W. Elam, F. A. Rabuffetti, Q. Ma, S. J. Weigand. B. Lee, S. Seifert, P. C. Stair, K. R. Poeppelmeier, M. C. Hersam, M. J. Bedzyk. Small 2009, 5, 750-757.
22. J. S. King, A. Wittstock, J. Biener, S. O. Kucheyev, Y. M. Wang, T. F. Baumann, S. K. Giri, A. V. Hamza, M. Bäumer, S. F. Bent, Nano Lett. 2008, 8, 2405-2409.
23. J. Keränen, A. Auroux, S. Ek, L. Niinisto. Appl. Catal. A 2002, 228, 213-225.
24. P. C. Stair, J. Chem. Phys 2008, 128, 182507-182510.
25. J. W. Elam, A. Zinovev, C. Y. Han, H. H. Wang, U. WeIp, J. N. Hryn, M. J. Pellin, Thin Solid Films 2006, 515,1664-1673.
26. D. N. Goldstein, S. M. George, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 143106-143108.
27. See the Supporting Information.
28. T Lear, R. Marshall, J. A. Lopez-Sanchez, S. D. Jackson, T. M. Klapötke, M. Bäumer, G. Rupprechter, H. J. Freund. D. Lennon, J. Chem. Phys. 2005, 123,174706-174718.
29. J. W. Elam, M. D. Groner, S. M. George, Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981-2987.
30. J. L. Lu, K. M. Kosuda, R. P. Van Duyne. P. C. Stair, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 12412-12418.