Low temperature epitaxial oxide ultrathin films and nanostructures by atomic layer deposition

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 19, 2012, Pages 3732-3737

  Coll, Mariona ^a   Gazquez, Jaume ^a,b   Palau, Anna ^a   Varela, Maria ^b,c   Obradors, Xavier ^a   Puig, Teresa ^a  

^a UNIVERSITAT AUTÒNOMA DE BARCELONA   (Spain)

^b OAK RIDGE NATIONAL LABORATORY   (United States)

^c UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID   (Spain)

Author keywords

area selective atomic layer deposition; atomic layer deposition; CeO 2; epitaxial film; low temperature growth

Indexed keywords

CEO 2; E-BEAM LITHOGRAPHY; EPITAXIAL FILM; FILM STOICHIOMETRY; FILM TEXTURES; FLUORITE SINGLE CRYSTALS; GROWTH PER CYCLE; KEY PARAMETERS; LOW GROWTH RATE; LOW TEMPERATURE EPITAXIAL GROWTH; LOW TEMPERATURE GROWTH; LOW TEMPERATURES; POST THERMAL TREATMENT; SINGLE CRYSTAL SUBSTRATES; SRTIO; SUBSTRATE TEMPERATURE; ULTRA SMOOTH SURFACE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84867373617     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm301864c     Document Type: Article

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