Preparation for physico-chemical analysis

Focused Ion Beam Systems: Basics and Applications

Volumn 9780521831994, Issue , 2007, Pages 215-249

  Langford, Richard ^a  

^a UNIVERSITY OF MANCHESTER   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; IONS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

ATOM PROBE; FIB/SEM; FIELD ION MICROSCOPY; PHYSICAL AND CHEMICAL ANALYSIS; PHYSICO-CHEMICAL ANALYSIS; SITE-SPECIFIC; SURFACE COATINGS;

CHEMICAL ANALYSIS;

EID: 84926111104     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Book    
DOI: 10.1017/CBO9780511600302.009     Document Type: Chapter

References (127)

1. R. M. Langford, S. Oreilly and I. Mewn. Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 739 (2002), 65.
2. Y. Katoh, M. Ando and A. Kohyama. Nucl. Mater., 323 (2003), 251-62.
3. D. R. G. Mitchell, D. J. Attard, G. A. Collins and K. T. Short. Coatings Tech., 165 (2003), 107-18.
4. H. Saka, K. Kuroda, M. H. Hong et al. ICEM, 13 (1994), 1009.
5. D. M. Longo, J. M. Howe and W. C. Johnson. UltraMicroscopy, 80 (1999), 69.
6. A. J. Smith, P. Munroe and T. Tran. J. Mater. Sci., 36 (2001), 3519.
7. C. Burmer, S. Gorlich and S. Pauthner. Microelectronics Reliability, 38 (1998), 987.
8. G. Mardingly. Inst. Phys. Conf. Ser., 164 (1999), 575.
9. S. Tsuji, K. Tsujimoto and H. Iwama. IBM J. Res. Develop., 42 (1998), 509.
10. J. C. Reiner, P. Gasser and U. Sennhauser. Microelectronics, 42 (2002), 1753.
11. S. Morris, S. Tatti, E. Black, N. Dickson et al. Proc. 17th Int. Symp. Testing and Failure Analysis, (1991), 471.
12. D. Verlleij. Microelectronics Reliability, 38 (1998), 869.
13. D. J. Larson, A. K. Petford-Long, A. Cerezo and G. W. D. Smith. Acta Mater., 47 (1999), 4019.
14. J. M. Cairney, P. R. Muroe and J. H. Schneibel. Scripta Mater., 42 (2000), 472.
15. R. Pantel, G. Auvert and G. Mascarin. Microelectronic Eng., 37/38 (1997), 49.
16. B. Wei, K. -R. Philipp, U. Bader et al. UltraMicrosc., 85 (2000), 93.
17. E. Zschech, E. Langer, H. -J. Engelmann and K. Dittmar. Mater. Sci. Semicond. Process., 5 (2003), 457.
18. H. White, Y. Pu, M. Rafailovich, R. Sokolov, A. H. King et al. Polymer, 42 (2001), 1613.
19. J. Loos, K. J. Jeroen, F. Morrissey and R. A. J. Janssen. Polymer, 43 (2000), 7493.
20. K. Hosi, S. Ejiri, W. Probst et al. J. Microsc., 201 (2001), 44.
21. H. Engqvist, J. -E. Schultz-walz, J. Loof et al. Biomaterials, (2003).
22. R. Haswell, D. W. McComb and W. Smith. J. Microsc., 211 (2003), 161.
23. P. J. Heaney, E. P. Vicenzi, L. A. Giannuzzi and K. J. T. Livi. Am. Mineral., 85 (2001) 1094.
24. B. I. Prenitzer, L. A. Giannuzzi, K. Newman et al. Mater. Trans. A, 29A (1998), 2399.
25. F. Shaapur, T. Stark, T. Woodward and R. J. Graham. Mater. Res. Soc. Proc., 480 (1997), 173.
26. D. P. Basile, R. Boylan, B. Baker, K. Hayes and D. Soza, Mater. Res. Soc. 254 (1992), 23.
27. E. Kirk, D. Williams and H. Ahmed. Inst. Phys. Conf. Ser., 100 (1989), 501.
28. K. Park. Mater. Res. Soc. Proc., 199 (1990), 271.
29. T. Ohnishi, H. Koike, T. Ishitani et al. Proc. 25th Int. Symp. Testing and Failure Analysis, 449 (1999).
30. B. W. Kempsall, B. W. Schwarzx and L. A. Giannuzzi. ICEM, 249 (Durban, South Africa, 2002).
31. F. Altmann and D. Katzer. Thin Solid Films, 344 (1999), 609.
32. D. M. Schraub and R. S. Rai. Prog. Cryst. Growth Charact. Mater., 36 (1999), 99.
33. R. M. Anderson and S. D. Walck. Mater. Res. Soc. Proc., 480 (1997), 187.
34. S. J. Klepies, J. P. Benedict and R. M. Anderson. Mater. Res. Soc., 179 (1988).
35. L. R. Harriott. J. Vac. Sci. Technol. B, 11 (1993), 2200.
36. R. J. Young, J. R. A. Cleaver and H. Ahmed. J. Vac. Sci. Technol. B, 11 (1993), 234.
37. J. Szot, R. Hornsey, T. Ohnishi and S. Minagawa. J. Vac. Sci. Tech. B, 10 (1992), 575.
38. T. Ishitani and T. Yaguchi. Microsc. Res. Tech., 35 (1996), 320.
39. A. Gandhi and J. Orloff. J. Vac. Sci. Technol. B, 8 (1990), 1814.
40. D. Santamore, K. Edinger, J. Orloff and J. Melngailis. J. Vac. Sci. Tech. B, 15 (1997), 2346.
41. W. Boxleitner, G. Hobler, V. Kluppel and H. Cerva. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B, 175 (2001), 102.
42. J. F. Walker. Inst. Phys. Ser., 157 (1997), 469.
43. G. Deshais and S. B. Newcomb. Eurem 12, 573 (Brno, Czech Republic, 2000).
44. Y. Z. Huang, S. P. Lozano-Perez, R. M. Langford, J. M. Titchmarsh and M. L. Jemkins. J. Microsc., 207 (2002), 129.
45. M. H. Overwijk, F. C. Van den Heuvel and C. W. T. Bulle-Lieuwma. J. Vac. Sci. Technol. B, 11 (1993), 2021.
46. J. Ebel, C. Bozada, T. E. Schlesinger, C. Cerny et al. IEEE 36th Annual International Reliability Physics Symposium, (Reno, Nevada, 1996).
47. A. I. Oliva, A. Romero, J. L. Pena, E. Anguiano and M. Aguilar. Rev. Sci. Instrum., 67 (1996), 1917.
48. K. S. K. Kim, S. C. Lim, I. B. Lee et al. Rev. Sci. Instrum., 74 (2003), 9.
49. F. A. Stevie, T. C. Shane, P. M. Kahora et al. Proc. Symp. Applied Surface Analysis, 23 (Burlington, MA, USA, 1995) 61
50. L. R. Herlinger, S. Chevacharoenkul and D. C. Erin. Proc. ISTFA'96, 199 (1996).
51. R. M. Langford and Petford-Long. J. Vac. Sci. Tech. A, 19 (2001), 982.
52. R. M. Langford and C. Clincton. Micron, 35:7 (2004), 607.
53. A. Hall, W. G. Matthews, R. Superfine, M. R. Flavo and S. Wasburn Appl. Phys. Lett., 82(15) (2003), 2506.
54. P. Avouris, T. Hertel, R. Martel et al. Appl. Surf. Sci. 141 (1999), 201.
55. A. E. M. De Veirman. Mater. Sci. Eng., B00 (2003), 1.
56. D. M. Longo, J. M. Howe and W. C. Johnson. UltraMicroscopy, 80 (1999), 69.
57. Y. Yabuuchi, T. Okano, S. Tametou, M. Arai and T. Kouzaki. Eurem 12, 565 (Brno, Czech Republic, 2000)
58. M. Saito, T. Aoyama, T. Hashimoto and S. Isakozawa. Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998), 355.
59. T. Ishitani, Y. Taniguchi, S. Isakozawa et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 16 (1998), 1907.
60. T. Yaguchi, T. Kammino, H. Kobayashi, H. Koike, K. Tohji, K. Nakatsuka and R. Urao. Eurem 12, 569 (Brno Czech Republic, 2000).
61. R. J. Young, E. C. G. Kirk, D. A. Williams and H. Ahmed. Mater. Res. Soc. Proc., 199 (1990), 205.
62. R. M. Langford, Y. Huang, S. Lozano-Perez, J. M. Titchmarsch and A. K. Petford-Long. J. Vac. Sci. Technol., B19 (2001) 755.
63. H. Bender. Inst. Phys. Conf., 164 (1999), 595.
64. T. Kato, T. Murago, Y. Iijima et al. J. Electron. Microsc., 53 (2004), 501.
65. T. Tsutsumi, E. Suzuki, K. Ishii et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 17 (1999), 1897.
66. S. B. Newcomb and W. A. J. Quinton. Eurem 12, 575 (Brno, Czech Republic 2000).
67. R. M. Langford, D. Ozkaya, D. Zhou, A. K. Petford-Long and C. Stanley. Proc. ICEM, 251 (Durban, 2002).
68. K. Minowa, K. Takeda, S. Tomimatsu and K. Umemura. J. Crys. Growth, 210, (2000), 16.
69. C. Dix, P. F. McKee, A. R. Thurlow et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 12 (1994), 3708.
70. J. M. Cainey, P. R. Munroe and M. Schneibel. Scripta Mater., 42 (2000), 473.
71. A. Heilmann, F. Altmann, D. Katzer et al. Appl. Surf. Sci., 144 (1999), 628.
72. S. V. Prasad, J. R. Michael and T. R. Christenson. Scripta Mater., 48 (2003), 255.
73. R. E. Dunin-Borkowski, S. B. Newcomb, M. R. McCartney, C. A. Ross and M. Farhoud. Electron Microscopy and Analysis, Institute of Physics Conference Series, 168 (2001), 485.
74. S. M. Scharz, B. W. Kempshall, L. A. Giannuzzi and M. R. McCartney, Microsc and Microanal., 9 (suppl. 2) (2003), 116.
75. H. Ximen and P. E. Russell. UltraMicroscopy, 42 (1996), 1526.
76. A. Olbrich, B. Ebersberger, C. Bolt et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 17 (1999), 1570.
77. C. Menozzi, C. G. Gazzadi, A. Alessandrini and P. Facci, UltraMicroscopy, 104:3-4 (2005), 220.
78. K. Akiyama, T. A. Eguchi, Y. Fujikawa et al. Rev. Sci. Instr., 76:3 (2005), 33705.
79. D. J. Larson, A. K. Petford-Long, A. Cerezo et al. Appl. Phys. Lett., 73 (1998), 8.
80. D. J. Larson, D. T. Foord, A. K. Petford-Long, A. Cerezo and G. W. S. Smith. Nanotechnology, 10 (1999), 45.
81. D. J. Larson, B. D. Wissman, R. L. Martens et al. Microsc. Microanal. 7 (2001) 24.
82. M. K. Miller, K. F. Russell, G. B. Thompson. Ultra Microscopy, 102(4) (2005), 287.
83. H. Z. Wu, S. G. Roberts, G. Mobus and B. J. Inkson. Acta Mater., 51 (2003), 149.
84. R. M. Langford, G. Dale, P. J. Hopkins, P. J. S. Ewen and A. K. Petford-Long. J. Micromech. Microeng., 12 (2002).
85. B. J. Inkson, T. Steer, G. Mobus and T. Wagner. J. Microsc., (2002).
86. T. Sakamoto, Z. Cheng, M. Takahashi, M. Owari and Y. Nihei. Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998), 2051.
87. H. Ximen, R. K. Defreez, J. Orloff, J. Elliott et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 8 (1990), 1361.
88. R. Kruger. Micron, 221 (1999), 30.
89. P. Gnauck and P. Hoffrogge. Proc. SPIE: Reliability, Testing and Characterization of MEMS/MOEMS II, 4980 (2003), 106.
90. D. J. Barber. UltraMicroscopy, 52 (1993), 101.
91. F. V. Nolfi, ed. Phase Transformation During Irradiation (London: Applied Science Publishers, 1983).
92. J. S. Williams. Mater. Sci. Eng. A, 253 (1998), 8.
93. L. Ma. Micron, 35:4 (2004), 273.
94. C. R. Hutchinson, R. E. Hackenberg and G. J. Shiflet. Ultramicrocopy, 94 (2003), 37.
95. A. De Veirman and L. Weaver. Micron, 30 (1999), 213.
96. S. Rubanov and P. R. Munroe. Mater. Lett. 4142 (2002), 1.
97. J. F. Walker and R. F. Broom. Inst. Phys. Conf. Ser., 157 (1997), 473.
98. B. W. Kempshall, L. A. Giannuzzi, B. I. Prenitzer, F. A. Stevie and S. X. Da. J. Vac. Sci. Technol. B, 20 (2002), 286.
99. N. I. Kato, N. Miura and N. Tsutsui. J. Vac. Sci. A, 16 (1998), 1127.
100. N. Miura, K. Tsujimato, R. Kanehara, N. Tsutsui and S. Tsuji. Proc. 22nd Int. Symp. Testing and Failure Analysis (1995), 353.
101. T. Ishitani, H. Koike, T. Yaguchi and T. Kamino. J. Vac. Sci. Technol. B, 1 (1998), 1907.
102. R. M. Langford and A. K. Petford-Long. Proc. 12th European Microscopy Congress, Vol. II (2000), 557.
103. R. L. Martens, D. J. Larson, T. F. Kelly, A. Cerezo, P. H. Clifton and N. Tabat. Micros. Microanal., 6, (suppl. 2) (2000), 522.
104. C. A. Ferryman, J. E. Fulghum, L. A. Giannuzzi and F. Stevie. Surf. Interface Anal., 33 (2002), 907.
105. M. Tanaka, K. Furuya and T. Saito. Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998), 7010.
106. J. P. McCaffrey, M. W. Phaneuf and L. D. Madsen. UltraMicroscopy, 87 (2001), 97.
107. H. Bender and P. Russel. Inst. Phys. Conf. Ser., 157 (1997), 465.
108. N. I. Kato, N. Miura and N. Tsutsui. J. Vac. Sci. Technol. A, 16 (1998), 1127.
109. D. Sutton, S. M. Parle and S. B. Newcomb. Inst. Phys. Conf. Ser., 168 (2002), 377.
110. B. D. Huey and R. M. Langford. Nanotechnology, 14 (2003), 409.
111. B. Basnor, A. Lugstein, H. Wanzenbeck et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 21 (2003), 209.
112. W. Brezna, H. Wanzenbock, A. Lugstein et al. Physica E, 19 (2003), 178.
113. R. J. Young, P. D. Carleson, T. Hunt and J. Walker. Proc. From the 24th Int. Symp. Testing and Failure Analysis, (1998).
114. R. M. Langford, D. Ozkaya, C. Kaufman et al. Electron Microsc. Anal. Inst. Phys. Conf. Ser. 168 (2001), 437.
115. R. M. Langford, D. Ozkaya, B. Huey, A. K. Petford-Long. Microsc. Semicond. Mater. Inst. Phys. Conf. Ser., 169 (2001), 511.
116. Z. Wang, I. K. Takeharu, T. Hirayama et al. J. Vac. Sci. Technol. B, 21 (2003), 2155.
117. A. Yamaguchi, M. Shibata and T. Hasshinga. J. Vac. Sci. Technol., B, 11 (1993), 2016.
118. A. Leslie, K. L. Pey, K. S. Sim, M. T. F. Beh and G. P. Goh. Proc. 21st Int. Symp. Testing and Failure Analysis, 353 (1995).
119. P. E. Russell, T. J. Stark, D. P. Griffis, J. R. Phillips and K. F. Jarausch. J. Vac. Sci. Technol. B, 16 (1998), 2494.
120. Y. Sugimoto, M. Taneya, H. Hidaka and K. Akita. J. Appl. Phys., 68 (1990), 2392.
121. A. Yamaguchi and T. Nishikawa. J. Vac. Sci. Technol. B, 13 (1998), 962.
122. D. Cooper, A. C. Twitchett, R. E. Dunin-Borkowski et al. Proc. Of 13th European Microscopy Congress, Vol. II (2004), 783.
123. C. L. Collins, M. MacKemzie, A. J. Craven et al. Proc. 13th European Microscopy Congress, Vol. II (2004), 775.
124. Z. Huang. J. Microsc., 215 (2004) 219.
125. S. Rajsiri, B. W. Kempshall, S. M. Schwarz and L. A. Giannuzzi. Proc. Microsc. Microanal., 99 (2002), 50.
126. T. L. Matteson, S. W. Schwarz, E. C. Houge, B. W. Kempshall and L. A. Giannuzzi. J. Electron Mater., 31 (2002), 31.
127. J. M. Cairney and P. R. Munroe. Micron, 34 (2003), 97.