Enhancement of light output power from LEDs based on monolayer colloidal crystal

Small

Volumn 10, Issue 9, 2014, Pages 1668-1686

  Geng, Chong ^a   Wei, Tongbo ^b   Wang, Xiaoqing ^a   Shen, Dezhong ^a   Hao, Zhibiao ^a   Yan, Qingfeng ^a  

^a TSINGHUA UNIVERSITY   (China)

^b INSTITUTE OF SEMICONDUCTORS   (China)

Author keywords

light emitting diodes; light output power; micro nanostructure; monolayer colloidal crystals

Indexed keywords

COLLOIDS; GALLIUM ALLOYS; GALLIUM NITRIDE; MONOLAYERS; NANOSTRUCTURES;

COLLOIDAL CRYSTALS; INTERNAL QUANTUM EFFICIENCY; LIGHT OUTPUT POWER; LIGHT-EXTRACTION EFFICIENCY; MICRO/NANOSTRUCTURES; ORDERED NANOSTRUCTURES; SOLID STATE LIGHTING; STATE OF THE ART;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 84899883101     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201303599     Document Type: Review

References (185)

1. S. Nakamura, M. Senoh, S.-I. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, Y. Sugimoto, T. Kozaki, H. Umemoto, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 211.
2. I. Schnitzer, E. Yablonovitch, C. Caneau, T. Gmitter, A. Scherer, Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2174.
3. a) K.-K. Kim, S.-d. Lee, H. Kim, J.-C. Park, S.-N. Lee, Y. Park, S.-J. Park, S.-W. Kim, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 071118
4. b) P. Deb, H. Kim, V. Rawat, M. Oliver, S. Kim, M. Marshall, E. Stach, T. Sands, Nano Lett. 2005, 5, 1847.
5. J. P. Silverman, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 2117.
6. C.-J. Ting, F.-Y. Chang, C.-F. Chen, C. Chou, J. Micromech. Microeng. 2008, 18, 075001.
7. a) K.-J. Byeon, S.-Y. Hwang, H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 091106
8. b) H. Huang, C. Lin, C. Yu, B. Lee, C. Chiu, C. Lai, H. Kuo, K. Leung, T. Lu, S. Wang, Nanotechnology 2008, 19, 185301.
9. a) J. C. Hulteen, R. P. Van Duyne, J. Vac. Sci. Technol. A 1995, 13, 1553
10. b) C. L. Haynes, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599
11. c) S. M. Yang, S. G. Jang, D. G. Choi, S. Kim, H. K. Yu, Small 2006, 2, 458
12. d) G. Zhang, D. Wang, Chem. Asian J. 2009, 4, 236
13. e) J. Zhang, Y. Li, X. Zhang, B. Yang, Adv. Mater. 2010, 22, 4249
14. f) Y. Li, W. Cai, G. Duan, Chem. Mater. 2007, 20, 615
15. g) Y. Li, N. Koshizaki, W. Cai, Coordin. Chem. Rev 2011, 255, 357.
16. a) G. H. Chan, J. Zhao, E. M. Hicks, G. C. Schatz, R. P. Van Duyne, Nano Lett. 2007, 7, 1947
17. b) J. C. Hulteen, D. A. Treichel, M. T. Smith, M. L. Duval, T. R. Jensen, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854.
18. a) A. Kosiorek, W. Kandulski, H. Glaczynska, M. Giersig, Small 2005, 1, 439
19. b) M. C. Gwinner, E. Koroknay, L. Fu, P. Patoka, W. Kandulski, M. Giersig, H. Giessen, Small 2009, 5, 400
20. c) Z. Sun, Y. Li, J. Zhang, Y. Li, Z. Zhao, K. Zhang, G. Zhang, J. Guo, B. Yang, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 4036.
21. a) C. Li, G. Hong, H. Yu, L. Qi, Chem. Mater. 2010, 22, 3206
22. b) G. Hong, C. Li, L. Qi, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3774.
23. a) Y. Li, J. Zhang, L. Fang, T. Wang, S. Zhu, Y. Li, Z. Wang, L. Zhang, L. Cui, B. Yang, Small 2011, 7, 2769
24. b) M. Asbahi, K. T. Lim, F. Wang, H. Duan, N. Thiyagarajah, V. Ng, J. K. Yang, Langmuir 2012, 28, 16782.
25. a) J. R. Oh, J. H. Moon, H. K. Park, J. H. Park, H. Chung, J. Jeong, W. Kim, Y. R. Do, J. Mater. Chem. 2010, 20, 5025
26. b) X. Ye, L. Qi, Nano Today 2011, 6, 608.
27. a) N. Denkov, O. Velev, P. Kralchevski, I. Ivanov, H. Yoshimura, K. Nagayama, Langmuir 1992, 8, 3183
28. b) Y. Lei, S. Yang, M. Wu, G. Wilde, Chem. Soc. Rev. 2011, 40, 1247.
29. a) A. S. Dimitrov, K. Nagayama, Langmuir 1996, 12, 1303
30. b) P. Jiang, J. Bertone, K. Hwang, V. Colvin, Chem. Mater. 1999, 11, 2132.
31. a) M. Trau, D. Saville, I. Aksay, Science 1996, 272, 706
32. b) S. O. Lumsdon, E. W. Kaler, O. D. Velev, Langmuir 2004, 20, 2108.
33. K. U. Fulda, B. Tieke, Adv. Mater. 1994, 6, 288.
34. a) P. Jiang, M. J. McFarland, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 3710
35. b) P. Jiang, M. J. McFarland, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 13778.
36. a) Z.-Z. Gu, D. Wang, H. Möhwald, Soft Matter 2006, 3, 68
37. b) M. Retsch, Z. Zhou, S. Rivera, M. Kappl, X. S. Zhao, U. Jonas, Q. Li, Macromol. Chem. Phys. 2009, 210, 230.
38. a) N. Vogel, C. K. Weiss, K. Landfester, Soft Matter 2012, 8, 4044
39. b) H. Cong, B. Yu, J. Tang, Z. Li, X. Liu, Chem. Soc. Rev. 2013, 42, 7774
40. c) G. von Freymann, V. Kitaev, B. V. Lotsch, G. A. Ozin, Chem. Soc. Rev. 2013
41. d) S. Yang, Y. Lei, Nanoscale 2011, 3, 2768
42. e) L. Li, T. Zhai, H. Zeng, X. Fang, Y. Bando, D. Golberg, J. Mater. Chem. 2011, 21, 40.
43. a) D. Chan, L. White, J. Colloid Interface Sci. 1981, 79, 410
44. b) P. A. Kralchevsky, K. Nagayama, Langmuir 1994, 10, 23
45. c) Q. Li, U. Jonas, X. Zhao, M. Kappl, Asia-Pac. J. Chem. Eng. 2008, 3, 255.
46. a) B. G. Prevo, O. D. Velev, Langmuir 2004, 20, 2099
47. b) L. Malaquin, T. Kraus, H. Schmid, E. Delamarche, H. Wolf, Langmuir 2007, 23, 11513
48. c) P. Colson, R. Cloots, C. Henrist, Langmuir 2011, 27, 12800.
49. P. Jiang, T. Prasad, M. J. McFarland, V. L. Colvin, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 011908.
50. G. D. Moon, T. I. Lee, B. Kim, G. Chae, J. Kim, S. Kim, J.-M. Myoung, U. Jeong, ACS nano 2011, 5, 8600.
51. Y. Li, G. Duan, G. Liu, W. Cai, Chem. Soc. Rev. 2013, 42, 3614.
52. a) K. B. Singh, M. S. Tirumkudulu, Phys. Rev. Lett. 2007, 98, 218302
53. b) P. Xu, A. Mujumdar, B. Yu, Dry. Technol. 2009, 27, 636.
54. J. Yu, C. Geng, L. Zheng, Z. Ma, T. Tan, X. Wang, Q. Yan, D. Shen, Langmuir 2012, 28, 12681.
55. C. Geng, L. Zheng, J. Yu, Q. Yan, T. Wei, X. Wang, D. Shen, J. Mater. Chem. 2012, 22, 22678.
56. C. Geng, L. Zheng, J. Yu, Q. Yan, X. Wang, G. Shen, D. Shen, Thin Solid Films 2013.
57. L. Zheng, Z. Ma, C. Geng, Q. Yan, Particle & Particle Systems Characterization 2013, 30, 812.
58. C. Huh, K.-S. Lee, E.-J. Kang, S.-J. Park, J. Appl. Phys. 2003, 93, 9383.
59. H.-W. Huang, J. Chu, C. Kao, T. Hseuh, T. Lu, H. Kuo, S. Wang, C. Yu, Nanotechnology 2005, 16, 1844.
60. a) T. Fujii, Y. Gao, R. Sharma, E. Hu, S. DenBaars, S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 855
61. b) T.-X. Lee, C.-Y. Lin, S.-H. Ma, C.-C. Sun, Opt. Express 2005, 13, 4175
62. c) K. Bao, X. N. Kang, B. Zhang, T. Dai, Y. J. Sun, Q. Fu, G. J. Lian, G. C. Xiong, G. Y. Zhang, Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 141104.
63. a) T. Oder, K. Kim, J. Lin, H. Jiang, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 466
64. b) C.-E. Lee, C.-F. Lai, Y.-C. Lee, H.-C. Kuo, T.-C. Lu, S.-C. Wang, IEEE Photon. Technol. Lett. 2009, 21, 331.
65. K.-J. Byeon, E.-J. Hong, H. Park, K.-Y. Yang, J. H. Baek, J. Jhin, C.-H. Hong, H. G. Kim, H. Lee, Semicond. Sci. Technol. 2009, 24, 105004.
66. a) H.-G. Hong, S.-S. Kim, D.-Y. Kim, T. Lee, J.-O. Song, J. Cho, C. Sone, Y. Park, T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 103505
67. b) R.-H. Horng, Y.-L. Tsai, T.-M. Wu, D.-S. Wuu, C.-H. Chao, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2009, 15, 1327
68. c) Y. C. Shin, D. H. Kim, E. H. Kim, J.-M. Park, K.-M. Ho, K. Constant, J. H. Choe, Q. H. Park, H.-Y. Ryu, J. H. Baek, IEEE J. Quantum Electron. 2010, 46, 116.
69. a) J. I. Sim, B. G. Lee, J. W. Yang, H.-d. Yoon, T. G. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 2101
70. b) M.-A. Tsai, P. Yu, C. Chiu, H. Kuo, T. Lu, S. Lin, IEEE Photon. Technol. Lett. 2010, 22, 12
71. c) J. H. Kang, J. H. Ryu, H. K. Kim, H. Y. Kim, N. Han, Y. J. Park, P. Uthirakumar, C.-H. Hong, Opt. Express 2011, 19, 3637.
72. C. Soh, B. Wang, S. Chua, V. K. Lin, R. J. Tan, S. Tripathy, Nanotechnology 2008, 19, 405303.
73. M.-Y. Hsieh, C.-Y. Wang, L.-Y. Chen, T.-P. Lin, M.-Y. Ke, Y.-W. Cheng, Y.-C. Yu, P. C. Cheng, D.-M. Yeh, C.-F. Lu, IEEE Electron Device Lett. 2008, 29, 658.
74. C.-H. Chan, C.-H. Hou, C.-K. Huang, T.-J. Chen, S.-Z. Tseng, H.-T. Chien, C.-H. Kuo, K.-H. Hsieh, Y.-L. Tsai, K.-C. Hsu, Jpn. J. Appl. Phys. 2009, 48, 0212.
75. R. Dylewicz, A. Z. Khokhar, R. Wasielewski, P. Mazur, F. Rahman, Nanotechnology 2011, 22, 055301.
76. H.-M. An, J. I. Sim, K. S. Shin, Y. M. Sung, T. G. Kim, IEEE J. Quantum Electron. 2012, 48, 891.
77. a) L. Che-Ping, Y. Hsiharng, C. Ching-Kong, J. Micromech. Microeng. 2003, 13, 748
78. b) F. T. O'Neill, J. T. Sheridan, Optik-International Journal for Light and Electron Optics 2002, 113, 391.
79. a) P. Savander, Opt. Laser Eng. 1994, 20, 97
80. b) K. Totsu, K. Fujishiro, S. Tanaka, M. Esashi, Sens. Actuators A: Phys 2006, 130, 387.
81. a) B.-K. Lee, D. Kim, T. Kwon, Microsyst. Technol. 2004, 10, 531
82. b) T.-K. Shih, C.-F. Chen, J.-R. Ho, F.-T. Chuang, Microelectron. Eng. 2006, 83, 2499.
83. a) N. Ong, Y. Koh, Y. Q. Fu, Microelectron. Eng. 2002, 60, 365
84. b) C.-Y. Chang, S.-Y. Yang, L.-S. Huang, J.-H. Chang, Infrared Phys. Technol. 2006, 48, 163.
85. Y.-K. Ee, P. Kumnorkaew, R. A. Arif, H. Tong, H. Zhao, J. F. Gilchrist, N. Tansu, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2009, 15, 1218.
86. Y.-K. Ee, R. A. Arif, N. Tansu, P. Kumnorkaew, J. F. Gilchrist, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 221107.
87. X.-H. Li, R. Song, Y.-K. Ee, P. Kumnorkaew, J. F. Gilchrist, N. Tansu, IEEE Photon. J. 2011, 3, 489.
88. B. Kim, H. Jung, J. Shin, M. Mastro, C. Eddy, J. Hite, S. Kim, J. Bang, J. Kim, Thin Solid Films 2009, 517, 2742.
89. P. Zhu, G. Liu, J. Zhang, N. Tansu, J. Disp. Technol. 2013, 9, 317.
90. X.-H. Li, P. Zhu, G. Liu, J. Zhang, R. Song, Y.-K. Ee, P. Kumnorkaew, J. F. Gilchrist, N. Tansu, J. Disp. Technol. 2013, 9, 324.
91. Q. Zhang, K. Li, H. Choi, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 06 1120.
92. a) K. A. Willets, R. P. Van Duyne, Annu. Rev. Phys. Chem. 2007, 58, 267
93. b) J. A. Schuller, E. S. Barnard, W. Cai, Y. C. Jun, J. S. White, M. L. Brongersma, Nat. Mater. 2010, 9, 193
94. c) H. A. Atwater, A. Polman, Nat. Mater. 2010, 9, 205.
95. a) K. Okamoto, I. Niki, A. Scherer, Y. Narukawa, T. Mukai, Y. Kawakami, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 071102
96. b) D.-M. Yeh, C.-F. Huang, C.-Y. Chen, Y.-C. Lu, C. Yang, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 171103.
97. C.-W. Huang, H.-Y. Tseng, C.-Y. Chen, C.-H. Liao, C. Hsieh, K.-Y. Chen, H.-Y. Lin, H.-S. Chen, Y.-L. Jung, Y.-W. Kiang, Nanotechnology 2011, 22, 475201.
98. a) J. Vuckovic, M. Loncar, A. Scherer, IEEE J. Quantum Electron. 2000, 36, 1131
99. b) L. W. Jang, D. W. Jeon, M. Kim, J. W. Jeon, A. Y. Polyakov, J. W. Ju, S. J. Lee, J. H. Baek, J. K. Yang, I. H. Lee, Adv. Funct. Mater. 2012, 22, 2728.
100. T. R. Jensen, M. D. Malinsky, C. L. Haynes, R. P. Van Duyne, J. Phys. Chem. B 2000, 104, 10549.
101. a) D.-M. Yeh, C.-F. Huang, C.-Y. Chen, Y.-C. Lu, C. Yang, Nanotechnology 2008, 19, 345201
102. b) Q. Qiao, C.-X. Shan, J. Zheng, B.-H. Li, Z.-Z. Zhang, L.-G. Zhang, D.-Z. Shen, J. Mater. Chem. 2012, 22, 9481.
103. L.-W. Jang, D.-W. Jeon, T. Sahoo, A. Y. Polyakov, B. Saravanakumar, Y.-T. Yu, Y.-H. Cho, J.-K. Yang, I.-H. Lee, J. Mater. Chem. 2012, 22, 21749.
104. H. Choi, S.-J. Ko, Y. Choi, P. Joo, T. Kim, B. R. Lee, J.-W. Jung, H. J. Choi, M. Cha, J.-R. Jeong, Nat. Photon. 2013, 7, 732.
105. Q. Xu, F. Liu, Y. Liu, K. Cui, X. Feng, W. Zhang, Y. Huang, Sci. Rep. 2013, 3, 2112.
106. G. Y. Mak, W. Fu, E. Y. Lam, H. Choi, Phys. Status Solidi (c) 2009, 6, S654.
107. C. Kao, Y. Su, C. Lin, J. Chen, IEEE Photon. Technol. Lett. 2010, 22, 984.
108. D. Dobrovolskas, J. Mickevic̈ius, G. Tamulaitis, H. Chen, C. Chen, Y. Jung, Y. Kiang, C. Yang, J. Phys. D: Appl. Phys. 2013, 46, 145105.
109. A. I. Zhmakin, Phys. Rep. 2011, 498, 189.
110. Y. Lee, T. Hsu, H. Kuo, S. Wang, Y. Yang, S. Yen, Y. Chu, Y. Shen, M. Hsieh, M. Jou, Mater. Sci. Eng.: B 2005, 122, 184.
111. Y. Lee, H. Kuo, T. Lu, B. Su, S. Wang, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G1106.
112. J.-J. Chen, Y.-K. Su, C.-L. Lin, S.-M. Chen, W.-L. Li, C.-C. Kao, IEEE Photon. Technol. Lett. 2008, 20, 1193.
113. a) Y.-K. Su, J.-J. Chen, C.-L. Lin, S.-M. Chen, W.-L. Li, C.-C. Kao, J. Cryst. Growth 2009, 311, 2973
114. b) Y. Su, J. Chen, C. Lin, C. Kao, Phys. Status Solidi (c) 2010, 7, 1784.
115. a) M. Kappelt, D. Bimberg, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 3271
116. b) D. Wuu, W. Wang, K. Wen, S. Huang, S. Lin, R. Horng, Y. Yu, M. Pan, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G765.
117. C. Kuo, L. Chang, C.-H. Kuo, IEEE Photon. Technol. Lett. 2009, 21, 1645.
118. C.-H. Chan, C.-H. Hou, S.-Z. Tseng, T.-J. Chen, H.-T. Chien, F.-L. Hsiao, C.-C. Lee, Y.-L. Tsai, C.-C. Chen, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 011110.
119. P. Dong, J. Yan, J. Wang, Y. Zhang, C. Geng, T. Wei, P. Cong, Y. Zhang, J. Zeng, Y. Tian, Appl. Phys. Lett. 2013, 102, 241113.
120. C.-C. Kao, Y.-K. Su, C.-L. Lin, J.-J. Chen, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 023111.
121. C.-T. Chang, S.-K. Hsiao, E. Y. Chang, Y.-L. Hsiao, J.-C. Huang, C.-Y. Lu, H.-C. Chang, K.-W. Cheng, C.-T. Lee, IEEE Photon. Technol. Lett. 2009, 21, 1366.
122. S.-M. Jeong, S. Kissinger, D.-W. Kim, S. Jae Lee, J.-S. Kim, H.-K. Ahn, C.-R. Lee, J. Cryst. Growth 2010, 312, 258.
123. J. B. Kim, S.-M. Kim, Y. W. Kim, S.-K. Kang, S.-R. Jeon, N. Hwang, Y.-J. Choi, C. S. Chung, Jpn. J. Appl. Phys. 2010, 49, 2102.
124. C. Geng, L. Zheng, H. Fang, Q. Yan, T. Wei, Z. Hao, X. Wang, D. Shen, Nanotechnology 2013, 24, 335301.
125. G.-T. Chen, J.-I. Chyi, C.-H. Chan, C.-H. Hou, C.-C. Chen, M.-N. Chang, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 261910.
126. M. R. Krames, O. B. Shchekin, R. Mueller-Mach, G. O. Mueller, L. Zhou, G. Harbers, M. G. Craford, J. Disp. Technol. 2007, 3, 160.
127. K. Li, H. Choi, J. Appl. Phys. 2011, 110, 053104.
128. C. Lin, H. Yen, C. Lai, H. Huang, C. Chao, H. Kuo, T. Lu, S. Wang, K. Leung, IEEE Photon. Technol. Lett. 2008, 20, 836.
129. a) W. Ng, C. Leung, P. Lai, H. Choi, J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 76
130. b) W. Ng, C. Leung, P. Lai, H. Choi, Nanotechnology 2008, 19, 255302.
131. A. J. Danner, B. Wang, S.-J. Chua, J.-K. Hwang, IEEE Photon. Technol. Lett. 2008, 20, 48.
132. C.-H. Hou, S.-Z. Tseng, C.-H. Chan, T.-J. Chen, H.-T. Chien, F.-L. Hsiao, H.-K. Chiu, C.-C. Lee, Y.-L. Tsai, C.-C. Chen, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 133105.
133. T. Wei, K. Wu, D. Lan, Q. Yan, Y. Chen, C. Du, J. Wang, Y. Zeng, J. Li, Appl. Phys. Lett. 2012, 101, 211111.
134. C. Du, T. Wei, H. Zheng, L. Wang, C. Geng, Q. Yan, J. Wang, J. Li, Opt. Express 2013, 21, 25373.
135. a) M. Boroditsky, T. Krauss, R. Coccioli, R. Vrijen, R. Bhat, E. Yablonovitch, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1036
136. b) A.-L. Fehrembach, S. Enoch, A. Sentenac, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 4280.
137. a) J. D. Joannopoulos, P. R. Villeneuve, S. Fan, Nature 1997, 386, 143
138. b) Y.-K. Su, J.-J. Chen, C.-L. Lin, S.-M. Chen, W.-L. Li, C.-C. Kao, Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 6706.
139. S. Fan, P. R. Villeneuve, J. Joannopoulos, E. Schubert, Phys. Rev. Lett. 1997, 78, 3294.
140. P. G. Eliseev, G. A. Smolyakov, M. Osinski, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 1999, 5, 771.
141. W. Y. Fu, K. K.-Y. Wong, H. Choi, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 133125.
142. K. Li, H. Choi, J. Appl. Phys. 2011, 109, 023107.
143. K. Li, Z. Ma, H. Choi, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 141101.
144. a) E.-J. Hong, K.-J. Byeon, H. Park, J. Hwang, H. Lee, K. Choi, H.-S. Kim, Solid-State Electron. 2009, 53, 1099
145. b) J.-M. Lee, K.-M. Chang, S.-W. Kim, C. Huh, I.-H. Lee, S.-J. Park, J. Appl. Phys. 2000, 87, 7667
146. c) X. Cao, H. Cho, S. Pearton, G. Dang, A. Zhang, F. Ren, R. Shul, L. Zhang, R. Hickman, J. Van Hove, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 232.
147. Z. Li, K. Li, H. Choi, J. Appl. Phys. 2010, 108, 114511.
148. H. Gong, X. Hao, Y. Wu, B. Cao, W. Xia, X. Xu, Mater. Sci. Eng.: B 2011, 176, 1028.
149. C. Du, C. Geng, H. Zheng, T. Wei, Y. Chen, Y. Zhang, K. Wu, Q. Yan, J. Wang, J. Li, Jpn. J. Appl. Phys. 2013, 52, 040207.
150. a) E. Matioli, M. Iza, Y. S. Choi, F. Wu, S. Keller, H. Masui, E. Hu, J. Speck, C. Weisbuch, Phys. Status Solidi (c) 2009, 6, S675
151. b) J. J. Wierer, A. David, M. M. Megens, Nat. Photon. 2009, 3, 163.
152. K. Li, K. Zang, S. Chua, H. Choi, Appl. Phys. Lett. 2013, 102, 181117.
153. a) O. Mayrock, H.-J. Wünsche, F. Henneberger, Phys. Rev. B 2000, 62, 16870
154. b) S. Heikman, S. Keller, Y. Wu, J. S. Speck, S. P. DenBaars, U. K. Mishra, J. Appl. Phys. 2003, 93, 10114
155. c) E. Yu, X. Dang, P. Asbeck, S. Lau, G. Sullivan, J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 1742.
156. C.-Y. Wang, L.-Y. Chen, C.-P. Chen, Y.-W. Cheng, M.-Y. Ke, M.-Y. Hsieh, H.-M. Wu, L.-H. Peng, J. Huang, Opt. Express 2008, 16, 10549.
157. a) T.-H. Hsueh, H.-W. Huang, C.-C. Kao, Y.-H. Chang, M.-C. Ou-Yang, H.-C. Kuo, S.-C. Wang, Jpn. J. Appl. Phys 2005, 44, 2661
158. b) L. Chen, C. Li, J. Tan, L. Huang, Y. Wu, J. Huang, IEEE J. Quantum Electron. 2013, 49, 224
159. P. Cheyssac, M. Sacilotti, G. Patriarche, J. Appl. Phys. 2006, 100, 044315.
160. S.-Y. Kuo, C. Kei, C. Hsiao, C. Chao, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 695.
161. W. Bergbauer, M. Strassburg, C. Kölper, N. Linder, C. Roder, J. Lähnemann, A. Trampert, S. Fündling, S. Li, H. Wehmann, Nanotechnology 2010, 21, 305201.
162. M.-Y. Hsieh, C.-Y. Wang, L.-Y. Chen, M.-Y. Ke, J. Huang, IEEE J. Quantum Electron. 2008, 44, 468.
163. M.-Y. Ke, C.-Y. Wang, L.-Y. Chen, H.-H. Chen, H.-L. Chiang, Y.-W. Cheng, M.-Y. Hsieh, C.-P. Chen, J. Huang, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2009, 15, 1242.
164. L.-Y. Chen, Y.-Y. Huang, C.-H. Chang, Y.-H. Sun, Y.-W. Cheng, M.-Y. Ke, C.-P. Chen, J. Huang, Opt. Express 2010, 18, 7664.
165. Q. Li, K. R. Westlake, M. H. Crawford, S. R. Lee, D. D. Koleske, J. J. Figiel, K. C. Cross, S. Fathololoumi, Z. Mi, G. T. Wang, Opt. Express 2011, 19, 25528.
166. H. Park, K. H. Baik, J. Kim, F. Ren, S. J. Pearton, Opt. Express 2013, 21, 12908.
167. Y.-Y. Huang, L.-Y. Chen, C.-H. Chang, Y.-H. Sun, Y.-W. Cheng, M.-Y. Ke, Y.-H. Lu, H.-C. Kuo, J. Huang, Nanotechnology 2011, 22, 045202.
168. a) R.-M. Lin, Y.-C. Lu, Y.-L. Chou, G.-H. Chen, Y.-H. Lin, M.-C. Wu, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 261105
169. b) C. Lee, H. Kuo, Y. Lee, M. Tsai, T. Lu, S. Wang, C. Kuo, IEEE Photon. Technol. Lett. 2008, 20, 184.
170. a) Y. Zhao, D. Hibbard, H. Lee, K. Ma, W. So, H. Liu, J. Electron. Mater. 2003, 32, 1523
171. b) J. H. Ryu, H. Y. Kim, H. K. Kim, Y. S. Katharria, N. Han, J. H. Kang, Y. J. Park, M. Han, B. D. Ryu, K. B. Ko, Opt. Express 2012, 20, 9999.
172. a) S. Lester, F. Ponce, M. Craford, D. Steigerwald, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1249
173. b) J. K. Kim, H. Luo, Y. Xi, J. M. Shah, T. Gessmann, E. F. Schubert, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, G105.
174. Y.-J. Lee, C.-J. Lee, C.-H. Chen, IEEE J. Quantum Electron. 2011, 47, 636.
175. B. Kim, H. Jung, S. Kim, J. Bang, J. Kim, IEEE Photon. Technol. Lett. 2009, 21, 700.
176. Y.-C. Chang, J.-K. Liou, W.-C. Liu, IEEE Electron Device Lett. 2013, 34, 777.
177. H. Naoi, M. Narukawa, H. Miyake, K. Hiramatsu, J. Cryst. Growth 2003, 248, 573.
178. S. J. An, Y. J. Hong, G. C. Yi, Y. J. Kim, D. K. Lee, Adv. Mater. 2006, 18, 2833.
179. K. Ueda, Y. Tsuchida, N. Hagura, F. Iskandar, K. Okuyama, Y. Endo, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 101101.
180. Q. Li, J. J. Figiel, G. T. Wang, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 231105.
181. J. Yang, T. Wei, Z. Huo, Q. Hu, Y. zhang, R. Duan, J. Wang, J. Cryst. Growth 2013. DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2013.11.003.
182. H.-W. Huang, H. Kuo, J. Chu, C. Lai, C. Kao, T. Lu, S. Wang, R. Tsai, C. Yu, C. Lin, Nanotechnology 2006, 17, 2998.
183. J. Ye, Y. Zhao, L. Tang, L.-M. Chen, C. Luk, S. Yu, S. Lee, S. Lau, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 263101.
184. G. Verzellesi, D. Saguatti, M. Meneghini, F. Bertazzi, M. Goano, G. Meneghesso, E. Zanoni, J. Appl. Phys. 2013, 114, 071101.
185. Y. Zhang, H. Zheng, E. Guo, Y. Cheng, J. Ma, L. Wang, Z. Liu, X. Yi, G. Wang, J. Li, J. Appl. Phys. 2013, 113, 014502.