The application of molecular dynamics to the study of plasma-surface interactions: CFx with silicon

International Reviews in Physical Chemistry

Volumn 27, Issue 2, 2008, Pages 229-271

  Gou, F ^a   Kleyn, A W ^a,b   Gleeson, M A ^a  

^a FOM INSTITUTE FOR PLASMA PHYSICS RIJNHUIZEN   (Netherlands)

^b LEIDEN UNIVERSITY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 41849094049     PISSN: 0144235X     EISSN: 1366591X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/01442350801928014     Document Type: Article

References (133)

1. J. A. Bondur, J. Vac. Sci. Technol. 13, 1023 (1976).
2. L. A. Brussaard, A. Fasolino, and T. Janssen, Phys. Rev. B 63, 214302 (2001).
3. J. P. Chang and J. W. Coburn, J. Vac. Sci. Technol. A 21, S145 (2003).
4. T. P. Chow and A. J. Steckl, J. Electrochem. Soc. 131, 2325 (1984).
5. J. W. Coburn, Vacuum 38, 947 (1988).
6. V. M. Donnelly, D. L. Flamm, and D. E. Ibbotson, J. Vac. Sci. Technol. A 1, 626 (1983).
7. H. W. Lehmann, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1881 (1988).
8. R. G. Poulsen, J. Vac. Sci. Technol. 14, 266 (1977).
9. K. L. Steffens and M. A. Sobolewski, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 517 (1999).
10. K. L. Steffens and M. A. Sobolewski, J. Appl. Phys. 96, 71 (2004).
11. H. F. Winters and J. W. Coburn, Surf. Sci. Rep. 14, 161 (1992).
12. K. Yonekura, K. Yoshikawa, Y. Fujiwara, et al., Thin Solid Films 515, 5012 (2007).
13. M. J. Barela, H. M. Anderson, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 408 (2005).
14. J. P. Booth, Pure Appl. Chem. 74, 397 (2002).
15. J. P. Booth, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 249 (1999).
16. J. P. Booth, G. Cunge, F. Neuilly, et al., Plasma Sources Sci. Technol. 7, 423 (1998).
17. G. Cunge, M. Kogelschatz, O. Joubert, et al., Plasma Sources Sci. Technol. 14, S42 (2005).
18. T. Y. Jung, D. H. Kim, H. B. Lim, et al., Chem. Soc. 27, 373 (2006).
19. M. Kogelschatz, G. Cunge, and N. Sadeghi, J. Phys. D: Appl. Phys. 37, 1954 (2004).
20. M. Kogelschatz, G. Cunge, and N. Sadeghi, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 33, 205 (2006).
21. G. Lombardi, K. Hassouni, F. Benedic, et al., J. Appl. Phys. 96, 6739 (2004).
22. K. Ono, T. Oomori, M. Tuda, et al., J. Vac. Sci. Technol. A 10, 1071 (1992).
23. E. C. Rangel, N. C. da Cruz, M. A. B. de Moraes, et al., Instrum. Meth. B 141, 211 (1998).
24. I. P. Vinogradov, A. Dinkelmann, and A. Lunk, J. Phys. D: Appl. Phys. 37, 3000 (2004).
25. R. D. Vispute, S. Choopun, R. Enck, et al., J. Electron. Mater. 28, 275 (1999).
26. G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 34 (1993).
27. Y. Tezuka, N. Kitano, and N. Nakano, J. Electrochem. Soc. 142, 3569 (1995).
28. C. Hohle, N. Heckmann, M. Sebald, et al., J. Microlith. Microfab. 4, 043009 (2005).
29. I. T. Martin, G. S. Malkov, C. I. Butoi, et al., J. Vac. Sci. Technol. A 22, 227 (2004).
30. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 175 (2001).
31. C. F. Abrams and D. B. Graves, Thin Solid Films 374, 150 (2000).
32. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3006 (1998).
33. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 86, 5938 (1999).
34. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 88, 3734 (2000).
35. M. E. Barone and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 77, 1263 (1995).
36. D. W. Brenner, Phys. Rev. B 42, 9458 (1990).
37. F. Gou, M. A. Gleeson, and A. W. Kleyn, Phys. Chem. Chem. Phys. 8, 5522 (2006).
38. B. A. Helmer and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 2252 (1997).
39. D. Humbird and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 96, 791 (2004).
40. I. K. Jang and S. B. Sinnott, J. Phys. Chem. B 108, 18993 (2004).
41. L. W. Keri, I. B. Carmen, and R. F. Ellen, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1688 (2003).
42. M. G. Luca, H. L. Jan, A. Fasolino, et al., Phys. Rev. B 72, 214103 (2005).
43. C. Carbogno, A. Gross, and M. Rohlfing, Appl. Phys. A - Mater. 88, 579 (2007).
44. A. Gross, A. Eichler, J. Hafner, et al., Surf. Sci. 539, L542 (2003).
45. A. Gross, Surf. Sci. 500, 347 (2002).
46. M. Lischka and A. Gross, Phys. Rev. B 65, 075420 (2002).
47. A. Gross, Phys. Status Solidi B 217, 389 (2000).
48. A. Gross, Surf. Sci. Rep. 32, 291 (1998).
49. T. Ezaki and T. Ohno, Jpn J. Appl. Phys. 140, 2115 (2001).
50. J. R. Engstrom, M. M. Nelson, and T. Engel, Surf. Sci. 215, 437 (1989).
51. K. Sasata, T. Yokosuka, H. Kurokawa, et al., Jpn J. Appl. Phys. 142, 1859 (2003).
52. P. Ho, J. E. Johannes, R. J. Buss, et al., J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2344 (2001).
53. C. Kohler and T. Frauenheim, Surf. Sci. 600, 453 (2006).
54. S. D. Athavale and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 966 (1995).
55. F. Gou, M. A. Gleeson, J. Villette, et al., Nucl. Instrum. Meth. B 247, 244 (2006).
56. D. B. Graves and D. Humbird, Appl. Surf. Sci. 192, 72 (2002).
57. D. Humbird and D. B. Graves, J. Chem. Phys. 120, 2405 (2004).
58. D. Humbird and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 96, 2466 (2004).
59. C. T. Reeves, B. A. Ferguson, C. B. Mullins, et al., J. Chem. Phys. 111, 7567 (1999).
60. T. A. Schoolcraft, A. M. Diehl, A. B. Steel, et al., J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1861 (1995).
61. F. Gou, L. Z. T. Chen, C. Meng, et al., Appl. Phys. A - Mater. 88, 385 (2007).
62. F. Gou, Z. Chen, and C. Zhiqian, Eur. Phys. J. - Appl. Phys. 38, 129 (2007).
63. F. Gou, M. A. Gleeson, and A. W. Kleyn, Surf. Sci. 601, 4250 (2007).
64. F. Gou, M. A. Gleeson, and A. W. Kleyn, Surf. Sci. 601, 3965 (2007).
65. F. Gou, A. W. Kleyn, and M. A. Gleeson, Nucl. Instrum. Meth. B 258, 52 (2007).
66. F. Gou, M. C. Liang, Z. Chen, et al., Appl. Surf. Sci. 253, 8743 (2007).
67. F. Gou, C. L. Meng, L. Z. Chen, et al., J. Vac. Sci. Technol. A 25, 680 (2007).
68. F. Gou, C. L. Meng, Z. T. Zhouling, et al., Appl. Surf. Sci. 253, 8517 (2007).
69. F. Gou, Q. Xie, L. Zhu, et al., Nucl. Instrum. Meth. B 248, 113 (2006).
70. F. H. Stillinger and T. A. Weber, Phys. Rev. Lett. 62, 2144 (1989).
71. F. H. Stillinger and T. A. Weber, J. Chem. Phys. 88, 5123 (1988).
72. J. Tersoff, Phys. Rev. Lett. 61, 2879 (1988).
73. J. Tersoff, Phys. Rev. B 38, 9902 (1988).
74. J. Tersoff, Phys. Rev. B 39, 5566 (1989).
75. J. Tersoff, Phys. Rev. B 37, 6991 (1988).
76. J. Tersoff, Phys. Rev. Lett. 56, 632 (1986).
77. D. W. Brenner, O. A. Shenderova, J. A. Harrison, et al., J. Phys. C - Condens. Mat. 14, 783 (2002).
78. B. J. Garrison and D. Srivastava, Annu. Rev. Phys. Chem. 46, 373 (1995).
79. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 411 (2000).
80. C. F. Abrams and D. B. Graves, IEEE Trans. Plasma Sci. 27, 1426 (1999).
81. D. Humbird and D. B. Graves, J. Chem. Phys. 120, 2405 (2004).
82. J. Tanaka, C. F. Abrams, and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 938 (2000).
83. P. C. Weakliem and E. A. Carter, Abstr. Pap. Am. Chem. Soci. 204, 4 (1992).
84. R. L. C. Vink, G. T. Barkema, W. F. van der Weg, et al., J. Non-Cryst. Solids 282, 248 (2001).
85. L. Zhang and J. Y. Feng, Nucl. Instrum. Meth. B 234, 487 (2005).
86. Y. Kadiri, N. Jakse, J. F. Wax, et al., J. Non-Cryst. Solids 312-314, 143 (2002).
87. H. W. Lu, J. Q. Xie, and J. Y. Feng, Nucl. Instrum. Meth. B 170, 71 (2000).
88. B. Weber and K. Gartner, Nucl. Instrum. Meth. B 175, 119 (2001).
89. P. C. Weakliem, C. J. Wu, and E. A. Carter, Phys. Rev. Lett. 69, 200 (1992).
90. P. C. Weakliem and E. A. Carter, J. Chem. Phys. 98, 737 (1993).
91. L. E. Carter and E. A. Carter, J. Phys. Chem. 100, 873 (1996).
92. F. Gou, M. A. Gleeson, and A. W. Kleyn, Surf. Sci. 601, 76 (2007).
93. H. C. Andersen, J. Chem. Phys. 72, 2384 (1980).
94. S. Nose, J. Chem. Phys. 81, 511 (1984).
95. H. J. C. Berendsen, J. P. M. Postma, W. F. V. Gunsteren, et al., J. Chem. Phys. 81, 3684 (1984).
96. P. Erhart and K. Albe, Appl. Surf. Sci. 226, 12 (2004).
97. S. Nose and M. L. Klein, Phys. Rev. B 33, 339 (1986).
98. S. Nose and M. L. Klein, Phys. Rev. Lett. 53, 818 (1984).
99. W. G. Hoover, Phys. Rev. A 31, 1695 (1985).
100. W. G. Hoover, Phys. Rev. A 34, 2499 (1986).
101. D. Humbird and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 96, 65 (2004).
102. H. P. Kaukonen and R. M. Nieminen, Phys. Rev. Lett. 68, 620 (1992).
103. J. L. Mauer, J. S. Logan, L. B. Zielinski, et al., J. Vac. Sci. Technol. 15, 1734 (1978).
104. Y.-Y. Tu, T. J. Chuang, and H. F. Winters, Phys. Rev. B 23, 823 (1981).
105. P. G. M. Sebel, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2759 (2000).
106. K. L. Williams and E. R. Fisher, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1024 (2003).
107. D. Humbird and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 31 (2005).
108. D. W. Hess, Annu. Rev. Mater Sci. 16, 163 (1986).
109. H. F. Winters and J. W. Coburn, Surf. Sci. Rep. 14, 161 (1992).
110. D. L. Flamm, V. M. Donnelly, and D. E. Ibbotson, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 23 (1983).
111. A. Galijatovic, A. Darcy, B. Acree, et al., J. Phys. Chem. 100, 9471 (1996).
112. T. A. Schoolcraft and B. J. Garrison, J. Am. Chem. Soc. 113, 8221 (1991).
113. G. V. Gadiyak, Y. N. Morokov, and D. N. Mukhin, Appl. Surf. Sci. 60-1, 131 (1992).
114. M. J. Vasile and F. A. Stevie, J. Appl. Phys. 53, 3799 (1982).
115. G. P. Kota, J. W. Coburn, and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 85, 74 (1999).
116. F. Greer, D. Fraser, J. W. Coburn, et al., J. Appl. Phys. 94, 7453 (2003).
117. J. W. Coburn, Pure Appl. Chem. 64, 709 (1992).
118. V. M. Bermudez, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 3478 (1992).
119. A. Darcy, A. Galijatovic, R. Barth, et al., J. Mol. Graphics Model. 14, 260 (1996).
120. C. W. Lo, P. R. Varekamp, D. K. Shuh, et al., Surf. Sci. 292, 171 (1993).
121. M. R. Tate, D. Gosalvez-Blanco, D. P. Pullman, et al., J. Chem. Phys. 111, 3679 (1999).
122. M. R. Tate, D. P. Pullman, Y. L. Li, et al., J. Chem. Phys. 112, 5190 (2000).
123. C. J. Wu and E. A. Carter, J. Am. Chem. Soc. 113, 9061 (1991).
124. C. J. Wu and E. A. Carter, Phys. Rev. B 45, 9065 (1992).
125. C. Yang, H. C. Kang, and E. S. Tok, Surf. Sci. 465, 9 (2000).
126. K. Ninomiya, K. Suzuki, S. Nishimatsu, et al., J. Appl. Phys. 62, 1459 (1987).
127. T. Aoki and J. Matsuo, Nucl. Instrum. Meth. B 241, 594 (2005).
128. H. Toyoda, H. Morishima, R. Fukute, et al., J. Appl. Phys. 95, 5172 (2004).
129. T. Sikola, D. G. Armour, and J. A. VandenBerg, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3156 (1996).
130. J. W. Coburn, H. F. Winters, and T. J. Chuang, J. Appl. Phys. 48, 3532 (1977).
131. J. W. Coburn, Appl. Phys. A - Mater. 59, 451 (1994).
132. J. J. Vegh, D. Humbird, and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 1598 (2005).
133. F. Gou, A. W. Kleyn, M. A. Gleeson, In preparation.