Reaction layer dynamics in ion-assisted Si/XeF2 etching: Temperature dependence

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 18, Issue 6, 2000, Pages 2759-2769

  Sebel, P G M ^a   Hermans, L J F ^a   Beijerinck, H C W ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL BONDS; CHEMISORPTION; CRYSTAL ORIENTATION; FLUORINE COMPOUNDS; ION BOMBARDMENT; MOLECULAR BEAMS; SEMICONDUCTING SILICON; SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE;

ION FLUXES;

ETCHING;

EID: 0034315724     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1316102     Document Type: Article

References (19)

1. H. F. Winters, J. Appl. Phys. 49, 5165 (1978).
2. G. S. Oehrlein and H. L. Williams, J. Appl. Phys. 62, 662 (1987).
3. M. J. M. Vugts, M. F. A. Eurlings, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2780 (1996).
4. C. B. Mullins and J. W. Coburn, J. Appl. Phys. 76, 7562 (1994).
5. H. F. Winters and J. W. Coburn, Surf. Sci. Rep. 14, 161 (1992).
6. D. C. Gray, I. Teppermeister, and H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 1243 (1993).
7. F. R. McFeely, J. F. Morar, N. D. Shinn, G. Landgren, and F. J. Himpsel, Phys. Rev. B 30, 764 (1984).
8. F. R. McFeely, J. F. Morar, and F. J. Himpsel, Surf. Sci. 165, 277 (1986).
9. C. W. Lo, D. K. Shuh, V. Chakarian, T. D. Durbin, P. R. Varekamp, and J. A. Yarmoff, Phys. Rev. B 47, 15648 (1993).
10. P. G. M. Sebel, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3368 (1999).
11. M. J. M. Vugts, G. L. J. Verschueren, M. F. A. Eurlings, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2766 (1996).
12. M. J. M. Vugts, G. J. P. Joosten, A. van Oosterum, H. A. J. Senhorst, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 2999 (1994).
13. M. J. M. Vugts, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2820 (1996).
14. M. J. M. Vugts, L. J. F. Hermans, and H. C. W. Beijerinck, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2138 (1996).
15. V. M. Bermudez, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 3478 (1992).
16. J. A. Dagata, D. W. Squire, C. S. Dulcey, D. S. Y. Hsu, and M. C. Lin, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 1495 (1987).
17. D. A. King, CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 7, 167 (1978).
18. D. J. D. Sullivan, H. C. Flaum, and A. C. Kummel, J. Phys. Chem. 97, 12051 (1993).
19. J. W. Coburn, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1417 (1994).