-
24
-
-
42949108738
-
-
B. Z. Liu Y. F. Wang T. T. Ho K. K. Lew S. M. Eichfeld J. M. Redwing T. S. Mayer S. E. Mohney J. Vac. Sci. Technol., A 2008 26 370
-
(2008)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.26
, pp. 370
-
-
Liu, B.Z.1
Wang, Y.F.2
Ho, T.T.3
Lew, K.K.4
Eichfeld, S.M.5
Redwing, J.M.6
Mayer, T.S.7
Mohney, S.E.8
-
27
-
-
33744795747
-
-
D. Shir B. Z. Liu A. M. Mohammad K. K. Lew S. E. Mohney J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2006 24 1333
-
(2006)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom.
, vol.24
, pp. 1333
-
-
Shir, D.1
Liu, B.Z.2
Mohammad, A.M.3
Lew, K.K.4
Mohney, S.E.5
-
39
-
-
84857315722
-
Passivation and Characterisation of Germanium Surfaces
-
Springer, Berlin
-
S. R. Amy and Y. J. Chabal, Passivation and Characterisation of Germanium Surfaces., Advanced Gate Stacks for High-Mobility Semiconductors, Springer, Berlin, 2007, 27
-
(2007)
Advanced Gate Stacks for High-Mobility Semiconductors
, vol.27
-
-
Amy, S.R.1
Chabal, Y.J.2
-
47
-
-
31144457510
-
-
S. Rivillon Y. J. Chabal L. J. Webb D. J. Michalak N. S. Lewis M. D. Halls K. Raghavachari J. Vac. Sci. Technol., A 2005 23 1100
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.23
, pp. 1100
-
-
Rivillon, S.1
Chabal, Y.J.2
Webb, L.J.3
Michalak, D.J.4
Lewis, N.S.5
Halls, M.D.6
Raghavachari, K.7
-
56
-
-
0032021791
-
-
A. B. Sieval A. L. Demirel J. W. M. Nissink M. R. Linford J. H. van der Maas W. H. de Jeu H. Zuilhof E. J. R. Sudholter Langmuir 1998 14 1759
-
(1998)
Langmuir
, vol.14
, pp. 1759
-
-
Sieval, A.B.1
Demirel, A.L.2
Nissink, J.W.M.3
Linford, M.R.4
Van Der Maas, J.H.5
De Jeu, W.H.6
Zuilhof, H.7
Sudholter, E.J.R.8
-
64
-
-
61849142163
-
-
L. Scheres R. Achten M. Giesbers L. de Smet A. Arafat E. J. R. Sudholter A. T. M. Marcelis H. Zuilhof Langmuir 2009 25 1529
-
(2009)
Langmuir
, vol.25
, pp. 1529
-
-
Scheres, L.1
Achten, R.2
Giesbers, M.3
De Smet, L.4
Arafat, A.5
Sudholter, E.J.R.6
Marcelis, A.T.M.7
Zuilhof, H.8
-
65
-
-
14744269444
-
-
Q. Y. Sun L. de Smet B. van Lagen M. Giesbers P. C. Thune J. van Engelenburg F. A. de Wolf H. Zuilhof E. J. R. Sudholter J. Am. Chem. Soc. 2005 127 2514
-
(2005)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.127
, pp. 2514
-
-
Sun, Q.Y.1
De Smet, L.2
Van Lagen, B.3
Giesbers, M.4
Thune, P.C.5
Van Engelenburg, J.6
De Wolf, F.A.7
Zuilhof, H.8
Sudholter, E.J.R.9
-
67
-
-
0033573088
-
-
J. M. Buriak M. P. Stewart T. W. Geders M. J. Allen H. C. Choi J. Smith D. Raftery L. T. Canham J. Am. Chem. Soc. 1999 121 11491
-
(1999)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.121
, pp. 11491
-
-
Buriak, J.M.1
Stewart, M.P.2
Geders, T.W.3
Allen, M.J.4
Choi, H.C.5
Smith, J.6
Raftery, D.7
Canham, L.T.8
-
84
-
-
0346499204
-
-
M. P. Stewart F. Maya D. V. Kosynkin S. M. Dirk J. J. Stapleton C. L. McGuiness D. L. Allara J. M. Tour J. Am. Chem. Soc. 2004 126 370
-
(2004)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.126
, pp. 370
-
-
Stewart, M.P.1
Maya, F.2
Kosynkin, D.V.3
Dirk, S.M.4
Stapleton, J.J.5
McGuiness, C.L.6
Allara, D.L.7
Tour, J.M.8
-
96
-
-
51849122512
-
-
A. Cattani-Scholz D. Pedone M. Dubey S. Neppl B. Nickel P. Feulner J. Schwartz G. Abstreiter M. Tornow ACS Nano 2008 2 1653
-
(2008)
ACS Nano
, vol.2
, pp. 1653
-
-
Cattani-Scholz, A.1
Pedone, D.2
Dubey, M.3
Neppl, S.4
Nickel, B.5
Feulner, P.6
Schwartz, J.7
Abstreiter, G.8
Tornow, M.9
-
149
-
-
33749620725
-
-
M. W. Jing M. Ni W. Song J. Lu Z. X. Gao L. Lai W. N. Mei D. P. Yu H. Q. Ye L. Wang J. Phys. Chem. B 2006 110 18332
-
(2006)
J. Phys. Chem. B
, vol.110
, pp. 18332
-
-
Jing, M.W.1
Ni, M.2
Song, W.3
Lu, J.4
Gao, Z.X.5
Lai, L.6
Mei, W.N.7
Yu, D.P.8
Ye, H.Q.9
Wang, L.10
-
153
-
-
72449162133
-
-
C. S. Guo L. B. Luo G. D. Yuan X. B. Yang R. Q. Zhang W. J. Zhang S. T. Lee Angew. Chem., Int. Ed. 2009 48 9896
-
(2009)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.48
, pp. 9896
-
-
Guo, C.S.1
Luo, L.B.2
Yuan, G.D.3
Yang, X.B.4
Zhang, R.Q.5
Zhang, W.J.6
Lee, S.T.7
-
154
-
-
77955910351
-
-
G. D. Yuan Y. B. Zhou C. S. Guo W. J. Zhang Y. B. Tang Y. Q. Li Z. H. Chen Z. B. He X. J. Zhang P. F. Wang I. Bello R. Q. Zhang C. S. Lee S. T. Lee ACS Nano 2010 4 3045
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 3045
-
-
Yuan, G.D.1
Zhou, Y.B.2
Guo, C.S.3
Zhang, W.J.4
Tang, Y.B.5
Li, Y.Q.6
Chen, Z.H.7
He, Z.B.8
Zhang, X.J.9
Wang, P.F.10
Bello, I.11
Zhang, R.Q.12
Lee, C.S.13
Lee, S.T.14
-
155
-
-
0242323535
-
-
M. Chiesa G. Amato L. Boarino E. Garrone F. Geobaldo E. Giamello Angew. Chem., Int. Ed. 2003 42 5032
-
(2003)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.42
, pp. 5032
-
-
Chiesa, M.1
Amato, G.2
Boarino, L.3
Garrone, E.4
Geobaldo, F.5
Giamello, E.6
-
163
-
-
38049163916
-
-
M. C. Lin C. J. Chu L. C. Tsai H. Y. Lin C. S. Wu Y. P. Wu Y. N. Wu D. B. Shieh Y. W. Su C. D. Chen Nano Lett. 2007 7 3656
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, pp. 3656
-
-
Lin, M.C.1
Chu, C.J.2
Tsai, L.C.3
Lin, H.Y.4
Wu, C.S.5
Wu, Y.P.6
Wu, Y.N.7
Shieh, D.B.8
Su, Y.W.9
Chen, C.D.10
-
168
-
-
56349084203
-
-
C. H. Lin C. Y. Hsiao C. H. Hung Y. R. Lo C. C. Lee C. J. Su H. C. Lin F. H. Ko T. Y. Huang Y. S. Yang Chem. Commun. 2008 5749
-
(2008)
Chem. Commun.
, pp. 5749
-
-
Lin, C.H.1
Hsiao, C.Y.2
Hung, C.H.3
Lo, Y.R.4
Lee, C.C.5
Su, C.J.6
Lin, H.C.7
Ko, F.H.8
Huang, T.Y.9
Yang, Y.S.10
-
170
-
-
76649136462
-
-
E. Stern A. Vacic N. K. Rajan J. M. Criscione J. Park B. R. Ilic D. J. Mooney M. A. Reed T. M. Fahmy Nat. Nanotechnol. 2010 5 138
-
(2010)
Nat. Nanotechnol.
, vol.5
, pp. 138
-
-
Stern, E.1
Vacic, A.2
Rajan, N.K.3
Criscione, J.M.4
Park, J.5
Ilic, B.R.6
Mooney, D.J.7
Reed, M.A.8
Fahmy, T.M.9
-
171
-
-
33846695595
-
-
E. Stern J. F. Klemic D. A. Routenberg P. N. Wyrembak D. B. Turner-Evans A. D. Hamilton D. A. LaVan T. M. Fahmy M. A. Reed Nature 2007 445 519
-
(2007)
Nature
, vol.445
, pp. 519
-
-
Stern, E.1
Klemic, J.F.2
Routenberg, D.A.3
Wyrembak, P.N.4
Turner-Evans, D.B.5
Hamilton, A.D.6
Lavan, D.A.7
Fahmy, T.M.8
Reed, M.A.9
-
172
-
-
75749140172
-
-
T. W. Lin P. J. Hsieh C. L. Lin Y. Y. Fang J. X. Yang C. C. Tsai P. L. Chiang C. Y. Pan Y. T. Chen Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2010 107 1047
-
(2010)
Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A.
, vol.107
, pp. 1047
-
-
Lin, T.W.1
Hsieh, P.J.2
Lin, C.L.3
Fang, Y.Y.4
Yang, J.X.5
Tsai, C.C.6
Chiang, P.L.7
Pan, C.Y.8
Chen, Y.T.9
-
175
-
-
77955565572
-
-
S. T. Kim D. J. Kim T. J. Kim D. W. Seo T. H. Kim S. Y. Lee K. Kim K. M. Lee S. K. Lee Nano Lett. 2010 10 2877
-
(2010)
Nano Lett.
, vol.10
, pp. 2877
-
-
Kim, S.T.1
Kim, D.J.2
Kim, T.J.3
Seo, D.W.4
Kim, T.H.5
Lee, S.Y.6
Kim, K.7
Lee, K.M.8
Lee, S.K.9
-
180
-
-
56249094058
-
-
G. J. Zhang G. Zhang J. H. Chua R. E. Chee E. H. Wong A. Agarwal K. D. Buddharaju N. Singh Z. Q. Gao N. Balasubramanian Nano Lett. 2008 8 1066
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 1066
-
-
Zhang, G.J.1
Zhang, G.2
Chua, J.H.3
Chee, R.E.4
Wong, E.H.5
Agarwal, A.6
Buddharaju, K.D.7
Singh, N.8
Gao, Z.Q.9
Balasubramanian, N.10
-
182
-
-
77949913558
-
-
G. J. Zhang L. Zhang M. J. Huang L. B. Luo G. K. I. Tay E. J. A. Lim T. G. Kang Y. Chen Sens. Actuators, B 2010 146 138
-
(2010)
Sens. Actuators, B
, vol.146
, pp. 138
-
-
Zhang, G.J.1
Zhang, L.2
Huang, M.J.3
Luo, L.B.4
Tay, G.K.I.5
Lim, E.J.A.6
Kang, T.G.7
Chen, Y.8
-
188
-
-
79960722249
-
-
L. B. Luo J. S. Jie W. F. Zhang Z. B. He J. X. Wang G. D. Yuan W. J. Zhang L. C. M. Wu S. T. Lee Appl. Phys. Lett. 2009 94
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
-
-
Luo, L.B.1
Jie, J.S.2
Zhang, W.F.3
He, Z.B.4
Wang, J.X.5
Yuan, G.D.6
Zhang, W.J.7
Wu, L.C.M.8
Lee, S.T.9
-
190
-
-
77956601688
-
-
Y. Engel R. Elnathan A. Pevzner G. Davidi E. Flaxer F. Patolsky Angew. Chem., Int. Ed. 2010 49 6830
-
(2010)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.49
, pp. 6830
-
-
Engel, Y.1
Elnathan, R.2
Pevzner, A.3
Davidi, G.4
Flaxer, E.5
Patolsky, F.6
-
191
-
-
77953085483
-
-
S. Clavaguera A. Carella L. Caillier C. Celle J. Pecaut S. Lenfant D. Vuillaume J. P. Simonato Angew. Chem.-Int. Ed. 2010 49 4063
-
(2010)
Angew. Chem.-Int. Ed.
, vol.49
, pp. 4063
-
-
Clavaguera, S.1
Carella, A.2
Caillier, L.3
Celle, C.4
Pecaut, J.5
Lenfant, S.6
Vuillaume, D.7
Simonato, J.P.8
|