Chemical and electrical passivation of silicon (111) surfaces through functionalization with sterically hindered alkyl groups

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 30, 2006, Pages 14800-14808

  Nemanick, E Joseph ^a   Hurley, Patrick T ^a   Brunschwig, Bruce S ^a   Lewis, Nathan S ^a  

^a California Institute of Technology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKYLATION; CHLORINATION; INFRARED SPECTROSCOPY; PASSIVATION; SURFACE STRUCTURE; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ALKYL GROUPS; ELECTRICAL PASSIVATION; ELECTRON TRANSFER; FUNCTIONALIZATION REACTIONS;

SILICON;

EID: 33748328163     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp057070i     Document Type: Article

References (44)

1. Linford, M. R.; Fenter, P.; Eisenberger, P. M.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3145-3155.
2. Sieval, A. B.; Demirel, A. L.; Nissink, J. W. M.; Linford, M. R.; van der Maas, J. H.; de Jeu, W. H.; Zuilhof, H.; Sudholter, E. J. R. Langmuir 1998, 14, 1759-1768.
3. Sieval, A. B.; Linke, R.; Heij, G.; Meijer, G.; Zuilhof, H.; Sudholter, E. J. R. Langmuir 2001, 17, 7554-7559.
4. Boukherroub, R.; Morin, S.; Wayner, D. D. M.; Lockwood, D. J. Phys. Status Solidi A - Appl. Res. 2000, 182, 117-121.
5. Terry, J.; Linford, M. R.; Wigren, C.; Cao, R. Y.; Pianetta, P.; Chidsey, C. E. D. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1056-1058.
6. Cicero, R. L.; Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. Langmuir 2000, 16, 5688-5695.
7. Effenberger, F.; Gotz, G.; Bidlingmaier, B.; Wezstein, M. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1998, 37, 2462-2464.
8. Boukherroub, R.; Morin, S.; Bensebaa, F.; Wayner, D. D. M. Langmuir 1999, 15, 3831-3835.
9. Buriak, J. M.; Stewart, M. P.; Geders, T. W.; Allen, M. J.; Choi, H. C.; Smith, J.; Raftery, D.; Canham, L. T. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 11491-11502.
10. Saghatelian, A.; Buriak, J.; Lih, V. S. Y.; Ghadiri, M. R. Tetrahedron 2001, 57, 5131-5136.
11. Cicero, R. L.; Chidsey, C. E. D.; Lopinski, G. P.; Wayner, D. D. M.; Wolkow, R. A. Langmuir 2002, 18, 305-307.
12. Wacaser, B. A.; Maughan, M. J.; Mowat, I. A.; Niederhauser, T. L.; Linford, M. R.; Davis, R. C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 808-810.
13. Jiang, G. L.; Niederhauser, T. L.; Davis, S. D.; Lua, Y. Y.; Cannon, B. R.; Dorff, M. J.; Howell, L. L.; Magleby, S. P.; Linford, M. R. Colloids Surf., A 2003, 226, 9-16.
14. Henry de Villeneuve, C.; Pinson, J.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N.; Allongue, P. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1997, 451, 185-195.
15. Allongue, P.; de Villeneuve, C. H.; Pinson, J.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N.; Wallart, X. Electrochim. Acta 1998, 43, 2791-2798.
16. Fidelis, A.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N. Surf. Sci. 2000, 444, L7-L10.
17. Webb, L. J.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 5404-5412.
18. Bansal, A.; Li, X. L.; Yi, S. I.; Weinberg, W. H.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 10266-10277.
19. Royea, W. J.; Juang, A.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1988-1990.
20. Bansal, A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 1067-1070.
21. Okubo, T.; Tsuchiya, H.; Sadakata, M.; Yasuda, T.; Tanaka, K. Appl. Surf. Sci. 2001, 171, 252-256.
22. Bansal, A.; Li, X.; Lauermann, I.; Lewis, N. S.; Yi, S. I.; Weinberg, W. H. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 7225-7226.
23. Dabrowski, J.; Mussig, H. J. Silicon Surfaces and Formation of Interfaces; World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd.: London, 2000.
24. Pauling, L. The Nature of the Chemical Bond; Cornell University Press: New York, 1960.
25. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Ries, R. S.; Solares, S. D.; Goddard, W. A.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 671-674.
26. Seah, M. P. In Practical Surface Analysis, 2nd ed.; Briggs, D., Seah, M. P., Eds.; John Wiley & Sons: Chichester, 1990; Vol. 1, pp 201-255.
27. Hunger, R.; Pritsche, R.; Jaeckel, B.; Jaegermann, W.; Webb, L. J.; Lewis, N. S. Phys. Rev. B 2005, 72.
28. Webb, L. J.; Nemanick, E. J.; Biteen, J. S.; Knapp, D. W.; Michalak, D. J.; Traub, M. C.; Chan, A. S. Y.; Brunschwig, B. S.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3930-3937.
29. Miyadera, T.; Koma, A.; Shimada, T. Surf. Sci. 2003, 526, 177-183.
30. Webb, L. J.; Rivillon, S.; Michalak, D. J.; Chabal, Y. J.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7349-7356.
31. Atkins, P. W. Physical Chemistry, 6th ed.; W. H. Freeman and Company: New York, 1998.
32. Yuan, S. L.; Cai, Z. T.; Jiang, Y. S. New J. Chem. 2003, 27, 626-633.
33. Ashby, E. C.; Bowers, J. R. J. Am. Chem. Soc. 1981, 103, 2242-2250.
34. Ashby, E. C.; Bowers, J.; Depriest, R. Tetrahedron Lett. 1980, 27, 3541-3542.
35. Blomberg, C.; Salinger, R. M.; Mosher, H. S. J. Org. Chem. 1969, 34, 2385-&.
36. Blomberg, C.; Mosher, H. S. J. Organomet. Chem. 1968, 13, 519-&.
37. Fellah, S.; Boukherroub, R.; Ozanam, F.; Chazalviel, J. N. Langmuir 2004, 20, 6359-6364.
38. Hurley, P. T.; Nemanick, E. J.; Lewis, N. S. To be submitted.
39. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Ries, R. S.; Solares, S. D.; Goddard, W. A.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett., in press.
40. Wu, Y. D.; Wong, C. L. J. Org. Chem. 1995, 60, 821-828.
41. Kanabus-Kaminska, J. M.; Hawaii, J. A.; Griller, D.; Chatgilialoglu, C. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 5267-5268.
42. Walsh, R. Acc. Chem. Res. 1981, 14, 246-252.
43. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 9022-9028.
44. Webb, L. J.; Michalak, D. J.: Biteen, J. S.: Brunschwig, B. S.; Chan, A. S. Y.; Knapp, D. W.; Meyer, H. M., III; Nemanick, E. J.; Traub, M. C.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B, submitted for publication.