Scanning tunneling microscopy and spectroscopy of wet-chemically prepared chlorinated Si(111) surfaces

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 47, 2006, Pages 23615-23618

  Cao, Feigen ^a   Yu, Hongbin ^a,b   Heath, James R ^a  

^a CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

^b Arizona State University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHLORINATION; ETHANE; IMAGE ANALYSIS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SILICON; SURFACE TREATMENT;

CONDUCTANCE GAP; TUNNELING SPECTROSCOPY;

SURFACE STRUCTURE;

EID: 33846089846     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp064342o     Document Type: Article

References (22)

1. Buriak, J. M. Chem. Rev. 2002, 102, 1271.
2. Weldon, M. K.; Queeney, K. T.; Eng, J. Jr.; Raghavachari, K.; Chabal, Y. Surf. Sci. 2002, 500, 859.
3. Bansal, A.; Li, X. L.; Lauermann, I.; Lewis, N. S.; Yi, S. I.; Weinberg, W. H. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 7225.
4. Royea, W. J.; Juang, A.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1988.
5. Webb, L. J.; Nemanick, E. J.; Biteen, J. S.; Knapp, D. W.; Michalak, D. J.; Traub, M. C.; Chan, A. S. Y.; Brunschwig, B. S.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3930.
6. Rivillon, S.; Chabal, Y. J.; Webb, L. J.; Michalak, D. J.; Lewis, N. S.; Halls, M. D.; Raghavachari, K. J. Vac. Sci. Technol. 2005, A23, 1100.
7. Rivillon, S.; Amy, F.; Chabal, Y. J.; Frank, M. M. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 2583.
8. Eves, B. J.; Lopinski, G. P. Surf. Sci. 2005, 579, L89.
9. Itchkawitz, B. S.; McEllistrem, M. T.; Boland, J. J. Phys. Rev. Lett. 1997, 78, 98.
10. Lopinski, G. P.; Eves, B. J.; Hul'ko, O.; Mark, C.; Patitsas, S. N.; Boukherroub, R.; Ward, T. R. Phys. Rev. B 2005, 71, 125308.
11. Solares, S. D.; Yu, H. B.; Webb, L. J.; Lewis, N. S.; Heath, J. R.; Goddard, W. A. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 3850.
12. Yu, H. B.; Solares, S. D.; Webb, L. J.; Cao, P. G; Lewis, N. S.; Heath, J. R.; Goddard, W. A. J. Phys. Chem. B 2006, in press.
13. Rohde, R. D.; Agnew, H. D.; Yeo, W. S.; Heath, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9518.
14. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 252111.
15. Hines, M. A. Ann. Rev. Phys. Chem. 2003, 54, 29.
16. Yu, H. B.; Webb, L. J.; Ries, R. S.; Solares, S. D.; Goddard, W. A.; Heath, J. R.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 671.
17. Waltenburg, H. N.; Yates, J. T., Jr. Chem. Rev. 1995, 95, 1598.
18. McEllistrem, M. T.; Haase, G.; Chen, D.; Hamers, R. J. Phys. Rev. Lett. 1993, 70, 2471.
19. Troost, D.; Koenders, L.; Fan, L. Y.; Mönch, W. J. Vac. Sci. Technol., B 1987, 5, 1119.
20. Mönch, W. J. Vac. Sci. Technol., B 1986, 4, 1085.
21. Stroscio, J. A.; Feenstra, R. M. J. Vac. Sci. Technol., B 1988, 6, 1472.
22. Lewis, N. S. Private communication.