Supercritical fluid-liquid-solid (SFLS) synthesis of Si and Ge nanowires seeded by colloidal metal nanocrystals

Advanced Materials

Volumn 15, Issue 5, 2003, Pages 437-440

  Hanrath, Tobias ^a   Korgel, Brian A ^a  

^a The University of Texas at Austin   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CRYSTAL GROWTH; CRYSTALLIZATION; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; FIELD EFFECT TRANSISTORS; SILICON; SUPERCRITICAL FLUIDS; SYNTHESIS (CHEMICAL); THICK FILMS;

VAPOR-LIQUID-SOLID (VLS) METHOD;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 0037418375     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200390101     Document Type: Article

References (29)

1. L. Ercker, Treatise on Ores and Assaying (1574), 2nd ed, translated by C. S. Smith, University of Chicago, Chicago, IL 1951, p. 193.
2. J. Franks, Nature 1956, 177, 984.
3. G. W. Sears, Acta Metall. 1955, 3, 361.
4. S. S. Brenner, Acta Metall. 1956, 4, 62.
5. R. S. Wagner, W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett. 1964, 4, 89.
6. R. S. Wagner, W. C. Ellis, K. A. Jackson, S. M. Arnold, J. Appl. Phys. 1964, 35, 2993.
7. E. R. Johnson, J. A. Amick, J. Appl. Phys. 1954, 25, 1204.
8. T. I. Kamins, R. S. Williams, D. P. Basile, H. T. J. S. Harris, J. Appl. Phys. 2001, 89, 1008.
9. A. M. Morales, C. M. Lieber, Science 1998, 279, 208.
10. X. Duan, J. Wang, C. M. Lieber, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1116.
11. M. S. Gudiksen, C. M. Lieber, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 8801.
12. M. S. Gudiksen, J. Wang, C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 2001, 106, 4062.
13. Y. Huang, X. Duan, Y. Cui, L. J. Lauhon, K. H. Kim, C. M. Lieber, Science 2001, 294, 1313.
14. X. Duan, Y. Huang, C. M. Lieber, Nano Lett. 2002, 2, 487.
15. J. C. Jonhson, H. Yan, R. D. Schaller, L. H. Haber, R. J. Saykally, P. Yang, J. Phys. Chem. B. 2001, 105, 11387.
16. J. Wang, M. S. Gudiksen, X. Duan, Y. Cui, C. M. Lieber, Science 2001, 293, 1455.
17. Y. Cui, Q. Wei, H. Park, C. M. Lieber, Science 2001, 293, 1289.
18. T. Hanrath, B. A. Korgel, J. Am. Chem. Soc. 2001, 124, 1424.
19. J. R. Heath, F. K. LeGoues, Chem. Phys. Lett. 1993, 208, 263.
20. T. J. Trentler, K. M. Hickman, S. C. Goel, A. M. Viano, P. C. Gibbons, W. E. Buhro, Science 1995, 270, 1791.
21. M. Brust, M. Walker, D. Bethell, D. J. Schiffrin, R. Whyman, J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1994, 801, 1994.
22. Y. Cui, J. Lauhon, M. S. Gudiksen, J. Wang, C. M. Lieber, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2214.
23. G. Gu, M. Burghard, G. T. Kim, G. S. Dueberg, P. W. Chiu, V. Krstic, W. O. Han, J. Appl. Phys. 2001, 90, 5747.
24. Y. Wu, P. Yang, Chem. Mater. 2000, 12, 605.
25. Y. F. Zhang, Y. H. Tang, C. Lam, N. Wang, C. S. Lee, I. Bello, S. T. Lee, J. Cryst. Growth 2000, 212, 115.
26. Y. F. Zhang, Y. H. Tang, N. Wang, C. S. Lee, I. Bello, S. T. Lee, Phys. Rev. B 2000, 61, 4518.
27. T. Y. Tan, S. T. Lee, U. Goesele, Appl. Phys. A 2002, 74, 423.
28. H. Y. Peng, N. Wang, X. T. Zhou, Y. F. Zheng, C. S. Lee, S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 2002, 359, 241.
29. G. Schluckebier, B. Predel, Z. Metallkd. 1980, 71, 535.