Pulse laser deposited nanostructured zno thin films: A review

Journal of Nanoscience and Nanotechnology

Volumn 14, Issue 2, 2014, Pages 1911-1930

  Kumar, Rajesh ^a   Kumar, Girish ^a   Umar, Ahmad ^b  

^a JCDAV College   (India)

^b NAJRAN UNIVERSITY   (Saudi Arabia)

Author keywords

Ablation; Pulsed laser deposition (PLD); Thin films; ZnO nanostructures

Indexed keywords

NANOMATERIAL; ZINC OXIDE;

ARTIFICIAL MEMBRANE; CHEMISTRY; CONFORMATION; LASER; MATERIALS TESTING; PARTICLE SIZE; PLASMA GAS; RADIATION DOSE; RADIATION EXPOSURE; REVIEW; SURFACE PROPERTY; ULTRASTRUCTURE;

LASERS; MATERIALS TESTING; MEMBRANES, ARTIFICIAL; MOLECULAR CONFORMATION; NANOSTRUCTURES; PARTICLE SIZE; PLASMA GASES; RADIATION DOSAGE; SURFACE PROPERTIES; ZINC OXIDE;

EID: 84894140377     PISSN: 15334880     EISSN: 15334899     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/jnn.2014.9120     Document Type: Review

References (173)

1. D. K. Hwang, M. S. Oh, J. H. Lim, and S. J. Park, J. Phys. D: Appl. Phys. 40, R387 (2007).
2. F. C. M. Van der pol, Ceram. Bull. 69, 1959 (1990).
3. W. W. Wensa, A. Yamada, K. Takahashi, M. Yoshino, and M. Konagai, J. Appl. Phys. 70, 7119 (1991)
4. M. C. Jun and J. H. Koh, J. Nanosci. Nanotechnol. 13, 3403 (2013).
5. Y. Chen, D. Bagnal, and T. Yao, Mater. Sci. Eng. B 75, 190 (2000);
6. C. Jeong and D. Kim, J. Nanosci. Nanotechnol. 13, 5601 (2013).
7. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B 80, 383 (2001);
8. S. Valanarasu, V. Dhanasekaran, R. Chandramohan, I. Kulandaisamy, A. Sakthivelu, and T. Mahalingam, J. Nanosci. Nanotechnol. 13, 5613 (2013).
9. H. Zhu, J. Hüpkesb, E. Bunteb, and S. M. Huang, Appl. Surf. Sci. 256, 4601 (2010);
10. (b) M. C. Jun, S. U. Park, M. S. Chae, D. J. Shin, J. G. Ha, S. M. Koo, K. J. Lee, B. M. Moon, C. Y. Song, and J. H. Koh, J. Nanosci. Nanotechnol. 13, 6312 (2013).
11. M. Berginski, J. Hüpkes, M. Schlute, G. Schöpe, H. Stiebig, and M. Wuttig, J. Appl. Phys. 101, 074903 (2007);
12. S.-J. Lee, D.-H. Kim, J. K. Kang, D. Y. Kim, H.-M. Kim, and Y. S. Han, J. Nanosci. Nanotechnol. 13, 7839 (2013).
13. Y. Wang, Z. X. Mei, H. T. Yuan, X. L. Du, J. Zou, J. F. Jia, Q. K. Xue, and Z. Zhang, J. Cryst. Growth 305, 74 (2007).
14. S. Sasa, M. Ozaki, K. Koike, M. Yano, and M. Inoue, Appl. Phys. Lett. 89, 0535021 (2006).
15. H. Tampo, K. Matsubara, A. Yamada, H. Shibata, P. Fons, M. Yamagata, H. Kanie, and S. Niki, J. Cryst. Growth 301-302, 358 (2007).
16. K. Hirano, M. Fujita, M. Sasajima, T. Kosaka, and Y. Horikoshi, J. Cryst. Growth 301-302, 370 (2007).
17. C. E. Rice, G. S. Tompa, L. G. Provost, N. Sbrockey, and J. D. Cuchiaro, Mat. Res. Symp. Proc. 764, 117 (2003).
18. Q. P. Wang, D. H. Zhang, H. L. Ma, X. H. Zhang, and X. J. Zhang, Appl. Surf. Sci. 220,12 (2003).
19. P. M. Martin, M. S. Good, J. W. Johnston, G. J. Posakony, L. J. Bond, and S. L. Crawford, Thin Solid Films 379, 253 (2000).
20. R. O. Ndong, F. Delannoy, A. Giani, A. Boyer, and A. Foucaran, Mater. Sci. Eng. B 97, 68 (2003).
21. R. O. Ndong, G. Ferblantier, M. Al Khalfioui, A. Boyer, and A. Foucaran, J. Cryst. Growth 255, 130 (2003).
22. R. Al Asmar, G. Ferblantier, F. Mailly, and A. Foucaran, Phys. Status Solidi C 2, 1331(2005).
23. R. Al Asmar, G. Ferblantier, F. Mailly, P. G. Borrut, and A. Foucaran, Thin Solid Films 473, 49 (2005).
24. S. M. Abrarov, Sh. U. Yuldashev, T. W. Kim, S. B. Lee, H. Y. Kwon, and T. W. Kang, J. Lumin. 114, 118 (2005).
25. S. M. Abrarov, Sh. U. Yuldashev, T. W. Kim, S. B. Lee, Y. H. Kwon, and T. W. Kang, Opt. Commun. 250, 111 (2005).
26. R. Ayouchi, D. Leinen, F. Martin, M. Gabas, E. Dalchiele, and J. R. Ramos-Barrado, Thin Solid Films 426, 68 (2003);
27. D. Wang, Z. Wang, G. Ping, D. Chen, M. Fan, L. Bai, L. Qin, C. Lv, and K. Shu, Sci. Adv. Mater. 5, 1642 (2013).
28. T. Pauportě and D. Lincot, Electrochim. Acta 45, 3345 (2000);
29. J. Wang, F. Qu, and X. Wu, Sci. Adv. Mater. 5, 1052 (2013);
30. C. H. Liang, W. S. Hwang, and W. L. Wang, Sci. Adv. Mater. 5, 844 (2013).
31. E. B. Yousfi, J. Fouache, and D. Lincot, Appl. Surf. Sci. 153, 223 (2000);
32. C. Sun and D. Xue, Sci. Adv. Mater. 5, 909 (2013);
33. S. H. Kim, J. H. Kim, S. R. P. Silva, and Y. B. Hahn, Sci. Adv. Mater. 5, 499 (2013).
34. L. Znaidi, G. J. A. A. S. Illia, S. Benyahia, C. Sanchez, and A. V. Kanaev, Thin Solid Films 428, 257 (2003);
35. S. Al-Heniti, A. Umar, R. I. Badran, H. M. Zaki, and A. Al-Hajry, Sci. Adv. Mater. 5, 301 (2013).
36. G. Srinivasan and J. Kumar, Cryst. Res. Technol. 41, 893 (2006);
37. C. Song, Y. Zhou, and D. Wang, Sci. Adv. Mater. 5, 166 (2013);
38. S.-R. Jian, Y.-Y. Lin, and W.-C. Ke, Sci. Adv. Mater. 5, 7 (2013).
39. S. B. Yahia, L. Znaidi, A. Kanaev, and J. P. Petitet, Spectrochim. Acta, Part A 71, 1234 (2008)
40. D. P. Mohapatra, S. K. Brar, P. Picard, and R. D. Tyagi, Sci. Adv. Mater. 5, 57 (2013)
41. R. Wahab, A. Umar, S. Dwivedi, K. J. Tomar, H.-S. Shin, and I. H. Hwang, Sci. Adv. Mater. 5, 1571 (2013).
42. L. Znaidi, Mater. Sci. Eng., B 174, 18 (2010);
43. L. Balakrishnan, S. R. Barman, and N. Gopalakrishnan, Sci. Adv. Mater. 5, 462 (2013).
44. H. M. Smith and A. F. Turner, Appl. Opt. 4, 147 (1965);
45. S. R. Jian, Y. Y. Lin, and W. C. Ke, Sci. Adv. Mater. 5, 7 (2013).
46. Dijkkamp, T. Venkatesan, X. D. Wu, S. A. Shareen, N. Jiswari, Y. H. Min-Lee, W. L. McLean, and M. Croft, Appl. Phys. Lett. 51, 619 (1987);
47. N. Bouropoulos, Sci. Adv. Mater. 5, 46 (2013);
48. D. P. Mohapatra, S. K. Brar, P. Picard, and R. D. Tyagi, Sci. Adv. Mater. 5, 57 (2013).
49. B. Douglas, Chrisey, and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, John Wiley & Sons, ISBN 0-471-59218-8 (1994);
50. J. Schou, Appl. Sur. Sci. 255, P5191 (2009).
51. B. Douglas, Chrisey, and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, John Wiley & Sons, ISBN 0-471-59218-8 (1994);
52. J. Schou, Appl. Sur. Sci. 255, P5191 (2009).
53. N. R. M. Ashfold, F. Claeyssens, G. M. Fuge, and S. J. Henley, Chem. Soc. Review 33, 23 (2004).
54. S. J. Henley, M. N. R. Ashfold, and D. Cherns, Surf. Coat. Tech. 177, 271 (2004).
55. M. Oszwaldowski, T. Berus, P. Sydorczuk, and J. Rzeszutek, Rev. Sci. Instrum. 74, 3160 (2003).
56. A. Ichimiya and P. I. Cohen, Reflection High Energy Electron Diffraction, Cambridge University Press, Cambridge, UK (2004).
57. Y. Horio, Y. Hashimoto, and A. Ichimaya, Appl. Surf. Sci. 100-101, 292 (1996).
58. M. Y. Chern, A. Gupta, B. W. Hussey, and T. M. Shaw, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 637 (1993).
59. Z. L. Wang, Reflection Electron Microscopy and Spectroscopy for Surface Analysis, Cambridge University Press (1996).
60. R. Kelly and A. Miotello, Appl. Phys. A 69, S 67 (1994).
61. S. Harilal, C. V. Bindhu, V. P. N. Nampoori, and C. P. Vallabhan, Appl. Phys. B 66, 633 (1998).
62. D. H. Lowndes, D. B.Geohegan, A. A. Puretzky, D. P. Norton, and C. M. Rouleau, Science 273, 898 (1996).
63. C. Phipps, Laser Ablation and Its Application, Springer, New Maxico (2007).
64. C.R Phipps, Jr, T. P. Turner, R. F. Harrison, G. W. York, W. Z. Osborne, G. K. Anderson, X. F. Corlis, L. C. Haynes, H. S. Steele, Spicochi, and T. R. King, J. Appl. Phys. 64, 1083 (1988).
65. J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995);
66. S. S. Harilal, C. V. Bindhu, M. S. Tillack, F. Najmabadi, and A. C. Gaeris, J. Appl. Phys. 93, P2381 (2003).
67. R. Khandelwal, A. P. Singh, A. Kapoor, S. Grigorescub, P. Migliettac, and N. E. Stankovad, Optics and Laser Technology 40, 247 (2008).
68. A. Ohtomo and A. Tsukazaki, Semicond. Sci. Technol. 20, S1 (2005).
69. R. K. Singh and J. Narayan, Phys. Rev. B 41, 13 (1990).
70. M. V. Allmen, J. Appl. Phys. 47, 5460 (1976).
71. D. J. Krajnovich, J. E. Vazquez, and R. J. Savoy, Science 259, 1590 (1993).
72. E. W. Kreutz, Appl. Surf. Sci. 606, 127 (1998).
73. S. A. Chambers, Surface Science Report 39, 105 (2000).
74. G. Koster, G. J. H. M. Rijnders, D. H. A. Blank, and H. Rogalla, Appl. Phys. Lett. 74, 3729 (1999).
75. H. Kim, C. M. Gilmore, J. S. Horwitz, A. Pique, H. Murata, G. P. Kuhsto, R. Schlaf, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 76, 259 (2000).
76. R. Eason, Pulsed Laser Deposition of Thin Films Applications-Led Growth of Functional Materials, John Wiley & Sons. Inc., Hoboken, New Jersey (2007).
77. M. Conor, P. Hough, C. John, and P. M. Jean, Appl. Sur. Sci. 255, 5338 (2009).
78. S. G. Mayr, M. Moske, and K. Samwer, Appl. Phys. Lett. 75, 4091 (1999).
79. C. Jagadish and S. Pearton, Zinc Oxide Bulk, Thin Films and Nanostructures, Elsevier Limited, New York (2006).
80. A. Fouchet, W. Prellier, and B. Mercey, J. Appl. Phys. 96, 3226 (2000).
81. S. Cho, J. Kor. Phys. Soc. 49, 985 (2006).
82. J. N. Zeng, J. K. Low, Z. M. Ren, T. Liew, and Y. F. Lu, Appl. Sur. Sci. 197-198, 362 (2002).
83. S. Barik, A. K. Srivastava, P. Misra, R. V. Nandedkar, and L. M. Kukreja, Sol. Stat. Com. 127, 463 (2003).
84. M. Liu, X. Q. Wei, Z. G. Zhang, G. Sun, C. S. Chen, C. S. Xue, H. Z. Zhuang, and B. Y. Man, Appl. Sur. Sci. 252, 4321 (2006).
85. H. Jianting, Z. Huizhao, X. Chengshan, W. Shuyun, H. Lijun, and X. Shoubin, Rare Metals 25, 161 (2006).
86. S. J. Kang, Y. H. Joung, H. H. Shin, and Y. S. Yoon, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 19, 1073 (2008).
87. C. S. Son, S. M. Kim, Y. H. Kim, S. I. Kim, Y. T. Kim, K. H. Yoon, and I. H. Choi, J. Korean Phys. Soc. 45, S685 (2004).
88. Y. R. Ryu, S. Zhu, J. D. Budai, H. R. Chandrasekhar, P. F. Miceli, nd H. W. White, J. Appl. Phys. 88, 201 (2000).
89. S. Im, B. J. Jin, and S. Yi, J. Appl. Phys. 87, 4558 (2000).
90. S. Cho, J. Ma, Y. Kim, Y. Sun, G. K. L. Wong, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 75, 2761 (1999).
91. S. Choopun, R. D. Vispute, W. Noch, A. Balsamo, R. P. Sharma, and T. Venkatesan, A. Iliadis, and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 75, 3947 (1999).
92. R. Ayouchi, L. Bentes, C. Casteleiro, O. Conde, C. P. Marques, E. Alves, A. M. C. Moutinho, H. P. Marques, O. Teodoro, and R. Schwarz, Appl. Sur. Sci. 255, 5917 (2009).
93. W. Zhaoyang and H. Lizhong, Vacuum 83, 906 (2009).
94. B. I. Kim, S. C. Kim, B. C. Shin, T. S. Kim, M. Y. Jung, and Y. S. Yu, Physica B 376-377, 752 (2006).
95. M. Stamatakia, I. Fasakib, G. Tsonosa, D. Tsamakisa, and M. Kompitsas, Thin Solid Films 518, 1326 (2009).
96. L. Naszalyi, A. Deak, E. Hild, A. Ayral, A. L. Kovacs, and Z. Horvolgyi, Thin Solid Films 515, 2587 (2006).
97. A. Talbi, F. Sarry, L. L. Brizoual, O. Elmazria, and P. Alnot, IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 51, 1421 (2004).
98. M. C. Park, W. H. Yoon, D. H. Lee, J. M. Myoung, S. H. Bae, S. Y. Lee, and I. Yun, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 696, N3.25.1 (2002).
99. E. S. Shim, H. S. Kang, J. S. Kang, J. H. Kim, and S. Y. Lee, Appl. Surf. Sci. 186, 474 (2002).
100. M. Lorenz, E. M. Kaidashev, H. von Wenckstern, V. Riede, C. Bundesmann, D. Spemann, G. Benndorf, H. Hochmuth, A. Rahm, H. C. Semmelhack, and M. Grundmann, Solid State Electron. 47, 2205 (2003).
101. K. Shrinivasarao, B. Rajinikanth, K. Pandurangarao, and P. K. Mukhopadhyay, Appl. Phys. A 108, 247 (2012).
102. L. Zhao, J. Lian, Y. Liu, and Q. Jiang, Appl. Surf. Sci. 252, 8451 (2006).
103. K. Ramamoorthy, C. Sanjeeviraja, M. Jayachandran, K. Sankaranarayanan, P. Misra, and L. M. Kukreja, Current Applied Physics 6, 103 (2006).
104. B. L. Zhu, X. Z. Zhao, F. H. Su, G. H. Li, X. G. Wu, J. Wu, R. Wu, and J. Liu, Physica B 396, 95 (2007).
105. S. Heitsch, C. Bundesmann, G. Wagner, G. Zimmermann, A. Rahm, H. Hochmuth, G. Benndorf, H. Schmidt, M. Schubert, M. Lorenz, and M. Grundmann, Thin Solid Films 496, 234 (2006).
106. R. Schmidt, B. Rheinländer, M. Schubert, D. Spemann, T. Butz, E. M. Kaidashev, M. Lorenz, and M. Grundmann, Appl. Phys. Lett. 82, 2260 (2003).
107. E. M. Kaidashev, M. Lorenz, H. Wenckstern, A. Rahm, H.-C. Semmelhack, K.-H. Han, G. Benndorf, C. Bundesmann, H. Hochmuth, and M. Grundmann, Appl. Phys. Lett. 82, 3901 (2003).
108. S. H. Bae, S. Y. Lee, B. J. Jin, and S. Im, Appl. Surf. Sci. 154-155, 458 (2000).
109. V. Craciun, J. Elders, J. G. E. Gardeniers, and I. W. Boyd, Appl. Phys. Lett. 65, 23, 2963 (1994).
110. S. Fiat, G. Çankaya, and M. Kompitsas, Journal of Selçuk University Natural and Applied Science 2, 44 (2013).
111. Z. W. Liu, C. K. Ong, T. Yu, and Z. X. Shen, Appl. Phys. Lett. 88, 053110 (2006).
112. C. F. Yu, C. W. Sung, S. H. Chen, and S. J. Sun, Appl. Surf. Sci. 256, 792 (2009).
113. J. B. Franklin, B. Zou, P. Petrov, D. W. McComb, M. P. Ryan, and M. A. McLachlan, J. Mater. Chem. 21, 8178 (2011).
114. B. J. Jin, H. S. Woo, S. Im, S. H. Bae, and S. Y. Lee, Appl. Surf. Sci. 169-170, 521 (2001).
115. B. L. Zhu, X. Z. Zhao, F. H. Su, G. H. Li, X. G. Wu, J. Wu, and R. Wu, Vacuum 84, 1280 (2010).
116. M. Rusop, K. Uma, T. Soga, and T. Jimbo, Mater. Sci. Eng. B 127, 150 (2006).
117. I. S. Kim, J. Cryst. Growth 277, 284 (2005).
118. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, and B. C. Shin, J. Appl. Phys. 101, 053106 (2007).
119. X. Q. Wei, Z. G. Zhang, M. Liu, C. S. Chen, G. Sun, and C. S. Xue, Physica B 388, 145 (2007).
120. E. S. Shim, H. S. Kang, S. S. Pang, J. S. Kang, I. Yun, and S. Y. Lee, Mater. Sci. Eng. B 102, 366 (2003).
121. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, B. C. Shin, and I. S. Kim, J. Electroceram. 13, 195 (2004).
122. S. H. Bae, S. Y. Lee, B. J. Jin, and S. Im, Opt. Mater. 17, 327 (2001).
123. H. S. Kang, J. S. Kang, J. W. Kim, and S. Y. Lee, J. Appl. Phys. 95, 1246 (2004).
124. H. S. Kang, J. S. Kang, E. S. Shim, S. S. Pang, and S. Y. Lee, Mater. Sci. Eng. B 102, 313 (2003).
125. Z. Lei, L. Jian-She, L. Yu-Hua, and J. Qing, Trans. Nonferrous Met. Soc. China 18, 145 (2008).
126. S. Venkatachalam, Y. Kanno, and S. Velumani, Vacuum 84, 1199 (2010).
127. B. L. Zhu, X. Z. Zhao, S. Xu, F. Su, G. Hua, X. G. Wu, J. Wu, R. Wu, and J. Liu, Jpn. J. Appl. Phys. 47, 2225 (2008).
128. J.-I. Hong, J. Bae, Z. L. Wang, and R. L. Snyder, Nanotechnology 20, 085609 (2009).
129. S. Christoulakis, M. Suchea, E. Koudoumas, M. Katharakis, N. Katsarakis, and G. Kiriakidis, Appl. Surf. Sci. 252, 5351 (2006).
130. S. Christoulakis, M. Suchea, E. Koudoumas, M. Katharakis, N. Katsarakis, and G. Kiriakidis, Rev. Adv. Mat. Science 10, 331 (2005).
131. Y. R. Jang and K. H. Yoo, Journal of the Korean Physical Society 53, 110 (2008).
132. J. M. Myoung, W. H. Yoon, D. H. Lee, I. Yun, S. H. Bae, and S. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 28 (2002).
133. S. L. King, J. G. E. Gardeniers, and I. W. Boyd, Appl. Surf. Sci. 96-98, 811 (1996).
134. J. W. Kim, H. S. Kang, and S. Y. Lee, Journal of Electrical Engineering and Technology 1, 98 (2006).
135. G. Socol, M. Socol, N. Stefan, E. Axente, G. Popescu-Pelin, D. Craciun, L. Duta, C. N. Mihailescu, I. N. Mihailescu, A. Stanculescu, D. Visan, V. Sava, A. C. Galca, C. R. Luculescu, and V. Craciun, Appl. Surf. Sci. 260, 42 (2012).
136. J. Dattatray, P. Misra, B. N. Singh, L. M. Kukreja, D. S. Joag, and M. A. More, Appl. Phys. A 95, 613 (2009).
137. A. Og. Dikovska, P. A. Atanasov, C. Vasileva, I. G. Dimitrov, and T. R. Stoyanchov, Journal of Optoelectronics and Advanced Materials 7, 3, 1329 (2005).
138. H. V. Wenckstern, M. Brandt, H. Schmidt, C. Hanisch, G. Benndorf, H. Hochmuth, M. Lorenz, and M. Grundmann, Journal of the Korean Physical Society 53, 5, 3064 (2008).
139. J. Zhang, B. Li, C. Xia, Q. Deng, J. Xu, G. Pei, F. Wu, Y. Wu, H. Shi, W. Xu, and Z. Yang, J. Cryst. Growth 296, 186 (2006).
140. K. J. Saji, R. Manoj, R. S. Ajimsha, and M. K. Jayaraj, Proc. SPIE 6286, 62860D (2006).
141. L. C. Nistor, C. Ghica, D. Matei, G. Dinescu, M. Dinescu, and G. Van Tendeloo, J. of Cryst. Growth 277, 26 (2005).
142. L. Z. Fu, L. Y. Xiang, S. F. Kai, X. Z. Hua, and Y. Y. Sik, Chin. Phys. Lett. 21, 4, 747 (2004).
143. M. Novotńy, J. Cizek, R. Kuzel, J. Bulír, J. Lancok, J. Connolly, E. McCarthy, S. Krishnamurthy, J. P. Mosnier, W. Anwand, and G. Brauer, J. Phys. D: Appl. Phys. 45, 225101 (2012).
144. M. Khaleeq-ur-Rahman, A. Sattar, M. S. Rafique, and A. Usman, Pak. J. Engg. Appl. Sci. 2, 38 (2008).
145. M. Khalid, M. Ziese, A. Setzer, P. Esquinazi, M. Lorenz, H. Hochmuth, M. Grundmann, D. Spemann, T. Butz, G. Brauer, W. Anwand, G. Fischer, W. A. Adeagbo, W. Hergert, and A. Ernst, Phys. Rev. B 80, 035331 (2009).
146. M. Z. Lin, C. T. Su, H. C. Yan, and M. Y. Chern, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L 995 (2005).
147. G. Cramer, Electronics NNIN REU Research Accomplishments 34 (2006).
148. P. Pant, J. D. Budai, R. Aggarwal, R. J. Narayan, and J. Narayan, Acta Materialia 57, 4426 (2009).
149. S. S. Kim and B. T. Lee, Thin Solid Films 446, 307 (2004).
150. S. Amirhaghi, V. Craciun, D. Craciun, J. Elder, and I. W. Boyd, Microelectron. Eng. 25, 32l (1994).
151. S. Karamat, R. S. Rawat, T. L. Tan, P. Lee, S. V. Springham, E. Ghareshabanib, R. Chen, and H. D. Sun, Appl. Surf. Sci. 257, 1979 (2011).
152. T. Ohshima, R. K. Thareja, T. Ikegami, and K. Ebihara, Surf. Coat. Technol. 169-170, 517 (2003).
153. V. Craciun, J. Elders, J. G. E. Gardeniersh, J. Geretovsky, and I. W. Boyd, Thin Solid Films 259, 1 (1995).
154. W. S. Hu, Z G. Liu, R. X. Wu, Y. F. Chen, W. Ji, T. Yu, and D. Feng, Appl. Phys. Lett. 71, 548 (1997).
155. X. Q. Wei, Z. G. Zhang, M. Liu, C. S. Chen, G. Sun, C. S. Xue, H. Z. Zhuang, and B. Y. Man, Mater. Chem. Phys. 101, 285 (2007).
156. X. Sun and H. Kwok, J. Appl. Phys. 86, 1, 408 (1999).
157. X. M. Fan, J. S. Lian, Z. X. Guo, and H. J. Lu, Appl. Surf. Sci. 239,176 (2005).
158. Y. Zhang, X. Zheng, X. Zhong, and S. Deng, Meas. Sci. Technol. 23, 105107 (2012).
159. Y. Inoue, M. Okamoto, T. Kawahara, Y. Okamoto, and J. Morimoto, Materials Transactions 46, 1470 (2005).
160. Y. R. Ryu, S. Zhu, S. W. Han, H. W. White, P. F. Miceli, and H. R. Chandrasekhar, Appl. Surf. Sci. 127-129, 496 (1998).
161. Z. Q. Chen, S. Yamamoto, A. Kawasuso,Y. Xu, T. Sekiguchi, Appl. Surf. Sci. 244, 377 (2005).
162. S. Im, B. J. Jin, and S. Yi, J. Appl. Phys. 87, 4558 (2000).
163. F. K. Shan, B. C. Shin, S. C. Kim, and Y. S. Yu, Journal of the Korean Physical Society 42, S1174 (2003).
164. E. B. Shim, H. S. Kang, S.S Pang, J. S. Kang, I. Yun, and S. Y. Lee, Mater. Sci. Eng., B 102, 366 (2003).
165. J. R. Ducle're, C. McLoughlin, J. Fryar, R. O'Haire, M. Guilloux- Viry, A. Meaney, A. Perrin, E. McGlynn, M. O. Henry, and J. P. Mosnier, Thin Solid Films 500, 78 (2006).
166. P. Yu, Z. K. Tang, G. K. L. Wong, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, J. Cryst. Growth 184-185, 601 (1998).
167. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
168. Y. Nakata, T. Okada, and M. Maeda, Appl. Suf. Sci. 197-198, P368 (2002).
169. J. H. Jo, J. S. Kwak, D. Y. Kwon, Y. H. Hwang, and H. K. Kim, J. Kor. Phys. Soc. 47, PS300 (2005).
170. Y. W. Sun, J. Gospodyn, P. Kursa, J. Sit, R. G. DeCorby, and Y. Y. Tsui, Appl. Sur. Sci. 248, P392 (2005).
171. A. Meaney, J. R. Duclere, E. McGlynn, J. P. Mosnier, R. O'Haire, and M. O. Henry, Superlattices and Microstructures 38, P 256 (2005).
172. L. Han, F. Mei, C. Liu, C. Pedro, and E. Alves, Physica E 40, P699 (2008).
173. C. Sui, N. Chen, X. Xu, G. Wei, P. Cai, and H. Zhou, Thin Solid Films 516, P1137 (2008).