Rise of chemical amplification resists from laboratory curiosity to paradigm enabling Moore's law

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 6923, Issue , 2008, Pages

  Ito, Hiroshi ^a  

^a IBM ALMADEN RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

193 nm lithography; Acid catalyzed polymer reaction; Chemical amplification; Deep UV lithography; Depolymerization; Deprotection; Immersion lithography; Photochemical acid generator; Polyhydroxystyrene; Polymethacrylate

Indexed keywords

ACIDS; CARBOXYLIC ACIDS; ETHERS; LAWS AND LEGISLATION; LITHOGRAPHY; MALEIC ANHYDRIDE; OPTICAL PROPERTIES; ORGANIC ACIDS; PHENOLS; PHOTORESISTS; POLYMERS; ROUGHNESS MEASUREMENT; SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE; SURFACE SEGREGATION; TERPOLYMERS; TRANSPARENCY;

193 NM LITHOGRAPHY; CHEMICAL AMPLIFICATION; DEEP UV LITHOGRAPHY; DEPROTECTION; IMMERSION LITHOGRAPHY; PHOTOCHEMICAL ACID GENERATOR; POLYHYDROXYSTYRENE; POLYMETHACRYLATE;

AMPLIFICATION;

EID: 57349152439     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.782636     Document Type: Conference Paper

References (143)

1. a) H. Ito, C. G. Willson and J. M. J. Fréchet, 1982 Symposium on VLSI Technology, Oiso, Japan, 1982;
2. b) H. Ito and C. G. Willson, Polym. Eng. Sci., 23, 1012, 1983.
3. H. Ito, Adv. Polym. Sci., 172, 37, 2005.
4. J. G. Maltabes, S. J. Holmes, J. Morrow, R. L. Barr, M. Hakey, G. Reynolds, W. R. Brunsvold, C. G. Willson, N. J. Clecak, S. A. MacDonald and H. Ito, Proc. SPIE, 1264, 61, 1990.
5. R. L. Woods, C. F. Lyons, R. Mueller, and J. Conway, Proc. KTI Microelectronics Seminar, 341, 1988.
6. H. Ito, G. Breyta, D. Hofer, R. Sooriyakumaran, K. Petrillo, and D. Seeger, J. Photopolym. Sci. Technol., 7, 433, 1994.
7. Y. Wang, T. Miyamatsu, T. Furukawa, K. Yamada, T. Tominaga, Y. Makita, H. Nakagawa, A. Nakamura, M. Shima, S. Kusumoto, T. Shimokawa, and K. Hieda, Proc. SPIE, 6153, 61530A, 2006.
8. G. M. Wallraff, D. R. Medeiros, M. Sanchez, K. Petrillo, W.-S. Huang, C. Rettner, B. Davis, C. E. Larson, L. Sundberg, P. J. Brock, W. D. Hinsberg, F. A. Houle, J. A. Hoffnagle, D. Goldfarb, K. Temple, S. Wind, and L. Bucchignano, L. J. Vac. Sci. Technol., B22(6), 3479, 2004.
9. a) J. W. Thackeray, R. A. Nassar, R. Brainard, D. Goldfarb, T. Wallow, Y. Wei, J. Mackey, P. Naulleau, B. Pierson, and H. H. Solak, Proc. SPIE, 6517, 651719-1, 2007;
10. b) J. W. Thackeray, R. A. Nassar, K. Spear-Alfonso, R. Brainard, D. Goldfarb, T. Wallow, Y. Wei, W. Montgomery, K. Petrillo, O. Wood, C. Koay, J. Mackey, P. Naulleau, B. Pierson, and H. H. Solak, J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 411, 2007.
11. H. Ito, "Deep UV resist systems," in Radiation Curing in Polymer Science and Technology, J. P. Fouassier and J. F. Rabek, eds., Elsevier, London, 237, 1993.
12. H. Ito, "Functional Polymers for Microlithography: Nonamplified Imaging Systems," in Desk Reference of Functional Polymers, R. Arshady, ed., American Chemical Society, Washington, D. C., 311, 1997.
13. B. J. Lin, J. Vac. Sci. Technol., 12, 1317, 1975.
14. B. D. Grant, N. J. Clecak, R. J. Twieg, and C. G. Willson, IEEE Trans. Electron Devices, ED-28, 1300, 1981.
15. C. G. Willson, R. D. Miller, D. R. McKean, and L. A. Pederson, Proc. SPIE, 771, 2, 1987.
16. H. Sugiyama, K. Ebata, A. Mizushima, and K. Nate, Technical Papers of SPE Regional Technical Conference on Photopolymers, Society of Plastics Engineers, Brookfield, CT, 51, 1988.
17. E. Reichmanis, C. W. Wilkins, Jr., and E. A. Chandross, J. Vac. Sci. Technol., 19, 1338, 1980.
18. Y. Tani, M. Endo, M. Sasago, and K. Ogawa, Proc. SPIE, 1086, 22, 1989.
19. T. Iwayanagi, T. Kohashi, S. Nonogaki, T. Matsuzawa, K. Douta, and H. Yanazawa, IEEE Trans. Electron Devices, ED-28, 1306, 1981.
20. a) J. M. J. Fréchet, E. Eichler, H. Ito, and C. G. Willson, Polymer, 24, 995, 1983;
21. b) H. Ito, C. G. Willson, and J. M. J. Fréchet, Proc. SPIE, 771, 24, 1987.
22. E. Reichmanis, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, and T. X. Neenan, Chem. Mater. 3, 394, 1991.
23. S. A. MacDonald, C. G. Willson, and J.M. J. Fréchet, Acc. Chem. Res. 27, 151, 1994.
24. H. Ito, "Functional Polymers for Microlithography: Chemically Amplified Imaging Systems," in Desk Reference of Functional Polymers, R. Arshady, ed., American Chemical Society, Washington, D. C., 341, 1997.
25. H. Ito, J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 319, 2007.
26. J. V. Crivello, in UV Curing: Science and Technology, S. P. Pappas, Ed., Technology Marketing Corporation, Stamford, CT, 23, 1978.
27. H. Ito, C. G. Willson, Polymers in Electronics, Davidson, T., ed., American Chemical Society, Washington, D. C., 11, 1984.
28. H. Ito, C. G. Willson, J. M. J. Fréchet, M J. Farrall, and E. Eichler, Macromolecules 16, 510, 1983.
29. H. Ito, and R. Schwalm, J. Electrochem. Soc., 136, 241, 1989.
30. H. Ito, M. Ueda, and A. Renaldo, J. Electrochem. Soc. 136, 245, 1989.
31. a) H. Ito, E. Flores, and A. F. Renaldo, J. Electrochem. Soc., 135, 2328, 1988;
32. b) H. Ito, Proc. SPIE, 920, 33, 1988.
33. th International Conference on Photopolymers, 239, 1994.
34. H. Ito, C. G. Willson, and J. M. J. Fréchet, U. S. Patent 4,491,628, 1985.
35. R. Ayothi, Y. Yi, C. Ober, S. Putna, W. Yueh, and H. Cao, Proc. SPIE, 6153, 61530J, 2006.
36. R. R. Dammel, M. D. Rahman, D. McKenzie, D. Rentkiewicz, T. Kudo, M. Padmanaban, and K. van Werden, J. Photopolym. Sci. Technol, 20, 627, 2007.
37. S. Holmes, R. Levy, A. Bergendahl, K. Holland, J. Maltabes, S. Knight, K. C. Norris, and D. Poley, Proc. SPIE, 1264, 61, 1990.
38. S. A. MacDonald, N. J. Clecak, H. R. Wendt, C. G. Willson, C. D. Snyder, C. J. Knors, N. B. Deyoe, J. G. Maltabes, J. R. Morrow, A. E. McGuire, and S. J. Holmes, Proc. SPIE, 1466, 2, 1991.
39. O. Nalamasu, E. Reichmanis, M. Cheng, V. Pol, J. M. Kometani, F. M. Houlihan, T. X. Neenan, M. P. Bohrer, D. A. Mixon, L. F. Thompson, and C. Takemoto, Proc. SPIE, 1466, 13, 1991.
40. O. Nalamasu, M. Cheng, A. G. Timko, V. Pol, E. Reichmanis, and L. F. Thompson, J. Photopolym. Sci. Technol., 4, 299, 1991.
41. T. Kumada, Y. Tanaka, A. Ueyama, S. Kubota, H. Koezuka, T. Hanawa, and H. Morimoto, Proc. SPIE, 1925, 31, 1993.
42. A. Oikawa, N. Santoh, S. Miyata, Y. Hatakenaka, H. Tanaka, and K. Nakagawa, Proc. SPIE, 1925, 92, 1993.
43. H. Röschert, K.-J. Przybilla, W. Spiess, H. Wengenroth, and G. Pawlowski, Proc. SPIE, 1672, 33, 1992.
44. Y. Kawai, A. Otaka, J. Nakamura, A. Tanaka, and T. Matsuda, J. Photopolym. Sci. Technol., 8, 535, 1995.
45. G. Pawlowski, R. Dammel, K.-J. Przybilla, H. Röschert, and W. Spiess, J. Photopolym. Sci. Technol., 4, 389, 1991.
46. F. M. Houlihan, E. Chin, J. M. Kometani, R. Harley, and O. Nalamasu, Proc. 10th Int. Conf. on Photopolymers, 48, 1994.
47. W.-S. Huang, R. Kwong, A. Katnani, and M. Khojasteh, Proc. SPIE, 2195, 37, 1994.
48. H. Ito, W. P. England, N. J. Clecak, G. Breyta, H. Lee, D. Y. Yoon, R. Sooriyakumaran, and W. D. Hinsberg, Proc. SPIE, 1925, 65, 1993.
49. H. Ito, W. P. England, R. Sooriyakumaran, N. J. Clecak, G. Breyta, W. D. Hinsberg, H. Lee, and D. Y. Yoon, J. Photopolym. Sci. Technol., 6, 547, 1993.
50. W. Hinsberg, S. MacDonald, N. Clecak, C. Snyder, and H. Ito, Proc. SPIE, 1925, 43, 1993.
51. W. Conley, G. Breyta, B. Brunsvold, R. DiPietro, D. Hofer, S. Holmes, H. Ito, R. Nunes, G. Fichtl, P. Hagerty, and J. Thackeray, Proc. SPIE, 2724, 34, 1996.
52. a) W. E. Feeley, J. C. Imhof, C. M. Stein, T. A. Fischer, and M. W. Legenza, Polym. Eng. Sci., 26 , 1101, 1986;
53. b) J. W. Thackeray, G. W. Orsula, E. K. Pavelcheck, and D. Canistro, Proc. SPIE, 1086, 34, 1989.
54. a) R. Sooriyakumaran, H. Ito, and E. A. Mash, Proc. SPIE, 1466, 419, 1991;
55. b) H. Ito, R. Sooriyakumaran, and E. A. Mash, J. Photopolym. Sci. Technol., 4, 319, 1991.
56. H. Ito, Y. Maekawa, R. Sooriyakumaran, and E. A. Mash, ACS Symposium Series 537, "Polymers for Microelectronics: Resists and Dielectrics," L. F. Thompson, C. G. Willson, and S. Tagawa, eds., American Chemical Society, Washington, D. C., 64, 1993.
57. H. Ito, and Y. Maekawa, Polymeric Materials for Microelectronic Applications, H. Ito, S. Tagawa, and K. Horie, eds., American Chemical Society, Washington, D. C., 70, 1994.
58. S. Uchino, T. Iwayanagi, T. Ueno, and N. Hayashi, Proc. SPIE, 1466, 429, 1991.
59. S. Cho, A. V. Heyden, J. Byers, and C. G. Willson, Proc. SPIE, 3999, 62, 2000.
60. R. Sooriyakumaran, B. Davis, C. E. Larson, P. J. Brock, R. A. DiPietro, T. I. Wallow, E. F. Connor, L. Sundberg, G. Breyta, R. D. Allen, K. Patel, and P. R. Varanasi, Proc. SPIE, 5376, 71, 2004.
61. Y. Yokoyama, T. Hattori, K. Kimura, and H. Shiraishi, Proc. SPIE, 4345, 58, 2001.
62. G. M. Wallraff, C. E. Larson, R. Sooriyakumaran, J. Opitz, D. Fenzel-Alexander, R. DiPietro, and M. Angelopoulos, J. Photopolym. Sci. Technol., 11, 673, 1998.
63. a) S. A. MacDonald, H. Ito, H. Hiraoka, and C. G. Willson, Technical Papers of SPE Regional Technical Conference, 177, 1985;
64. b) S. A. MacDonald, H. Schlosser, H. Ito, N. J. Clecak, and C. G. Willson, Chem. Mater., 3, 435, 1991;
65. c) J. Photopolym. Sci. Technol., 4, 487, 1991.
66. H. Ito, J. Photopolym. Sci. Technol., 5, 123, 1992.
67. a) M. A. Hartney, R. R. Kunz, D. J. Ehrlich, and D. C. Shaver, Proc. SPIE, 1262, 119, 1990;
68. b) M. A. Hartaey, D. W. Johnson, and A. C. Spencer, Proc. SPIE, 1466, 238, 1991;
69. c) D. W. Johnson and M. A. Hartney, Jpn. J. Appl. Phys., 31, 4321, 1992.
70. R. R. Kunz, R. D. Allen, W. D. Hinsberg, and G. M. Wallraff, Proc. SPIE, 1925, 167, 1993.
71. R. D. Allen, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, and R. R. Kunz, J. Photopolym. Sci. Technol., 7, 507, 1994.
72. a) S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki, N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol, 5, 439, 1992;
73. b) Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi, and N. Abe, Proc. SPIE, 1672, 66, 1992.
74. rd International Symposium on 193 nm Lithography, 43, 1997;
75. b) H. Ito, N. Seehof, R. Sato, T, Nakayama, and M. Ueda, Micro- and nanopatterning Polymers, ACS Symp. Series 706, H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, and T. Ueno, eds., American Chemical Society, Washington, DC, 208, 1998.
76. a) H. Ito, G. M. Wallraff, P. Brock, N. Fender, H. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, R. D. Allen, Proc. SPIE, 4345, 273, 2001.;
77. b) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. Brock, C. E. Larson, H. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 583, 2001;
78. c) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, W. D. Hinsberg, A. Mahorowala, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, and R. D. Allen, J. Vac. Sci. Technol., B19(6), 2678, 2001.
79. (5) a) K. Patterson, M. Yamachika, R. Hung, C. Brodsky, S. Yamada, M. Somervelle, B. Osborn, D. Hall, G. Dukovic, J. Byers, W. Conley, C. G. Willson, Proc. SPIE, 3999, 365, 2000;
80. b) T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Paterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervelle, J. Byers, W. Conley, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 13, 657, 2000;
81. c) R. J. Hung, TH. V. ran, B. C. Trinque, T. Chiba, S. Yamada, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, J. Klopp, J. M. J. Fréchet, B. H. Thomas, G. J. Shafer, D. D. DesMarteau, W. Conley, and C . G. Willson, Proc. SPIE, 4345, 385, 2001;
82. d) H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. C. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald, and C. G. Willson, J Photopolym. Sci. Technol., 14, 669, 2001.
83. W. Li, P. R. Varanasi, M. C. Lawson, R. W. Kwong, K.-J. Chen, H. Ito. H. Truong, R. D. Allen, M. Yamamoto, E. Kobayashi, and M. Slezak, Proc. SPIE, 5039, 61, 2003.
84. P. R. Varanasi, R. W. Kwong, M. Khojasteh, K. Patel, K.-J. Chen, W. Li, M. C. Lawson, R. D. Allen, Sooriyakumaran, R., P. Brock, L. K. Sundberg, M. Slezak, G. Dabbagh, Z. Liu, Y. Nishimura, T. Chiba, and T. Shimokawa, Proc. SPIE, 5753, 131, 2005.
85. H. Ito, H. D. Truong, R. D. Allen, W. Li, P. R. Varanasi, K.-J. Chen, M. Khojasteh, W.-S. Huang, S. D. Burns, and D. Pfeiffer, Polymers for Advanced Technology, 17, 104, 2006.
86. D. P. Sanders, L. K. Sundberg, R. Sooriyakumaran, P. J. Brock, R. A. DiPietro, H. D. Truong, D. C. Miller, M. C. Lawson, and R. D. Allen, Proc. SPIE, 6519, 651904-1, 2007.
87. a) R. L. Brainard, C. Henderson, J. Cobb, V. Rao, J. F. Mackevich, U. Okoroanyanwu, S. Gunn, J. Chambers, S. Connolly, J. Vac. Sci. Technol., B, 17(6), 3384, 1998;
88. b) R. L. Brainard, J. Cobb, C. A. Cutler, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 401, 2003.
89. a) W. Ishikawa, H. Inada, H. Nakano, Y. Shirota, Chem. Lett., 1731, 1991;
90. b) E. Ueta, H. Nakano, Y. Shirota, Chem. Lett., 2397, 1994;
91. c) Y. Shirota, T. Kobata, N. Noma, Chem. Lett., 1145, 1994;
92. d) M. Yoshiiwa, H. Kageyama, Y. Shirota, F. Wakaya, K. Gamo, M. Takai, Appl. Phys. Lett., 69(17), 2605, 1996;
93. e) Y. Shirota, J. Mater. Chem., 10, 1, 2000;
94. f) H. Utsumi, D. Nagahama, H. Nakano, Y. Shirota, J. Mater. Chem., 10, 2436, 2000;
95. g) T. Kadota, H. Kageyama, F. Wakaya, K. Gamo, Y. Shirota, Chem. Lett., 33, 706, 2004;
96. h) Y. Shirota, J. Mater. Chem., 15, 75, 2005.
97. a) T. Aoai, T. Yamanaka, T. Kokubo, Proc. SPIE, 2195, 111, 1994.;
98. b) T. Aoai, T. Yamanaka, M. Yagihara, J. Photopolym. Sci. Technol., 10, 417, 1997.
99. a) T. Nakayama, K. Haga, O. Haba, and M. Ueda, Chem. Lett., 265, 1997;
100. b) T. Nakayama and M. Ueda, J. Mater. Chem., 9, 697, 1997;
101. c) K. Takeshi, T. Nakayama, and M. Ueda, Chem. Lett., 865, 1998;
102. d) M. Ueda, D. Takahashi, T. Nakayama, and O. Haba, Chem. Mater., 10, 2230, 1998;
103. e) O. Haba, D. Takahashi, K. Haga, Y. Sakai, T. Nakayama, M. Ueda, in Micro- and Nanopatterning Polymers, Ito, H.; Reichmanis, E.; Nalamasu, O.; Ueno, T., ed., ACS Symp. Series 706, American Chemical Society, Washington, D. C., 237, 1998;
104. f) T. Nakayama, D. Takahashi, K. Takeshi, and M. Ueda, J. Photopolym. Sci. Technol., 12, 347, 1999;
105. g) O. Haba, K. Haga, and M. Ueda, Chem. Mater., 11, 427, 1999;
106. h) T. Fujigaya, Y. Shibasaki, and M. Ueda, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 275, 2001;
107. i) K. Young-Gil, J. B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki, and M. Ueda, J. Mater. Chem., 11, 1, 2001;
108. j) T. Nakayama, and M. Ueda, J. Mater. Chem., 9, 697, 2001;
109. k) K. Young-Gil, J. B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki, and M. Ueda, J. Mater. Chem., 12(1), 53, 2002;
110. l) H. Iimori, Y. Shibasaki, and M. Ueda, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 685, 2003.
111. a) T. Nishikubo, A. Kameyama, K. Tsutsui, J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem., 39, 1169, 2001;
112. b) T. Nishikubo, A. Kameyama, K. Tsutsui, and S. Kishimoto, J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem., 39, 1481, 2001;
113. c) T. Nishikubo, A. Kameyama, and H. Kudo, Polym. J., 35, 213, 2003;
114. d) H. Kudo, K. Mitani, T. Nishikubo, M. Mitsuishi, and T. Miyashita, Bull. Chem. Soc. Japan, 77, 819, 2004;
115. e) H. Kudo, K. Mitani, S. Koyama, and T. Nishikubo, Bull. Chem. Soc. Japan, 77, 2109, 2004.
116. a) D. Yang, S. W. Chang, and C. K. Ober, J. Mater. Chem., 16, 1693, 2006;
117. b) D. Yang, J. Dai, S. W. Chang, S. Hamad, D. Yang, N. Felix, and C. K. Ober, Chem. Mater., 18, 3404, 2006;
118. c) D. Bratton, D. Yang, J. Dai, and C. K. Ober, Polym. for Adv. Technol., 17, 94, 2006;
119. d) K. Tsuchiya, S. W. Chang, N. M. Felix, M. Ueda, and C. K. Ober, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 431, 2005;
120. e) B. M. Felix, K. Tsuchiya, and C. K. Ober, Adv. Mater., 18, 442, 2006;
121. f) S. W. Chang, D. Yang, J. Dai, N. Felix, D. Bratton, K. Tsuchiya, K.-J. Kwark, J.-P. Bravo-Vasquez, C. K. Ober, H. B. Cao, and H. Deng, Proc. SPIE, 5753, 1, 2005;
122. g) D. Bratton, R. Ayothi, N. Felix, H. Cao, H. Deng. And C. K. Ober, Proc. SPIE, 6153, 61531D, 2006.
123. T.-H. Oh, R. Ganesan, J.-M. Yoon, and J.-B. Kim, Proc. SPIE, 6153, 61532G, 2006.
124. T. H. Fedynysyn, R. F. Sinta, I. Pottenbaum, and A. Cabral, Proc. SPIE, 5753, 281, 2005.
125. T. Hirayama, D. Shiono, H. Hada, and J. Onodera, J. Photopolym. Sci. Technol., 17, 435, 2004.
126. a) R. Sooriyakumaran, H. Truong, L. Sundberg, M. Morris, B. Hinsberg, H. Ito, R. Allen, D. Goldfarb, S. Burns, D. Pfeiffer, and W.-S. Huang, Proc. SPIE, 5753, 329, 2005;
127. b) R. Sooriyakumaran, H. Truong, L. Sundberg, M. Morris, B. Hisnberg, H. Ito, R. Allen, W.-S. Huang, D. Goldfarb, S. Burns, and D. Pfeiffer, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 425, 2005.
128. J.-B. Kim, R. Ganesan, J.-H. Choi, H.-J. Yun, Y.-G. Kwon, K.-S. Kim, and T.-H. Oh, J. Mater. Chem., 16, 3448, 2006.
129. J.-B. Kim, T.-H. Oh, and Y.-G. Kwon, Proc. SPIE, 4690, 549, 2002.
130. D. Shiono, T. Hirayama, K. Kasai, H. Hada, J. Onodera, T. Arai, A. Yamaguchi, and H. Shiraishi, Microprocess and Nanotechnology Conference, 68, 2005;
131. b) D. Shiono, T. Hirayama, H. Hada, J. Onodera, T. Arai, A. Yamaguchi, K. Kojima, H. Shiraishi, and H. Fukuda, Proc. SPIE, 6153, 61532D, 2006;
132. c) D. Shiono, T. Hirayama, K. Kasai, H. Hada, J. Onodera, T. Arai, A. Yamaguchi, H. Shiraishi, and H. Fukuda, Jp. J. Appl. Phys., 45, 5435, 2006.
133. a) J.-B. Kim, Y.-G. Kwon, H.-J. Yun, and J.-H. Choi, Proc. SPIE, 4690, 837, 2002;
134. b) Y. Kwon, H. Yun, R. Ganesan, J.-B. Kim, and J.-H. Choi, Polym. J., 38, 996, 2006.
135. S. Tanaka, and C. K. Ober, Proc. SPIE, 6153, 61532B, 2006.
136. H. Mori, E. Nomura, A. Hosoda, Y. Miyake, and H. Taniguchi, Macromol. Rapid Commun., 27, 1792, 2006.
137. a) C. G. Willson and M. E. Colburn, US Patent 6,334,960, 2002; US Patent 6,719,915, 2004;
138. b) D. J. Resnik, W. J. Dauksher, D. Mancini, K. J. Nordquist, T. C. Bailey, S. Johnson, N. Stacey, J. G. Ekerdt, C. G. Willson, S. V. Sreenivasan, and N. Schumaker, Proc. SPIE, 5037, 12, 2003.
139. C. J. Hawker and T. P. Russell, MRS Bulletin, 30, 952, 2005.
140. M. P. Stoykovich and P. F. Nealey, Materials Today, 9, 20, 2006.
141. a) E. K. Kim, N. A. Stacey, B. J. Smith, M. D. Dickey, S. C. Johnson, B. C. Trinque, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol., B22(1), 131, 2004;
142. b) E. K. Kim, M. D. Stewart, K. Wu, F. L Palmieri, M. D. Dickey, J. G. Ekerdt, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol., B23(6), 2967, 2005.
143. H. Ito, F. A. Houle, M. W. Hart, and R. A. DiPietro, Proc. SPIE, 6153, 61531A, 2006.