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Journal of Materials Chemistry

Volumn 16, Issue 18, 2006, Pages 1693-1696

Molecular glass photoresists for advanced lithography

(3) Yang, Da a Chang, Seung Wook a Ober, Christopher K a

a Cornell University (United States)

Author keywords

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Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; GLASS; MOLECULAR DYNAMICS; POLYMERS; ULTRAVIOLET RADIATION;

MOLECULAR GLASS PHOTORESISTS; POLYMERIC RESISTS; ROOM TEMPERATURE;

PHOTORESISTS;

EID: 33744459982 PISSN: 09599428 EISSN: 13645501 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/b514146j Document Type: Article

Times cited : (89)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.