Advances in the deposition chemistry of metal-containing thin films using gas phase processes

Chemical Science

Volumn 3, Issue 4, 2012, Pages 929-941

  Bahlawane, Naoufal ^a,b   Kohse Höinghaus, Katharina ^a   Premkumar, Peter Antony ^a,c   Lenoble, Damien ^b  

^a BIELEFELD UNIVERSITY   (Germany)

^b LUXEMBOURG INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Luxembourg)

^c IMEC   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ASPECT RATIO; ATOMIC LAYER DEPOSITION; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DIAMOND FILMS; ELECTRIC PROPERTIES; METALS; OPTICAL PROPERTIES; THIN FILMS;

CATALYSE; CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION; DEPOSITION CHEMISTRY; DEPOSITION PROCESS; EMBEDDED NANOPARTICLES; FUNCTIONAL DEVICES; FUNCTIONAL OXIDES; GAS PHASE PROCESS; HIGH ASPECT RATIO; INTRINSIC REACTIVITY; METAL THIN FILM; NOBLE TRANSITION METALS; NON-LINE-OF-SIGHT; NUCLEATION KINETICS; THREE-DIMENSIONAL NANOSTRUCTURES;

DEPOSITION;

EID: 84858013867     PISSN: 20416520     EISSN: 20416539     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c1sc00522g     Document Type: Article

References (116)

1. S. M. George Chem. Rev. 2010 110 111 131
2. B. S. Lim A. Rahtu R. G. Gordon Nat. Mater. 2003 2 749 754
3. M. S. Rill C. Plet M. Thiel I. Staude G. Von Freymann S. Linden M. Wegener Nat. Mater. 2008 7 543 546
4. M. Knez K. Niesch L. Niinisto Adv. Mater. 2007 19 3425 3438
5. R. L. Puurunen J. Appl. Phys. 2005 97 121301
6. M. J. Hampdensmith T. T. Kodas Chem. Vap. Deposition 1995 1 8 23
7. M. J. Hampdensmith T. T. Kodas Chem. Vap. Deposition 1995 1 39 48
8. L. Mond C. Langer F. Quincke Journal of the Chemical Society 1850 57 749 753
9. A. Schneider N. Popovska F. Holzmann H. Gerhard C. Topf U. Zenneck Chem. Vap. Deposition 2005 11 99 105
10. J. Lee H. J. Yang J. H. Lee J. Y. Kim W. J. Nam H. J. Shin Y. K. Ko J. G. Lee E. G. Lee C. S. Kim J. Electrochem. Soc. 2006 153 G539 G542
11. J. Goswami S. A. Shivashankar G. Anathakrishna Thin Solid Films 1997 305 52 60
12. M. L. Green M. E. Gross L. E. Papa K. J. Schnoes D. Brasen J. Electrochem. Soc. 1985 132 2677 2685
13. G. T. Stauf D. C. Driscoll P. A. Dowben S. Barfuss M. Grade Thin Solid Films 1987 153 421 430
14. J. W. Park H. S. Jang M. Kim K. Sung S. S. Lee T. M. Chung S. Koo C. G. Kim Y. Kim Eu Inorg. Chem. Commun. 2004 7 463 466
15. S. H. Yoo H. Choi H. S. Kim B. K. Park S. S. Lee K. S. An Y. K. Lee T. M. Chung C. G. Kim Eur. J. Inorg. Chem. 2011 1833 1839
16. D. A. Edwards M. F. Mahon K. C. Molloy V. Ogrodnik J. Mater. Chem. 2003 13 563 570
17. D. A. Edwards R. M. Harker M. F. Mahon K. C. Molloy Inorg. Chim. Acta 2002 328 134 146
18. S. C. Ngo K. K. Banger P. J. Toscano J. T. Welch Polyhedron 2002 21 1289 1297
19. T. Haase K. Kohse-Hoinghaus N. Bahlawane P. Djiele A. Jakob H. Lang Chem. Vap. Deposition 2005 11 195 205
20. B. G. Willis K. F. Jensen Surf. Sci. 2001 488 286 302
21. N. Bahlawane F. Reilmann L. Salameh K. Kohse-Hoinghaus J. Am. Soc. Mass Spectrom. 2008 19 947 954
22. G. S. Girolami P. M. Jeffries L. H. Dubois J. Am. Chem. Soc. 1993 115 1015 1024
23. R. Becker A. Devi J. Weiss U. Weckenmann M. Winter C. Kiener H. W. Becker R. A. Fischer Chem. Vap. Deposition 2003 9 149 156
24. K. Numajiri T. Goya R. Tobe O. Okada N. Hosokawa C. Mu N. Cox C. Scott J. Yu Appl. Surf. Sci. 1996 101 541 545
25. S. Kim J. M. Park D. J. Choi Thin Solid Films 1998 315 229 237
26. R. P. Davis R. A. Abreu J. Vac. Sci. Technol., B 2000 18 2794 2798
27. I. K. Igumenov N. V. Gelfond N. B. Morozova H. Nizard Chem. Vap. Deposition 2007 13 633 637
28. T. Maruyama Jpn. J. Appl. Phys. 1997 36 L705 L707
29. S. Hwang H. Choi I. Shim Chem. Mater. 1996 8 981 983
30. V. V. Bakovets V. N. Mitkin N. V. Gelfond Chem. Vap. Deposition 2005 11 368 374
31. L. Brissonneau C. Vahlas Chem. Vap. Deposition 1999 5 135 142
32. T. Torndahl M. Ottosson J. O. Carlsson Thin Solid Films 2004 458 129 136
33. M. Utriainen M. Kroger-Laukkanen L. S. Johansson L. Niinisto Appl. Surf. Sci. 2000 157 151 158
34. G. A. Ten Eyck S. Pimanpang H. Bakhru T. M. Lu G. C. Wang Chem. Vap. Deposition 2006 12 290 294
35. M. Lashdaf T. Hatanpaa A. O. I. Krause J. Lahtinen M. Lindblad M. Tiitta Appl. Catal., A 2003 241 51 63
36. Z. W. Li A. Rahtu R. G. Gordon J. Electrochem. Soc. 2006 153 C787 C794
37. Y. Au Y. Lin R. G. Gordon J. Electrochem. Soc. 2011 158 D248 D253
38. H. Kim Y. Shimogaki J. Electrochem. Soc. 2007 154 G13 G17
39. M. Kariniemi J. Niinisto T. Hatanpaa M. Kemell T. Sajavaara M. Ritala M. Leskela Chem. Mater. 2011 23 2901 2907
40. L. Wu E. Eisenbraun J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2007 25 2581 2585
41. H. B. R. Lee S. H. Bang W. H. Kim G. H. Gu Y. K. Lee T. M. Chung C. G. Kim C. G. Park H. Kim Jpn. J. Appl. Phys. 2010 49 05FA11
42. J. M. Kim H. B. R. Lee C. Lansalot C. Dussarrat J. Gatineau H. Kim Jpn. J. Appl. Phys. 2010 49 05FA10
43. W. Sari T. K. Eom S. H. Kim H. Kim J. Electrochem. Soc. 2011 158 D42 D47
44. J. Goswami C. G. Wang W. Cao S. K. Dey Chem. Vap. Deposition 2003 9 213 220
45. M. Hiratani T. Nabatame Y. Matsui S. Kimura Thin Solid Films 2002 410 200 204
46. J. Arndt L. Klippe R. Stolle G. Wahl Journal De Physique Iv 1995 5 119 126
47. J. H. Kwon S. G. Yoon Thin Solid Films 1997 303 136 142
48. P. D. Tran M. G. Barthes-Labrousse P. Doppelt Chemical Vapor Deposition 2009 15 320 326
49. T. Y. Chou Y. H. Lai Y. L. Chen Y. Chi K. R. Prasad A. J. Carty S. M. Peng G. H. Lee Chem. Vap. Deposition 2004 10 149 158
50. E. Lay Y. H. Song Y. C. Chiu Y. M. Lin Y. Chi A. J. Carty S. M. Peng G. H. Lee Inorg. Chem. 2005 44 7226 7233
51. X. Jiang S. F. Bent J. Electrochem. Soc. 2007 154 D648 D656
52. N. Leick R. O. F. Verkuijlen L. Lamagna E. Langereis S. Rushworth F. Roozeboom M. C. M. van de Sanden W. M. M. Kessels Journal of Vacuum Science & Technology A 2011 29 021016
53. K. Kukli M. Kemell E. Puukilainen J. Aarik A. Aidla T. Sajavaara M. Laitinen M. Tallarida J. Sundqvist M. Ritala M. Leskela J. Electrochem. Soc. 2011 158 D158 D165
54. J. Hamalainen T. Hatanpaa E. Puukilainen L. Costelle T. Pilvi M. Ritala M. Leskela J. Mater. Chem. 2010 20 7669 7675
55. A. Ludviksson M. Nooney R. Bruno A. Bailey T. T. Kodas M. J. Hampden-Smith Chem. Vap. Deposition 1998 4 129 132
56. B. H. Lee J. K. Hwang J. W. Nam S. U. Lee J. T. Kim S. M. Koo A. Baunemann R. A. Fischer M. M. Sung Angew. Chem., Int. Ed. 2009 48 4536 4539
57. D. Seghete G. B. Rayner A. S. Cavanagh V. R. Anderson S. M. George Chem. Mater. 2011 23 1668 1678
58. H. Kim J. Vac. Sci. Technol., B 2003 21 2231 2261
59. B. Vidjayacoumar D. J. H. Emslie S. B. Clendenning J. M. Blackwell J. F. Britten A. Rheingold Chem. Mater. 2010 22 4844 4853
60. H. B. R. Lee W. H. Kim J. W. Lee J. M. Kim K. Heo I. C. Hwang Y. Park S. Hong H. Kim J. Electrochem. Soc. 2010 157 D10 D15
61. W. H. Kim H. B. R. Lee K. Heo Y. K. Lee T. M. Chung C. G. Kim S. Hong J. Heo H. Kim J. Electrochem. Soc. 2011 158 D1 D5
62. H. Li D. B. Farmer R. G. Gordon Y. Lin J. Vlassak J. Electrochem. Soc. 2007 154 D642 D647
63. S. Ayyappan R. S. Gopalan G. N. Subbanna C. N. R. Rao J. Mater. Res. 1997 12 398 401
64. J. Kim D. Kim B. Veriansyah J. W. Kang J. D. Kim Mater. Lett. 2009 63 1880 1882
65. N. S. Borgharkar G. L. Griffin A. James A. W. Maverick Thin Solid Films 1998 320 86 94
66. N. S. Borgharkar G. L. Griffin H. Fan A. W. Maverick J. Electrochem. Soc. 1999 146 1041 1045
67. N. Bahlawane P. A. Premkumar A. Brechling G. Reiss K. Kohse-Hoinghaus Chem. Vap. Deposition 2007 13 401 407
68. P. A. Premkumar N. Bahlawane K. Kohse-Hoinghaus Chem. Vap. Deposition 2007 13 219 226
69. P. A. Premkumar N. Bahlawane G. Reiss K. Kohse-Hoinghaus Chem. Vap. Deposition 2007 13 227 231
70. N. Bahlawane P. A. Premkumar K. Onwuka G. Reiss K. Kohse-Hoinghaus Microelectron. Eng. 2007 84 2481 2485
71. N. Bahlawane P. A. Premkumar K. Onwuka K. Rott G. Reiss K. Kohse-Hoinghaus Surf. Coat. Technol. 2007 201 8914 8918
72. P. A. Premkumar A. Turchanin N. Bahlawane Chem. Mater. 2007 19 6206 6211
73. N. Bahlawane P. Premkumar F. Reilmann K. Kohse-Höinghaus J. Wang F. Qi B. Gehl M. Bäumer J. Electrochem. Soc. 2009 156 D452 D455
74. N. Bahlawane P. A. Premkumar Z. Y. Tian X. Hong F. Qi K. Kohse-Hoinghaus Chem. Mater. 2010 22 92 100
75. P. A. Premkumar N. S. Prakash F. Gaillard N. Bahlawane Mater. Chem. Phys. 2011 125 757 762
76. P. R. Chalker S. Romani P. A. Marshall M. J. Rosseinsky S. Rushworth P. A. Williams Nanotechnology 2010 21 405602
77. J. J. Senkevich F. Tang D. Rogers J. T. Drotar C. Jezewski W. A. Lanford G. C. Wang T. M. Lu Chem. Vap. Deposition 2003 9 258 264
78. J. A. T. Norman M. Perez S. E. Schulz T. Waechtler Microelectron. Eng. 2008 85 2159 2163
79. J. W. Elam A. Zinovev C. Y. Han H. H. Wang U. Welp J. N. Hryn M. J. Pellin Thin Solid Films 2006 515 1664 1673
80. S. W. Kang J. Y. Yun Y. H. Chang Chem. Mater. 2010 22 1607 1609
81. Y. Kajikawa S. Noda Appl. Surf. Sci. 2005 245 281 289
82. S. K. Kim J. H. Han G. H. Kim C. S. Hwang Chem. Mater. 2010 22 2850 2856
83. L. S. Hong M. G. Jeng Appl. Surf. Sci. 2000 161 149 154
84. A. J. M. Mackus J. J. L. Mulders M. C. M. van de Sanden W. M. M. Kessels J. Appl. Phys. 2010 107 116102
85. S. Kim J. M. Park D. J. Choi Thin Solid Films 1998 320 95 102
86. D. Welipitiya C. Waldfried C. N. Borca P. A. Dowben N. M. Boag H. Jiang I. Gobulukoglu B. W. Robertson Surf. Sci. 1998 418 466 478
87. M. Meunier R. Izquierdo M. Tabbal S. Evoy P. Desjardins M. H. Bernier J. Bertomeu N. Elyaagoubi M. Suys E. Sacher A. Yelon Mater. Sci. Eng., B 1997 45 200 207
88. C. Thurier P. Doppelt Coord. Chem. Rev. 2008 252 155 169
89. A. Botman J. J. L. Mulders R. Weemaes S. Mentink Nanotechnology 2006 17 3779 3785
90. K. A. Telari B. R. Rogers H. Fang L. Shen R. A. Weller D. N. Braski J. Vac. Sci. Technol., B 2002 20 590 595
91. H. Z. Choi, E. G. Kang, S. W. Lee and W. P. Hong, in Advances in Abrasive Technology Viii, 2005, vol. 291-292, pp. 413-418
92. D. Wang L. J. Wan C. L. Bai Mater. Sci. Eng., R 2010 70 169 187
93. X. R. Jiang S. F. Bent J. Phys. Chem. C 2009 113 17613 17625
94. M. N. Mullings H. B. R. Lee N. Marchack X. R. Jiang Z. B. Chen Y. Gorlin K. P. Lin S. F. Bent J. Electrochem. Soc. 2010 157 D600 D604
95. E. Farm M. Kemell E. Santala M. Ritala M. Leskela J. Electrochem. Soc. 2010 157 K10 K14
96. C. Winter U. Weckenmann R. A. Fischer J. Kashammer V. Scheumann S. Mittler Chem. Vap. Deposition 2000 6 199 205
97. U. Weckenmann S. Mittler S. Kramer A. K. A. Aliganga R. A. Fischer Chem. Mater. 2004 16 621 628
98. R. Chen S. F. Bent Adv. Mater. 2006 18 1086 1090
99. F. Guder Y. Yang M. Kruger G. B. Stevens M. Zacharias ACS Appl. Mater. Interfaces 2010 2 3473 3478
100. K. S. Park K. H. Baik D. P. Kim J. C. Woo K. S. No K. Lee L. M. Do J. Nanosci. Nanotechnol. 2011 11 1625 1628
101. Y. W. Jun J. S. Choi J. Cheon Chem. Commun. 2007 1203 1214
102. M. G. Kim S. Sim J. Cho Adv. Mater. 2010 22 5154 5158
103. J. I. Park J. Cheon J. Am. Chem. Soc. 2001 123 5743 5746
104. W. R. Lee M. G. Kim J. R. Choi J. I. Park S. J. Ko S. J. Oh J. Cheon J. Am. Chem. Soc. 2005 127 16090 16097
105. S. Sarkar A. K. Sinha M. Pradhan M. Basu Y. Negishi T. Pal J. Phys. Chem. C 2011 115 1659 1673
106. S. Gu X. B. Yao M. J. Hampden-Smith T. T. Kodas Chem. Mater. 1998 10 2145 2151
107. E. L. Crane Y. J. You R. G. Nuzzo G. S. Girolami J. Am. Chem. Soc. 2000 122 3422 3435
108. E. L. Crane G. S. Girolami R. G. Nuzzo Acc. Chem. Res. 2000 33 869 877
109. J. Mungkalasiri L. Bedel F. Emieux J. Dore F. N. R. Renaud F. Maury Surf. Coat. Technol. 2009 204 887 892
110. J. Mungkalasiri L. Bedel F. Emieux J. Dore F. N. R. Renaud C. Sarantopoulos F. Maury Chem. Vap. Deposition 2010 16 35 41
111. L. A. Brook P. Evans H. A. Foster M. E. Pemble A. Steele D. W. Sheel H. M. Yates J. Photochem. Photobiol., A 2007 187 53 63
112. R. G. Palgrave I. P. Parkin J. Am. Chem. Soc. 2006 128 1587 1597
113. C. J. Jia F. Schuth Phys. Chem. Chem. Phys. 2011 13 2457 2487
114. A. Salaun J. A. Hamilton D. Iacopino S. B. Newcomb M. G. Nolan S. C. Padmanabhan I. M. Povey M. Salaun M. E. Pemble Thin Solid Films 2010 518 6921 6926
115. N. Bahlawane K. Kohse-Hoeinghaus P. Weimann P. Hinze S. Roehe M. Baeumer Angew. Chem., Int. Ed. 2011 50 9957 9960
116. D. B. Farmer R. G. Gordon J. Appl. Phys. 2007 101 124503