New CVD precursors capable of depositing copper metal under mixed O 2/Ar atmosphere

Inorganic Chemistry

Volumn 44, Issue 20, 2005, Pages 7226-7233

  Lay, Eddy ^a   Song, Yi Hwa ^a   Chiu, Yuan Chieh ^a   Lin, Yang Miin ^a   Chi, Yun ^a   Carty, Arthur J ^b   Peng, Shie Ming ^c   Lee, Gene Hsiang ^c  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

^c NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 26944492131     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic050845h     Document Type: Article

References (59)

1. Griffin, G. L.; Maverick, A. W. In The Chemistry of Metal CVD; Kodas, T. T., Hampden-Smith, M. J., Ed.; VCH: Wienheim, Germany, 1994; Chapter 4.
2. (b) Rickerby, J.; Steinke, J. H. G. Chem. Rev. 2002, 102, 1525.
3. Vertoprakhov, V. N.; Krupoder, S. A. Russ. Chem. Rev. 2000, 69, 1057.
4. Doppelt, P. Coord. Chem. Rev. 1998, 178-180, 1785.
5. Armitage, D. N.; Dunhill, N. I.; West, R. H.; Williams, J. O. J. Cryst. Growth 1991, 108, 683.
6. (b) Nuesca, G. M.; Kelber, J. A. Thin Solid Films 1995, 262, 224.
7. Borgharkar, N. S.; Griffin, G. L. J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 347.
8. Utriainen, M.; Kroger-Laukkanen, M.; Johansson, L.-S.; Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 2000, 157, 151.
9. Temple, D.; Reisman, A. J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 3525.
10. (b) Kaloyeros, A. E.; Feng, A.; Garhart, J.; Brooks, K. C.; Ghosh, S. K.; Saxena, A. N.; Luehrs, F. J. Electron. Mater. 1990, 19, 271.
11. Girolami, G. S.; Jeffries, P. M.; Dubois, L. H. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 1015.
12. (b) Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. Polyhedron 1995, 14, 699.
13. Jain, A.; Kodas, T. T.; Corbitt, T. S.; Hampden-Smith, M. J. Chem. Mater. 1996, 8, 1119.
14. ter Heerdt, M. L. H.; van der Put, P. J.; Schoonman, J. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 199.
15. (e) Naik, M. B.; Gill, W. N.; Wentorf, R. H.; Reeves, R. R. Thin Solid Films 1995, 262, 60.
16. (f) Doppelt, P. Microelectron. Eng. 1997, 37-38, 89.
17. (g) Cavallotti, C.; Gupta, V.; Sieber, C.; Jensen, K. F. Phys. Chem. Chem. Phys. 2003, 5, 2818.
18. Joulaud, M.; Angekort, C.; Doppelt, P.; Mourier, T.; Mayer, D. Microelectron. Eng. 2002, 64, 107.
19. (b) Chen, T.-Y.; Vaissermann, J.; Ruiz, E.; Senateur, J. P.; Doppelt, P. Chem. Mater. 2001, 13, 3993.
20. Norman, J. A. T.; Robert, D. A.; Hochberg, A. K.; Smith, P.; Peterson, G. A.; Parmeter, J. E.; Apblett, C. A.; Omstead, T. R. Thin Solid Films 1995, 262, 46.
21. (b) Park, M.-Y.; Son, J.-H.; Rhee, S.-W. J. Mater. Res. 1999, 14, 975.
22. Devi, A.; Goswami, J.; Lakshmi, R.; Shivashankar, S. A.; Chandrasekaran, S. J. Mater. Res. 1998, 13, 687.
23. (b) Bakovets, V. V.; Levashova, T. M.; Dolgovesova, I. P.; Maksimovskii, E. A. Inorg. Mater. 2005, 41, 19.
24. Yu, H.-L.; Chi, Y.; Liu, C.-S.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 245.
25. (b) Lai, Y.-H.; Chou, T.-Y.; Song, Y.-H.; Liu, C.-S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Chem. Mater. 2003, 15, 2454.
26. Goel, S. C.; Kramer, K. S.; Chiang, M. Y.; Buhro, W. E. Polyhedron 1990, 9, 611.
27. (b) Young, V. L.; Cox, D. F.; Davis, M. E. Chem. Mater. 1993, 5, 1701.
28. Hambrock, J.; Becker, R.; Birkner, A.; Weiss, J.; Fischer, R. A. Chem. Commun. 2002, 68.
29. (b) Becker, R.; Devi, A.; Weiss, J.; Weckenmann, U.; Winter, M.; Kiener, C.; Becker, H.-W.; Fischer, R. A. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 149.
30. Chang, I.-S.; Willis, C. J. Can. J. Chem. 1977, 55, 2465.
31. (b) Loeb, S. J.; Richardson, J. F.; Willis, C. J. Inorg. Chem. 1983, 22, 2736.
32. Tung, Y.-L.; Tseng, W.-C.; Lee, C.-Y.; Chi, Y.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Organometallics 1999, 18, 864.
33. (b) Chi, Y.; Hsu, P.-F.; Liu, C.-S.; Ching, W.-L.; Chou, T.-Y.; Carty, A. J.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H.; Chuang, S.-H. J. Mater. Chem. 2002, 12, 3541.
34. Chang, C.-H.; Hwang, K. C.; Liu, C.-S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Scoles, L.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H.; Reedijk, J. Angew. Chem., Int. Ed. 2001, 40, 4651.
35. Jeffries, P. M.; Wilson, S. R.; Girolami, G. S. Inorg. Chem. 1992, 31, 4503.
36. Luo, H.; Fanwick, P. E.; Green, M. A. Inorg. Chem. 1998, 37, 1127.
37. Pinkas, J.; Huffman, J. C.; Bollinger, J. C.; Streib, W. E.; Baxter, D. V.; Chisholm, M. H.; Caulton, K. G. Inorg. Chem. 1997, 36, 2930.
38. Woo, K.; Paek, H.; Lee, W. I. Inorg. Chem. 2003, 42, 6484.
39. Maverick, A. W.; Fronczek, F. R.; Maverick, E. F.; Billodeaux, D. R.; Cygan, Z. T.; Isovitsch, R. A. Inorg. Chem. 2002, 41, 6488.
40. Breeze, S. R.; Wang, S.; Chen, L. J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1996, 1341.
41. Fine, S. M.; Dyer, P. N.; Norman, J. A. T.; Muratore, B. A.; Iampietro, R. L. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1991, 204, 415.
42. Kim, D.-H.; Wentorf, R. H.; Gill, W. N. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 3273.
43. (b) Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 1993, 5, 1372.
44. Lee, W.-J.; Min, J.-S.; Rha, S.-K.; Chun, S.-S.; Park, C.-O. J. Mater. Sci. Mater. Electron. 1996, 7, 111.
45. Semaltianos, N. G.; Pastol, J.-L.; Doppelt, P. Surf. Sci. 2004, 562, 157.
46. Condorelli, G. G.; Malandrino, G.; Fragalá, I. L. Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 21.
47. (b) Medina-Valtierra, J.; Ramirez-Ortiz, J.; Arroyo-Rojas, V. M.; Bosch, P.; de los Reyes, J. A. Thin Solid Films 2002, 405, 23.
48. Condorelli, G. G.; Malandrino, G.; Fragalá, I. Chem. Mater. 1994, 6, 1861.
49. Condorelli, G. G.; Malandrino, G.; Fragalá, I. Chem. Mater. 1995, 7, 2096.
50. (b) Hammadi, Z.; Lecohier, B.; Dallaporta, H. J. Appl. Phys. 1993, 73, 5213.
51. Chiou, J.-C.; Juang, J.-C.; Chen, M.-C. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 177.
52. (b) Kim, Y. S.; Kim, D. J.; Kwak, S. K.; Kim, E. K.; Min, S.-K.; Jung, D. Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 1998, 37, L462.
53. Condorelli, G. G.; Malandrino, G.; Fragalà, I. L. Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 237.
54. Hwang, S.; Choi, H.; Shim, I. Chem. Mater. 1996, 8, 981.
55. Hwang, S. T.; Shim, I.; Lee, K. O.; Kim, K. S.; Kim, J. H.; Choi, G. J.; Cho, Y. S.; Choi, H. J. Mater. Res. 1996, 11, 1051.
56. Hsu, P.-F.; Chi, Y.; Lin, T.-W.; Liu, C.-S.; Carty, A. J.; Peng, S.-M. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 28.
57. Zhang, Y.; Choi, S. W.-K.; Puddephatt, R. J. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 9295.
58. (b) Chen, Y.-L.; Liu, C.-S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 17.
59. Aaltonen, T.; Alen, P.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45.