MOCVD of platinum films from (CH3)3CH 3CpPt and Pt(acac)2: Nanostructure, conformality, and electrical resistivity

Chemical Vapor Deposition

Volumn 9, Issue 4, 2003, Pages 213-220

  Goswami, Jaydeb ^a   Wang, Chang Gong ^a   Cao, Wei ^a   Dey, Sandwip K ^a  

^a AZ 85281   (United States)

Author keywords

Liquid source; MOCVD; Platinum; Thin film

Indexed keywords

CAPACITORS; CMOS INTEGRATED CIRCUITS; ELECTRIC CONDUCTIVITY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PLATINUM; PRECIOUS METALS; THERMODYNAMIC STABILITY; THIN FILMS;

CONFORMALITY; INERTNESS; LIQUID SOURCE; OXIDIZING ATMOSPHERE;

METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 1642624584     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200306240     Document Type: Article

References (40)

1. T. Goto, R. Vargas, T. Hirai, J. Phys. II 1993, C3, 297.
2. Z. Xue, M J. Strouse, D. K. Shuh, C. B. Knobler, H. B. Kaesz, R. F. Hicks, R. S. Williams, J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 8779.
3. A. Grill, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1999, 541, 89.
4. C. S. Hwang, B. T. Lee, C. S. Kang, J. W. Kim, K. H. Lee, H.-J. Cho, H Horii, W D. Kim, S. I. Lee, Y. B. Roh, J. Appl. Phys. 1998, 83, 3703.
5. J.-H. Kwon, S.-G. Yoon, Thin Solid Films 1997, 303, 136.
6. J. Goswami, P. Majhi, C. G. Wang, S. K. Dey, Integr. Ferroelectr. 2002, 42, 13.
7. L. Kang, B. H. Lee, W.-J. Qi, Y. Jeon, R. Nieh, S. Gopalan, K. Onishi, J. C. Lee, IEEE Electron Device Lett. 2000, 21, 181.
8. W.-J. Qi, R. Nieh, B H. Lee, L. Kang, Y. Jeon, J. C. Lee, Appl Phys. Lett. 2000, 77, 3269.
9. S. K Dey, J. Goswami, C-G Wang, P. Majhi, Jpn. J. Appl. Phys 1999, 38, L1052.
10. J. Goswami, C.-G. Wang, P. Majhi, Y.-W. Shin, S. K. Dey, J. Mater. Res. 2001, 16, 2192
11. O. Aucicllo, C M Foster, K. Ramesh, Annu. Rev Mater. Sci. 1998, 28, 501.
12. S. K. Dey, J-J. Lee, P. Alluri, Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 3142.
13. S. Sivaram, Chemical Vapor Depositton, Van Nostrand Reinhold, New York 1995
14. M. J. Rand, J. Electrochem. Soc. 1973, 120, 686.
15. Z. Xue, H. Thridandam, H. D. Kaesz, R. F. Hicks, Chem. Mater. 1992, 4, 162
16. M. Hiratani, T. Nabatame, Y. Matsui, S. Kimura, Thin Solid Films 2002, 410, 200
17. The Chemistry of Metal CVD (Eds: T. T Kodas, M. J. Hampden-Smith). VCH, Weinheim 1994.
18. O. Valet, P. Doppelt, P. K. Baumann, M. Schumacher, E Balnois, F. Bonet, H. Guillon, Microelectron. Eng. 2002, 64, 457.
19. J. M. Lee, S.-K. Hong, C. S. Hwang, H. J. Kim, C.-G. Suk, J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S148.
20. N. H. Dryden, R. Kumar, E.Ou, M Rashidi, S. Roy, P. R. Norton, R J. Puddephatt, Chem. Mater. 1991, 5, 677.
21. C. D. Tagge, R. D. Simpson, R. G. Bergman, M. J. Hostetler, G. S. Girolami, R. G. Nuzzo, J. Am Chem. Soc. 1996, 118, 2634.
22. G. A Battiston, R. Gerbasi, M. Porchia, A. Gasparatto, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 13.
23. G. Malandrino, R. L. Nigro, I L. Fragala, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 59.
24. S. K. Dey, P. Mahji, Y. W. Shin, D. Tang, A. Kirby, J. Zhao, C. Dornfest, L. Lou, S Kher, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 3354.
25. M. Miyake, K. Lee, S. Kawasaki, Y. Ueda, S. Okamura, T. Shiosaki, Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 241.
26. B K. Moon, K. Hironaka, C. Isobe, S. Hishikawa, J. Appl. Phys. 2001, 89, 6370.
27. C. V. Thompson, Annu. Rev. Mater. Sci. 2000, 30, 159.
28. S. M. Gates, Chem. Rev. 1996, 96, 1519.
29. J.Goswami, S. A. Shivashankar, G. Ananthakrishna, Thin Solid Films 1997, 305, 52.
30. J Tersoff, A. W. Denier, van der Gon, R. M. Tromp, Phys. Rev. Lett. 1994, 72, 266.
31. S. K. Sinha, E. B. Sirota, S. Garoff, H. B. Stanley, Phys. Rev. B 1988, 38, 2291.
32. M. F. Gyure, J J. Zinck, C. Ratsch, D. D. Vvedensky, Phys. Rev. Lett. 1998, 81, 4931.
33. L. R. Doolittie, Nucl Instrum. Methods Phys. Res 1985, 9, 344
34. A. E. Bair, Z Atemon, S. W. Russel, T. L. Alford, J. W. Mayer, J. C. Barbour, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. 1995, 103, 339.
35. Handbook of Chemistry and Physics (Ed: D. L. Lide), CRC Press, Boca Raton, FL 2002.
36. N. W. Ashcroft, N. D. Mermin, Solid State Physics, Harcourt Brace College Publishers, Orlando, FL 1976
37. S. Momose, T. Nakamura, K. Tachibana, Jpn. J. Appl. Phys. 2000, 39, 5384.
38. J. E. Vasek, Z. Zhang, C. T. Sailing, M. G. Lagally, Phys. Rev. B 1995, 51, 17207.
39. G. Rosenfeld, R. Servaty, C. Teichert, B. Poelsema, G. Comsa, Phys. Rev. Lett. 1993, 77, 895.
40. G. Ramaswamy, A. K. Raychaudhury, J. Goswami, S. A. Shivashankar, J. Appl. Phys 1997, 82, 3797.