SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Volumn 14, Issue 11-12, 2008, Pages 358-365

The atomic layer deposition of HfO2 and ZrO2 using advanced metallocene precursors and H2O as the oxygen source

(8) Dezelah IV, Charles L a,f Niinistö, Jaakko b Kukli, Kaupo b,c Munnik, Frans d Lu, Jun e Ritala, Mikko b Leskelä, Markku b Niinistö, Lauri a

a AALTO UNIVERSITY (Finland)

b UNIVERSITY OF HELSINKI (Finland)

c UNIVERSITY OF TARTU (Estonia)

d INSTITUTE OF ION BEAM PHYSICS AND MATERIALS RESEARCH (Germany)

e UPPSALA UNIVERSITY (Sweden)

f Picosun USA (United States)

Author keywords

ALD; Cyclopentadienyl complexes; Hafnium oxide; High k dielectric; Thin film; Zirconium oxide

Indexed keywords

ATOMIC PHYSICS; CAPACITANCE; CARBON FILMS; HAFNIUM; HAFNIUM COMPOUNDS; HYDROGEN; ORGANOMETALLICS; OXIDES; OXYGEN; SILICON COMPOUNDS; THIN FILM DEVICES; THIN FILMS; WATER VAPOR; ZIRCONIA; ZIRCONIUM; ZIRCONIUM ALLOYS; ZIRCONIUM COMPOUNDS;

ALD; CYCLOPENTADIENYL COMPLEXES; HAFNIUM OXIDE; HIGH-K DIELECTRIC; ZIRCONIUM OXIDE;

PHYSICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 57849100217 PISSN: 09481907 EISSN: 15213862 Source Type: Journal
DOI: 10.1002/cvde.200806716 Document Type: Article

Times cited : (54)

References (59)

1
- 0035872897
- G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
- (2001) J. Appl. Phys , vol.89 , pp. 5243
- Wilk, G.D.¹ Wallace, R.M.² Anthony, J.M.³

2
- 3042595571
- L. Niinistö, J. Päiväsaari, J. Niinistö, M. Putkonen, M. Nieminen, Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1443.
- (2004) Phys. Status Solidi A , vol.201 , pp. 1443
- Niinistö, L.¹ Päiväsaari, J.² Niinistö, J.³ Putkonen, M.⁴ Nieminen, M.⁵

3
- 0344667722
- M. Leskelä, M. Ritala, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 5548.
- (2003) Angew. Chem. Int. Ed , vol.42 , pp. 5548
- Leskelä, M.¹ Ritala, M.²

4
- 0037156103
- M. Leskelä, M. Ritala, Thin Solid Films 2002, 409, 138.
- (2002) Thin Solid Films , vol.409 , pp. 138
- Leskelä, M.¹ Ritala, M.²

5
- 0028758883
- M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 333.
- (1994) Appl. Surf. Sci , vol.75 , pp. 333
- Ritala, M.¹ Leskelä, M.²

6
- 0037103549
- K. Kukli, M. Ritala, J. Aarik, T. Uustare, M. Leskelä, J. Appl. Phys. 2002, 92, 1833.
- (2002) J. Appl. Phys , vol.92 , pp. 1833
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Aarik, J.³ Uustare, T.⁴ Leskelä, M.⁵

7
- 57849114046
- J. Aarik, A. Aidla, H. Mandar, T. Uustare, V. Sammelselg, Thin Solid Films 2002, 97, 408.
- (2002) Thin Solid Films , vol.97 , pp. 408
- Aarik, J.¹ Aidla, A.² Mandar, H.³ Uustare, T.⁴ Sammelselg, V.⁵

8
- 0036714109
- N. Yoshii, N. Takahashi, T. Nakamura, M. Yoshioka, Electrochem. Solid-State Lett. 2005, 5, C85.
- (2005) Electrochem. Solid-State Lett , vol.5
- Yoshii, N.¹ Takahashi, N.² Nakamura, T.³ Yoshioka, M.⁴

9
- 0000127529
- K. Kukli, K. Forsgren, M. Ritala, M. Leskelä, J. Aarik, A. Hårsta, J. Electrochem. Soc. 2001, 148, F227.
- (2001) J. Electrochem. Soc , vol.148
- Kukli, K.¹ Forsgren, K.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴ Aarik, J.⁵ Hårsta, A.⁶

10
- 0036574786
- K. Kukli, M. Ritala, T. Uustare, J. Aarik, K. Forsgren, T. Sajavaara, M. Leskelä, A. Hårsta, Thin Solid Films 2002, 410, 53.
- (2002) Thin Solid Films , vol.410 , pp. 53
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Uustare, T.³ Aarik, J.⁴ Forsgren, K.⁵ Sajavaara, T.⁶ Leskelä, M.⁷ Hårsta, A.⁸

11
- 0038891978
- K. Forsgren, J. Westlinder, J. Lu, J. Olsson, A. Hårsta, Chem. Vap Deposition 2002, 8, 105.
- (2002) Chem. Vap Deposition , vol.8 , pp. 105
- Forsgren, K.¹ Westlinder, J.² Lu, J.³ Olsson, J.⁴ Hårsta, A.⁵

12
- 0141633668
- H. B. Park, M. Cho, J. Park, S. W. Lee, C. S. Hwang, J.-P. Kim, J.-H. Lee, N.-I. Lee, H.-K. Lee, S.-J. Oh, J. Appl. Phys. 2003, 94, 3641.
- (2003) J. Appl. Phys , vol.94 , pp. 3641
- Park, H.B.¹ Cho, M.² Park, J.³ Lee, S.W.⁴ Hwang, C.S.⁵ Kim, J.-P.⁶ Lee, J.-H.⁷ Lee, N.-I.⁸ Lee, H.-K.⁹ Oh, S.-J.¹⁰

13
- 0028517695
- M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, T. Prohaska, G. Friedbacher, M. Grasserbauer, Thin Solid Films 1994, 250, 72.
- (1994) Thin Solid Films , vol.250 , pp. 72
- Ritala, M.¹ Leskelä, M.² Niinistö, L.³ Prohaska, T.⁴ Friedbacher, G.⁵ Grasserbauer, M.⁶

14
- 0141858720
- E. P. Gusev, C. Cabral, M. Copel, C. D'Emic, M. Gribelyuk, Microelectron. Eng. 2003, 69, 145.
- (2003) Microelectron. Eng , vol.69 , pp. 145
- Gusev, E.P.¹ Cabral, C.² Copel, M.³ D'Emic, C.⁴ Gribelyuk, M.⁵

15
- 0032653080
- J. Aarik, A. Aidla, A.-A. Kiisler, T. Uustare, V. Sammelselg, Thin Solid Films 1999, 340, 110.
- (1999) Thin Solid Films , vol.340 , pp. 110
- Aarik, J.¹ Aidla, A.² Kiisler, A.-A.³ Uustare, T.⁴ Sammelselg, V.⁵

16
- 0034320793
- J. Aarik, A. Aidla, H. Mandar, V. Sammelselg, T. Uustare, J. Cryst. Growth 2000, 220, 105.
- (2000) J. Cryst. Growth , vol.220 , pp. 105
- Aarik, J.¹ Aidla, A.² Mandar, H.³ Sammelselg, V.⁴ Uustare, T.⁵

17
- 0037009694
- K. Kukli, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskelä, Thin Solid Films 2002, 416, 72.
- (2002) Thin Solid Films , vol.416 , pp. 72
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Sajavaara, T.³ Keinonen, J.⁴ Leskelä, M.⁵

18
- 0037109163
- J. Aarik, J. Sundqvist, A. Aidla, J. Lu, T. Sajavaara, K. Kukli, A. Hårsta, Thin Solid Films 2002, 418, 69.
- (2002) Thin Solid Films , vol.418 , pp. 69
- Aarik, J.¹ Sundqvist, J.² Aidla, A.³ Lu, J.⁴ Sajavaara, T.⁵ Kukli, K.⁶ Hårsta, A.⁷

19
- 0037113039
- K. Kukli, M. Ritala, J. Sundqvist, J. Aarik, J. Lu, T. Sajavaara, M. Leskelä, A. Hårsta, J. Appl. Phys. 2002, 92, 5698.
- (2002) J. Appl. Phys , vol.92 , pp. 5698
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Sundqvist, J.³ Aarik, J.⁴ Lu, J.⁵ Sajavaara, T.⁶ Leskelä, M.⁷ Hårsta, A.⁸

20
- 0036799255
- D. M. Hausmann, E. Kim, J. Becker, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2002, 74, 4350.
- (2002) Chem. Mater , vol.74 , pp. 4350
- Hausmann, D.M.¹ Kim, E.² Becker, J.³ Gordon, R.G.⁴

21
- 10944272042
- S. J. Yun, J. W. Lim, J.-H. Lee, Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, F81.
- (2004) Electrochem. Solid-State Lett , vol.7
- Yun, S.J.¹ Lim, J.W.² Lee, J.-H.³

22
- 6344235714
- W.-H. Nam, S.-W. Rhee, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 201.
- (2004) Chem. Vap. Deposition , vol.10 , pp. 201
- Nam, W.-H.¹ Rhee, S.-W.²

23
- 0000983812
- K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 199.
- (2002) Chem. Vap. Deposition , vol.8 , pp. 199
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Keinonen, J.⁵

24
- 25144457034
- K. Kukli, T. Pilvi, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Lu, M. Leskelä, Thin Solid Films 2005, 491, 328.
- (2005) Thin Solid Films , vol.491 , pp. 328
- Kukli, K.¹ Pilvi, T.² Ritala, M.³ Sajavaara, T.⁴ Lu, J.⁵ Leskelä, M.⁶

25
- 0034855299
- R. G. Gordon, J. Becker, D. Hausmann, S. Suh, Chem. Mater. 2001, 13, 2463.
- (2001) Chem. Mater , vol.13 , pp. 2463
- Gordon, R.G.¹ Becker, J.² Hausmann, D.³ Suh, S.⁴

26
- 1842582460
- W.-H. Nam, S.-W. Rhee, Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, C55.
- (2004) Electrochem. Solid-State Lett , vol.7
- Nam, W.-H.¹ Rhee, S.-W.²

27
- 18744376979
- Y. Kim, J. Koo, J. Han, S. Choi, H. Jeon, C.-G. Park, J. Appl. Phys. 2002, 92, 5443.
- (2002) J. Appl. Phys , vol.92 , pp. 5443
- Kim, Y.¹ Koo, J.² Han, J.³ Choi, S.⁴ Jeon, H.⁵ Park, C.-G.⁶

28
- 0037255236
- S.-I. Lee, J. S. Owyang, Y. Senzaki, A. Helms, K. Kapkin, Solid State Technol. 2003, 46, 45.
- (2003) Solid State Technol , vol.46 , pp. 45
- Lee, S.-I.¹ Owyang, J.S.² Senzaki, Y.³ Helms, A.⁴ Kapkin, K.⁵

29
- 25444498708
- S. X. Lao, R. M. Martin, J. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. A 2005, 23, 488.
- (2005) J. Vac. Sci. Technol. A , vol.23 , pp. 488
- Lao, S.X.¹ Martin, R.M.² Chang, J.P.³

30
- 0001140789
- K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 297.
- (2000) Chem. Vap. Deposition , vol.6 , pp. 297
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³

31
- 11144289175
- R. Matero, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, A. C. Jones, J. L. Roberts, Chem. Mater. 2004, 16, 5630.
- (2004) Chem. Mater , vol.16 , pp. 5630
- Matero, R.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Jones, A.C.⁵ Roberts, J.L.⁶

32
- 0036567715
- R. Matero, M. Ritala, M. Leskelä, A. C. Jones, P. A. Williams, J. F. Bickley, A. Steiner, T. J. Leedham, H. O. Davies, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 24.
- (2002) J. Non-Cryst. Solids , vol.303 , pp. 24
- Matero, R.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Jones, A.C.⁴ Williams, P.A.⁵ Bickley, J.F.⁶ Steiner, A.⁷ Leedham, T.J.⁸ Davies, H.O.⁹

33
- 79956040381
- Y.-S. Lin, R. Puthenkovilakam, J. P. Chang, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2041.
- (2002) Appl. Phys. Lett , vol.81 , pp. 2041
- Lin, Y.-S.¹ Puthenkovilakam, R.² Chang, J.P.³

34
- 1942420039
- K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, A. C. Jones, J. L. Roberts, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 315.
- (2003) Chem. Vap. Deposition , vol.9 , pp. 315
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Keinonen, J.⁵ Jones, A.C.⁶ Roberts, J.L.⁷

35
- 0037461228
- K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, A. C. Jones, J. L. Roberts, Chem. Mater. 2003, 15, 1722.
- (2003) Chem. Mater , vol.15 , pp. 1722
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Keinonen, J.⁵ Jones, A.C.⁶ Roberts, J.L.⁷

36
- 1942454799
- K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, A. C. Jones, N. L. Tobin, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 91.
- (2004) Chem. Vap. Deposition , vol.10 , pp. 91
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Leskelä, M.³ Sajavaara, T.⁴ Keinonen, J.⁵ Jones, A.C.⁶ Tobin, N.L.⁷

37
- 10044240444
- H. B. Park, M. Cho, J. Park, S. W. Lee, T. J. Park, C. S. Hwang, Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, G254.
- (2004) Electrochem. Solid-State Lett , vol.7
- Park, H.B.¹ Cho, M.² Park, J.³ Lee, S.W.⁴ Park, T.J.⁵ Hwang, C.S.⁶

38
- 2642554012
- H. S. Chang, S.-K. Baek, H. Park, H. Hwang, J. H. Oh, W. S. Shin, J. H. Yeo, K. H. Hwang, S. W. Nam, H. D. Lee, C. L. Song, D. W. Moon, M.-H. Cho, Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, F42.
- (2004) Electrochem. Solid-State Lett , vol.7
- Chang, H.S.¹ Baek, S.-K.² Park, H.³ Hwang, H.⁴ Oh, J.H.⁵ Shin, W.S.⁶ Yeo, J.H.⁷ Hwang, K.H.⁸ Nam, S.W.⁹ Lee, H.D.¹⁰ Song, C.L.¹¹ Moon, D.W.¹² Cho, M.-H.¹³

39
- 21244473070
- R. J. Potter, P. R. Chalker, T. D. Manning, H. C. Aspinall, Y. F. Loo, A. C. Jones, L. M. Smith, G. W. Critchlow, M. Schumacher, Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 159.
- (2005) Chem. Vap. Deposition , vol.11 , pp. 159
- Potter, R.J.¹ Chalker, P.R.² Manning, T.D.³ Aspinall, H.C.⁴ Loo, Y.F.⁵ Jones, A.C.⁶ Smith, L.M.⁷ Critchlow, G.W.⁸ Schumacher, M.⁹

40
- 34547116558
- W. Cho, K.-S. An, T.-M. Chung, C. G. Kim, B.-S. So, Y.-H. You, J.-H. Hwang, D. Jung, Y. Kim, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 665.
- (2006) Chem. Vap. Deposition , vol.12 , pp. 665
- Cho, W.¹ An, K.-S.² Chung, T.-M.³ Kim, C.G.⁴ So, B.-S.⁵ You, Y.-H.⁶ Hwang, J.-H.⁷ Jung, D.⁸ Kim, Y.⁹

41
- 0036117443
- J. F. Conley, Y. Ono, W. Zhuang, D. J. Tweet, W. Gao, S. K. Mohammed, R. Solanki, Electrochem. Solid-State Lett. 2002, 5, C57.
- (2002) Electrochem. Solid-State Lett , vol.5
- Conley, J.F.¹ Ono, Y.² Zhuang, W.³ Tweet, D.J.⁴ Gao, W.⁵ Mohammed, S.K.⁶ Solanki, R.⁷

42
- 0037250244
- J. F. Conley, Y. Ono, D. J. Tweet, W. Zhuang, R. Solanki, J. Appl. Phys. 2003, 93, 712.
- (2003) J. Appl. Phys , vol.93 , pp. 712
- Conley, J.F.¹ Ono, Y.² Tweet, D.J.³ Zhuang, W.⁴ Solanki, R.⁵

43
- 0035655349
- M. Putkonen, L. Niinistö, J. Mater. Chem. 2001, 11, 3141.
- (2001) J. Mater. Chem , vol.11 , pp. 3141
- Putkonen, M.¹ Niinistö, L.²

44
- 0942281145
- M. Putkonen, J. Niinistö, K. Kukli, T. Sajavaara, M. Karppinen, H. Yamauchi, L. Niinistö, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 207.
- (2003) Chem. Vap. Deposition , vol.9 , pp. 207
- Putkonen, M.¹ Niinistö, J.² Kukli, K.³ Sajavaara, T.⁴ Karppinen, M.⁵ Yamauchi, H.⁶ Niinistö, L.⁷

45
- 23844485990
- J. Niinistö, A. Rahtu, M. Putkonen, M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, Langmuir 2005, 21, 7321.
- (2005) Langmuir , vol.21 , pp. 7321
- Niinistö, J.¹ Rahtu, A.² Putkonen, M.³ Ritala, M.⁴ Leskelä, M.⁵ Niinistö, L.⁶

46
- 21244467231
- J. Niinistö, M. Putkonen, L. Niinistö, S. L. Stoll, K. Kukli, T. Sajavaara, M. Ritala, M. Leskelä, J. Mater. Chem. 2005, 15, 2271.
- (2005) J. Mater. Chem , vol.15 , pp. 2271
- Niinistö, J.¹ Putkonen, M.² Niinistö, L.³ Stoll, S.L.⁴ Kukli, K.⁵ Sajavaara, T.⁶ Ritala, M.⁷ Leskelä, M.⁸

47
- 57849095901
- J. Niinistö, M. Putkonen, L. Niinistö, K. Antik, T. Sajavaara, J. Lu, K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2006, 155, F39.
- (2006) J. Electrochem. Soc , vol.155
- Niinistö, J.¹ Putkonen, M.² Niinistö, L.³ Antik, K.⁴ Sajavaara, T.⁵ Lu, J.⁶ Kukli, K.⁷ Ritala, M.⁸ Leskelä, M.⁹

48
- 34547700874
- S. Rushworth, K. Coward, H. Davies, P. Heys, T. Leese, L. Kempster, R. Odedra, F. Song, P. Williams, Surf. Coat. Technol. 2007, 210, 9060.
- (2007) Surf. Coat. Technol , vol.210 , pp. 9060
- Rushworth, S.¹ Coward, K.² Davies, H.³ Heys, P.⁴ Leese, T.⁵ Kempster, L.⁶ Odedra, R.⁷ Song, F.⁸ Williams, P.⁹

49
- 34547409928
- J. Niinistö, M. Putkonen, L. Niinistö, F. Song, P. Williams, P. N. Heys, R. Odedra, Chem. Mater. 2007, 19, 3319.
- (2007) Chem. Mater , vol.19 , pp. 3319
- Niinistö, J.¹ Putkonen, M.² Niinistö, L.³ Song, F.⁴ Williams, P.⁵ Heys, P.N.⁶ Odedra, R.⁷

50
- 52349109279
- R. O'Kane, J. Gaskell, A. C. Jones, P. R. Chalker, K. Black, M. Werner, P. Taechakumput, S. Taylor, P. N. Hayes, R. Odedra, Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 609.
- (2007) Chem. Vap. Deposition , vol.13 , pp. 609
- O'Kane, R.¹ Gaskell, J.² Jones, A.C.³ Chalker, P.R.⁴ Black, K.⁵ Werner, M.⁶ Taechakumput, P.⁷ Taylor, S.⁸ Hayes, P.N.⁹ Odedra, R.¹⁰

51
- 33750812549
- M. Putkonen, L. Niinistö, Top. Organomet. Chem. 2005, 9, 125.
- (2005) Top. Organomet. Chem , vol.9 , pp. 125
- Putkonen, M.¹ Niinistö, L.²

52
- 0034366468
- C. H. Winter, Aldrichim. Acta 2000, 33, 3.
- (2000) Aldrichim. Acta , vol.33 , pp. 3
- Winter, C.H.¹

53
- 0030737099
- K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem.. Soc. 1997, 144, 300.
- (1997) J. Electrochem.. Soc , vol.144 , pp. 300
- Kukli, K.¹ Ihanus, J.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

54
- 0348067304
- K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 3737.
- (1996) Appl. Phys. Lett , vol.68 , pp. 3737
- Kukli, K.¹ Ihanus, J.² Ritala, M.³ Leskelä, M.⁴

55
- 0037084710
- X. Zhao, D. Vanderbilt, Phys. Rev. B 2002, 65, 075105.
- (2002) Phys. Rev. B , vol.65 , pp. 075105
- Zhao, X.¹ Vanderbilt, D.²

56
- 4243672394
- V. Fiorentini, G. Gulleri, Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 266101.
- (2002) Phys. Rev. Lett , vol.89 , pp. 266101
- Fiorentini, V.¹ Gulleri, G.²

57
- 0027659199
- M. Ylilammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
- (1993) Thin Solid Films , vol.232 , pp. 56
- Ylilammi, M.¹ Ranta-aho, T.²

58
- 0031354391
- S. Grigull, U. Kreissig, H. Huber, W. Assmann, Nucl. Instrum. Methods B 1997, 132, 709.
- (1997) Nucl. Instrum. Methods B , vol.132 , pp. 709
- Grigull, S.¹ Kreissig, U.² Huber, H.³ Assmann, W.⁴

59
- 24044546522
- M. Putkonen, T. Sajavaara, L. Niinistö, J. Keinonen, Anal. Bioanal. Chem. 2005, 382, 1791.
- (2005) Anal. Bioanal. Chem , vol.382 , pp. 1791
- Putkonen, M.¹ Sajavaara, T.² Niinistö, L.³ Keinonen, J.⁴

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.