ZrO2 thin films grown on silicon substrates by atomic layer deposition with Cp2Zr(CH3)2 and water as precursors

Chemical Vapor Deposition

Volumn 9, Issue 4, 2003, Pages 207-212

  Putkonen, Matti ^a   Niinistö, Jaakko ^a   Kukli, Kaupo ^b,d   Sajavaara, Timo ^b   Karppinen, Maarit ^c   Yamauchi, Hisao ^c   Nünistö, Lauri ^a  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

^b UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^c TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^d UNIVERSITY OF TARTU   (Estonia)

Author keywords

Atomic Layer Deposition; Cyclopentadienyl precursor; Dielectric properties; Zirconium dioxide

Indexed keywords

DECOMPOSITION; DEPOSITION; DIELECTRIC PROPERTIES; GATES (TRANSISTOR); ORGANOMETALLICS; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; SILICON; THIN FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CYCLOPENTADIENYL PRECURSOR; HIGH-RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE (HRTEM); ZIRCONIUM DIOXIDE;

ZIRCONIUM COMPOUNDS;

EID: 0942281145     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200306254     Document Type: Article

References (55)

1. R. M Wallace, G. D. Wilk, Semicond. Int. 2001, 24, 227.
2. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
3. M. Balog, M. Schieber, M. Michman, S. Patai, Thin Solid Films 1977, 47, 109.
4. H. Treichel, A. Mirwalsky, G. Tempel, G Zorn, D. A Bohling, K R. Coyle, B. S Felker, M. George, W. Kern, A. P. Lane, N. P. Sandler, Adv. Mater. Opt. Electron. 1995, 5, 163.
5. J. Robertson, Appl. Surf. Sci. 2002, 190, 2.
6. Y. Ma, Y. Ono, L. Stecker, D. R. Evans, S. T Hsu, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 1999, 149
7. T. S. Jeon, J. M. White, D L. Kwong, Appl. Phys. Lett 2001, 78, 368
8. K. J. Hubbard, D. G. Schlom, J Mater. Res. 1996, 11, 2757.
9. L. Niinistö, Curr. Opin. Solid State Mater Sci. 1998, 3, 147.
10. M. Leskelä, M Ritala, J Phys. IV 1999, 9, PrS-837.
11. M. Ritala, M. Leskelä. in Handbook of Thin Film Materials (Ed. H S. Nalwa), Vol. 1, Academic Press, San Diego. CA 2002, pp. 103-159.
12. A. I. Kingon, J.-P. Maria, S. K. Streiffer, Nature 2000, 406, 1032
13. M. Ritala, M. Leskela. Appl Surf. Sci 1994, 75, 333.
14. M Copel, M. Gribelyuk, E Gusev, Appl Phys Lett. 2000, 76, 436.
15. E. P. Gusev, M. Copel, E. Cartier, D. Buchanan, H. Okorn-Schmidt, M. Gribelyuk, D. Falcon, R Murphy, S. Molis, I. J. R. Baumvol, C. Krug, M Jussila, M. Tuominen, S. Haukka, Proc. Electrochem. Soc. 2000, 2, 477.
16. a) O. Snch, R. B Clark-Phelps, A. R. Londergan, J. Winkler, T. E. Seidel, Thin Solid Films 2002, 402, 248.
17. b) C. M. Perkins, B. B. Triplett, P. C. McIntyre, K. C Saraswat, S Haukka, M. Tuominen. Appl. Phys. Lett 2001, 78, 2357.
18. M. Cassir, F. Goubin, C. Bernay, P. Vernoux, D. Lincot, Appl. Phys. Lett. 2002, 103, 120.
19. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, T. Uustare, V. Sammelselg, Thin Solid Films 2002, 408, 97.
20. K Kukh, K. Forsgren, J. Aarik, T. Uustare, A. Aidla, A. Niskanen, M. Ritala, M. Leskelä, A. Hårsta, J. Cryst. Growth 2001, 231, 262.
21. K. Kukli, K. Forsgren, M. Ritala, M. Leskelä, J. Aarik, A. Hårsta, J. Electrochem. Soc. 2001, 148, F227.
22. J. P. Chang, Y.-S. Lin, J. Appl. Phys. 2001, 90, 2964.
23. K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 297.
24. R. Matero, M. Ritala, M. Leskela, A. C. Jones, P. A. Williams, J. F. Bickley, A. Steiner, T. J. Leedham, H. O. Davies, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 24.
25. J. Koo, Y. Kim, H. Jeon, Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 3043.
26. M. Putkonen, L. Niinistö, J. Mater. Chem. 2001, 11, 3141.
27. J. I. Skarp, P. J. Soinincn, P. T. Soininen, Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 251.
28. C. Ducsö, N. Q. Khanh, Z. Horváth, I Bársony, M. Utriamen, S. Lehto, M. Nieminen, L. Niinistö, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 683.
29. A. E Braun, Semicond. Int. 2001, 24, 52.
30. A. Hakuli, A. Kytökivi, O. I. Krause, Appl. Catal. A 2000, 190, 219.
31. V. G. Milt, M. A. Ulla, E. A. Lombardoe, J. Catal. 2001, 200, 241.
32. A Rosental, A. Tarre, A. Gerst, T. Uustare, V. Sammelselg, Sens. Actuators, B 2001, 77, 297.
33. A Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A. Root, H. Österholm, J.-P. Jacobs, H. H Brongersma, Langmuir 1997, 13, 2717
34. A. Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A. Root, Langmuir 1996, 12, 4395.
35. M. Kröger-Laukkanen, M. Peussa, M. Leskelä, L. Niinistö. Appl. Surf. Sci. 2001, 183, 290.
36. M. Putkonen, T. Sajavaara, L.-S. Johansson, L. Nimistö, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 44.
37. J. Päiväsaari, M Putkonen, L. Niinistö, J. Mater. Chem. 2002, 12, 1828
38. K. Nakamura, S Ichimura, A. Kurokawa, K. Koike, G. Inoue, T. Fukuda, J. Vac. Sci. Technol. A 1999, 17, 1275.
39. K Nakamura, S. Ichimura, A. Kurokawa, K. Koike, Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L754.
40. E. P. Gusev, M. Copel, E. Cartier, I. J R. Baumvol, C. Krug, M. Gribelyuk, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 176.
41. E. P. Gusev, E. Cartier, D. A. Buchanan, M. Gribelyuk, M. Copel, H. Okorn-Schmidt, C. D'Emic, Microelectron. Eng. 2001, 59, 341.
42. E. P. Gusev, E. Cartier, M Copel, M. Gribelyuk, D. A. Buchanan, H. Okorn-Schmidt, C. D'Emic, P. Kozlowski, M. Tuominen, M. Linnermo, S. Haukka. Proc. Electrochem. Soc. 2001, 9, 189
43. M. Nieminen, L. Niinisto, E Rauhala, J. Mater. Chem. 1996, 6, 27.
44. A. W. Ott, K. C. McCarley, J. W Klaus, J. D. Way, S. M. George, Appl. Surf. Sci. 1996, 107, 128.
45. M. Putkonen, T Sajavaara, L. Niinistö, J. Mater. Chem 2000, 10, 1857.
46. M. Vehkamäki, T. Hatanpäa, T. Hanninen, M. Ritala, M. Leskela, Electrochem. Solid State Lett 1999, 2, 504.
47. S. Codato, G. Carta, G. Rossetto, G. A. Rizzi, P. Zanella, P. Scardi, M. Leoni, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 159
48. D. E Richardson. G. H. L Lang, E. Crestoni, M. F. Ryan, J. R Eyler, Int. J. Mass Spectrom. 2001, 204, 255.
49. K Kukli, M. Ritala, T. Uustare, J. Aarik, K. Forsgren, T. Sajavaara, M. Leskelä, A. Hårsta, Thin Solid Films 2002, 410, 53.
50. E. H. Nicollian, J. R. Brews, MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology, Wiley, New York 1982, p. 465.
51. S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed , Wiley, New York 1981, p. 397.
52. D. K. Schröder, Semiconductor Material and Device Characterization, 2nd ed., Wiley, New York 1998, p. 360.
53. E Samuel, M. D. Rausch, J. Am. Chem. Soc. 1973, 95, 6263
54. M. Yhlammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
55. J Jokinen, J. Keinonen, P. Tikkanen, A. Kuronen, T. Ahlgren, K. Nordlund, Nucl. Instrum. Methods Phys Res., Sect. B, 1996, 119, 533.