Iodide-based atomic layer deposition of ZrO2: Aspects of phase stability and dielectric properties

Chemical Vapor Deposition

Volumn 8, Issue 3, 2002, Pages 105-109

  Forsgren, Katarina ^a   Westlinder, Jörgen ^a   Lu, Jun ^a   Olsson, Jörgen ^a   Hårsta, Anders ^a  

^a UPPSALA UNIVERSITY   (Sweden)

Author keywords

Atomic layer deposition; Dielectric constant; Zirconium dioxide

Indexed keywords

CORROSION PROTECTION; DEPOSITION; DIELECTRIC PROPERTIES; ELECTRIC PROPERTIES; IODINE COMPOUNDS; PERMITTIVITY; THERMODYNAMIC STABILITY; THIN FILMS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; GROWTH TEMPERATURE; THERMAL BARRIERS; ZIRCONIUM DIOXIDE;

ZIRCONIUM COMPOUNDS;

EID: 0038891978     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1521-3862(20020503)8:3<105::AID-CVDE105>3.0.CO;2-E     Document Type: Article

References (22)

1. S. B. Deshu, T. Shi, C. K. Kwok, Mat. Res. Symp. Proc. 1990, 168, 349.
2. A. Bastianini, G. A. Battiston, R. Gerhasi, M. Porchia, S. Dalio, J. Phys. IV 1995, 5, C5-525.
3. M. Sayer, K. Srerenivas, Science 1990 , 247, 1056.
4. K. J. Hubbard, D. G. Schlom, J. Mater. Res. 1996 , 11, 2757.
5. M. Ozawa, S. Suzuki, C.-K. Loong, J. C. Nipko, Appl. Surf. Sci. 1997, 121/122, 133.
6. R. C. Garvie, High Temperature Oxides, Part II (Ed: A. M. Alper), Academic Press Inc., San Diego, CA 1970, p. 117.
7. G. Bocquillon, C. Susse, B. Vodar, Rev. Int. Hautes Temp. Refract. 1968, 5, 247.
8. J. Cai, C. Raptis, Y. S. Raptis, E. Anastassakis, Phys. Rev. B 1995, 51, 201.
9. J. S. Kim, H. A. Marzouk, P. J. Reucroft, Thin Solid Films 1995, 254, 33.
10. M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 333.
11. M. Copel, M. Gribelyuk, E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436.
12. C. M. Perkins, B. B. Triplett, P. C. McIntyre, K. C. Saraswat, S. Haukka, M. Tuominen, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2357.
13. K. Kukli, M. Ritala, M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 297.
14. K. Kukli, K. Forsgren, J. Aarik, T. Uustare, A. Aidla, A. Niskanen, M. Ritala, M. Leskelä, A. Hårsta, J. Cryst. Growth 2001, 231, 262.
15. C. J. Howard, E. H. Kisi, R. B. Roberts, R. J. Hill, J. Am. Ceram. Soc. 1990, 73, 2828.
16. B. Bondars, G. Heidemane, J. Grabis, K. Laschke, H. Boysen, J. Schneider, F. Frey, J. Mater. Sci. 1995, 30, 1621.
17. P. Duwez, F. Odell, J. Am. Ceram. Soc. 1950, 33, 274.
18. B.-K. Kim, J.-W. Hahn, K. R. Han, J. Mater. Sci. Lett. 1997, 16, 669.
19. A. P. Mirgorodsky, M. B. Smirnov, P. E. Quintard, J. Phys. Chem. Solids. 1999, 60, 985.
20. K. Forsgren, J. Sundqvist, A. Hårsta, K. Kukli, J. Aarik, A. Aidla, in Fifteenth Int. Conf. on CVD (Eds: M. D. Allendorf, M. L. Hitchman), The Electrochemical Society Proceedings Series, Pennington, NJ 2000, p. 645.
21. K. Kukli, K Forsgren, M. Ritala, M. Leskelä, J. Aarik, A. Hårsta, J. Electrochem. Soc. 2001, 148, F227.
22. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, V. Sammelselg, J. Cryst. Growth 1995, 148, 268.