In situ quadrupole mass spectrometry study of atomic-layer deposition of ZrO2 using Cp2Zr(CH3)2 and water

Langmuir

Volumn 21, Issue 16, 2005, Pages 7321-7325

  Niinistö, Jaakko ^a   Rahtu, Antti ^b,c   Putkonen, Matti ^a   Ritala, Mikko ^b   Leskelä, Markku ^b   Niinistö, Lauri ^a  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

^b UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^c ASM Microchemistry Oy   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BYPRODUCTS; FILM GROWTH; MASS SPECTROMETRY; THERMODYNAMIC STABILITY; THICKNESS MEASUREMENT; WATER; ZIRCONIUM COMPOUNDS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; GAS PULSES; PRECURSORS; QUADRUPOLE;

DEPOSITION;

EID: 23844485990     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0500732     Document Type: Article

References (27)

1. Houssa, M.; Heyns, M. M. In High-k Gate Dielectrics; Houssa, M., Ed.; Institute of Physics Publishing: Bristol, U.K., 2004; p 10.
2. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
3. Hubbard, K. J.; Schlom, D. G. J. Mater. Res. 1996, 11, 2757.
4. Hand, A. Semicond. Int. 2003, 26(5), 46.
5. Niinistö, L.; Ritala, M.; Leskelä, M. Mater. Sci. Eng. B 1996, 41, 23.
6. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S, Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2001; Vol. l, pp 103-159.
7. Niinistö, L.; Päiväsaari, J.; Niinistö, J.; Putkonen, M.; Nieminen, M. Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1443.
8. Ritala, M.; Leskelä, M. Appl. Surf. Sci. 1994, 75, 333.
9. Copel, M.; Gribelyuk, M.; Gusev, E. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 436.
10. Aarik, J.; Aidla, A.; Mändar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V. Thin Solid Films 2002, 405, 97.
11. Nohira, H.; Tsai, W.; Besling, W.; Young, E.; Petty, J.; Conard, T.; Vandervorst, W.; De Gendt, S.; Heyns, M.; Maes, J.; Tuominen, M. J. Non-Cryat, Solids 2002, 303, 83,
12. Putkonen, M.; Niinistö, J.; Kukli, K.; Sajavaara, T.; Karppinen, M.; Yamauchi, H.; Niinistö, L. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 207.
13. Niinistö, J.; Putkonen, M.; Niinistö, L.; Kukli, K.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Appl. Phys. 2004, 95, 84.
14. Niinistö, J.; Putkonen, M.; Niinistö, L. The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2004); extended abstract on CD-ROM.
15. Juppo, M.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. Langmuir 2000, 16, 4034.
16. Rahtu, A.; Alaranta, T.; Ritala, M. Langmuir 2001, 17, 6506.
17. Rahtu, A.; Ritala, M. J. Mater. Chem. 2002, 12, 1484.
18. Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 21.
19. Rahtu, A.; Ritala, M. Electrochem. Soc. Proc. 2000, 2000-13, 105.
20. Samuel, E.; Rausch, M. D. J. Am. Chem. Soc. 1978, 95, 6263.
21. Suntola, T. Thin Solid Films 1992, 216, 84.
22. Rahtu, A.; Kukli, K.; Ritala, M. Chem. Mater. 2001, 13, 817.
23. Codato, S.; Carta, G.; Rossetto, G.; Zanella, P.; Gioacchini, A. M.; Traldi, P. Rapid Commun. Mass Spectrom. 1998, 12, 1981.
24. Thomas, J. L.; Brown, K. T. J. Organomet. Chem. 1976, 111, 297.
25. Agron, P. A.; Fuller, E. L.; Holmes, H. F. J. Colloid Interface Sci. 1975, 52, 553.
26. Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, A.-A.; Uustare, T.; Sammelselg, V. Thin Solid Films 1999, 340, 110.
27. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Mater. 2001, 13, 4506.