메뉴 건너뛰기




Volumn 203, Issue 13, 2006, Pages 3324-3357

Chemical vapor deposition of homoepitaxial diamond films

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

GROWTH RATE; HALL MOBILITY; HIGH POWER DENSITY CONDITION; HOMOEPITAXIAL DIAMOND;

EID: 33750533963     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200671408     Document Type: Review
Times cited : (78)

References (113)
  • 15
    • 84857440157 scopus 로고    scopus 로고
    • http://www.sekitech.biz/product/DiamondCVD/MicroCVD/index.html.
  • 16
    • 84857441156 scopus 로고    scopus 로고
    • http://www.aixtron.com.


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.