Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition

Thin Solid Films

Volumn 542, Issue , 2013, Pages 219-224

  Sammelselg, Väino ^a   Netšipailo, Ivan ^a   Aidla, Aleks ^a   Tarre, Aivar ^a   Aarik, Lauri ^a   Asari, Jelena ^a   Ritslaid, Peeter ^a   Aarik, Jaan ^a  

^a UNIVERSITY OF TARTU   (Estonia)

Author keywords

Atomic layer deposition; Metal oxide coatings; Wet chemical etching; X ray fluorescence spectroscopy

Indexed keywords

DIFFERENT PRECURSORS; METAL OXIDE COATINGS; METAL OXIDE THIN FILMS; PROCESS PARAMETERS; RESIDUAL IMPURITIES; SILICON SUBSTRATES; THIN FILM MATERIAL; X RAY FLUORESCENCE SPECTROSCOPY;

ALUMINUM COATINGS; CHEMICAL REACTIONS; CHEMICAL RESISTANCE; CHROMATE COATINGS; DEPOSITION; FLUORESCENCE SPECTROSCOPY; METALLIC COMPOUNDS; PROTECTIVE COATINGS; THIN FILMS; TITANIUM OXIDES; WET ETCHING;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84881318352     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.079     Document Type: Article

References (73)

1. T. Suntola, J. Antson, A. Pakkala, and S. Lindfors SID 80 Digest 1980 108
2. L. Niinistö, and M. Leskelä Thin Solid Films 225 1993 130
3. V. Miikkulainen, M. Leskelä, M. Ritala, and R.L. Puurunen J. Appl. Phys. 113 2013 021301
4. L. Niinistö, J. Päiväsaari, J. Niinistö, M. Putkonen, and M. Nieminen Phys. Status Solidi A 201 2004 1443
5. S.M. George Chem. Rev. 110 2010 111
6. A. Pakkala Abstract Book of ALD 2004 (AVS-ALD and BALD) Conference 2004 Yliopistopaino Pikapaino 31
7. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, T. Prohaska, G. Friedbacher, and M. Grasserbauer Thin Solid Films 250 1994 72
8. K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala, and M. Leskelä Appl. Phys. Lett. 68 1996 3737
9. J. Aarik, A. Aidla, A.-A. Kiisler, T. Uustare, and V. Sammelselg Thin Solid Films 340 1999 110
10. O. Renault, D. Samour, J.-F. Damlencourt, D. Blin, F. Martin, S. Marthon, N.T. Barrett, and P. Besson Appl. Phys. Lett. 81 2002 3627
11. D.R.G. Mitchell, A. Aidla, and J. Aarik Appl. Surf. Sci. 253 2006 606
12. J.H. Han, W. Lee, S.W. Lee, and C.S. Hwang Proc. International Semiconductor Device Research Symposium 2011 ISDRS College Park, MD, U.S. (7-9 December 2011; art. no. 6135415)
13. S. Yu, H.-Y. Chen, B. Gao, J. Kang, and H.-S.P. Wong ACS Nano 7 2013 2320
14. H. Wong, and H. Iwai Microelectron. Eng. 83 2006 1867
15. J. Hicks, D. Bergstrom, M. Hattendorf, J. Jopling, J. Maiz, S. Pae, C. Prasad, and J. Wiedemer Intel Technol. J. 12 2008 131
16. A. Rosental, A. Tarre, A. Gerst, T. Uustare, and V. Sammelselg Sens. Actuators B 77 2001 297
17. A. Rosental, A. Tarre, A. Gerst, J. Sundqvist, A. Hårsta, A. Aidla, J. Aarik, V. Sammelselg, and T. Uustare Sens. Actuators B 93 2003 552
18. A.V. Whitney, J.W. Elam, S. Zou, A.V. Zinovev, Peter C. Stair, G.C. Schatz, and R.P. Van Duyne J. Phys. Chem. B 109 2005 20522
19. X. Zhang, J. Zhao, A.V. Whitney, J.W. Elam, and R.P. van Duyne J. Am. Chem. Soc. 128 2006 10304
20. H. Ishikawa, H. Shoji, Y. Nakata, K. Mukai, M. Sugawara, M. Egawa, N. Otsuka, Y. Sugiyama, T. Futatsugi, and N. Yokoyama J. Vac. Sci. Technol. A 16 1998 794
21. M.K. Asif, J.N. Kuznia, D.T. Olson, and T. George Appl. Phys. Lett. 63 1993 3470
22. H. Kumagai, K. Toyoda, M. Matsumoto, and M. Obara Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 32 1993 6137
23. D. Riihelä, M. Ritala, R. Matero, and M. Leskelä Thin Solid Films 289 1996 250
24. M. Ishii, S. Iwaia, H. Kawata, T. Ueki, and Y. Aoyagi J. Cryst. Growth 180 1997 15
25. H. Kumagai, K. Toyoda, K. Kobayashi, M. Obara, and Y. Iimura Appl. Phys. Lett. 70 1997 2338
26. J.M. Jensen, A.B. Oelkers, R. Toivola, D.C. Johnson, J.W. Elam, and S.M. George Chem. Mater. 14 2002 2276
27. J. Maula Proc. SPIE 7591 2010 75910S
28. M. Ritala, T. Asikainen, M. Leskelä, and J. Skarp MRS Symp.Proc. 426 1996 513
29. B. Sang, and M. Konagai Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 35 1996 L602
30. E. Cianci, S. Lattanzio, G. Seguini, S. Vassanelli, and M. Fanciulli Thin Solid Films 520 2012 4745 (SI)
31. T. Hirvikorpi, M. Vaha-Nissi, J. Nikkola, A. Harlin, and M. Karpinen Surf. Coat. Technol. 205 2011 5088
32. K. Lahtinen, P. Maydannik, P. Johansson, T. Kääriäinen, D.C. Cameron, and J. Kuusipalo Surf. Coat. Technol. 205 2011 3916
33. L. Paussa, L. Guzman, E. Marin, N. Isomäki, and L. Fedrizzi Surf. Coat. Technol. 206 2002 976
34. R. Matero, M. Ritala, M. Leskelä, T. Salo, J. Aromaa, and O. Forsen J. Phys. IV France 9 1999 493
35. C.X. Shan, X. Hou, and K.L. Choy Surf. Coat. Technol. 202 2008 2399
36. X. Du, K. Zhang, K. Holland, T. Tombler, and M. Moskovits Appl. Opt. 48 2009 6470
37. B. Díaz, E. Härkönen, J. Swiatowska, V. Maurice, A. Seyeux, P. Marcus, and M. Ritala Corros. Sci. 53 2011 2175
38. S.E. Potts, L. Schmalz, M. Fenker, B. Díaz, J. Swiatowska, V. Maurice, A. Seyeux, P. Marcus, G. Radnóczi, L. Tóth, and W.M.M. Kessels J. Electrochem. Soc. 158 2011 C132
39. E. Marin, A. Lanzutti, L. Guzman, and L. Fedrizzi J. Coat. Technol. Res. 9 2012 347
40. I.M. Pohrelyuk, and O.I. Yas'kiv Mater. Sci. 33 1997 375
41. P.R. Roberge Handbook of Corrosion Engineering 2000 McGraw-Hill New York
42. K.P. Lee, K.B. Jung, R.K. Singh, S.J. Pearton, C. Hobbs, and P. Tobin J. Vac. Sci. Technol. A 18 2000 1169
43. S. Norasetthekul, P.Y. Park, K.H. Baik, K.P. Lee, J.H. Shin, B.S. Jeong, V. Shishodia, E.S. Lambers, D.P. Northon, and S.J. Pearton Appl. Surf. Sci. 185 2001 27
44. K.R. Williams, K. Gupta, and M. Wasilik J. Microelectromech. Syst. 12 2003 61
45. W.S. Yang, and S.W. Kang Thin Solid Films 500 2006 231
46. V. Hopfe, and D.W. Sheel Plasma Process. Polym. 4 2007 253
47. Y. Catherine, and A. Talebian J. Electron. Mater. 17 1988 127
48. Y.-C. Kim, H.-H. Park, J.S. Chun, and W.-J. Lee Thin Solid Films 237 1994 57
49. M.J. van Bommel, and T.N.M. Bernards J. Sol-Gel Sci. Technol. 8 1997 459
50. T.N.M. Bernards, B.G. Huls, and M.J. van Bommel J. Sol-Gel Sci. Technol. 10 1997 193
51. S. Nakata, S. Nagai, M. Kumeda, T. Kawae, A. Morimoto, and T. Shimizu J. Vac. Sci. Technol. B 26 2008 1373
52. J. Aarik, A. Aidla, A. Jaek, A.-A. Kiisler, and A.-A. Tammik Acta Polytech. Scand. 195 1990 201
53. 4th ed. Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology 24 1997 John Wiley & Sons New York 233
54. M. Abdallah Mater. Chem. Phys. 82 2003 786
55. N. Masahashi, G. Kimura, M. Oku, K. Komatsu, S. Watanabe, and S. Hanada Corros. Sci. 48 2006 829
56. A. Niilisk, A. Rosental, A. Gerst, V. Sammelselg, and T. Uustare Proc. SPIE 4318 2001 72
57. J. Aarik, A. Aidla, A. Kiisler, T. Uustare, and V. Sammelselg Thin Solid Films 305 1997 270
58. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, K. Kukli, V. Sammelselg, M. Ritala, and M. Leskelä Appl. Surf. Sci. 193 2002 277
59. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, M. Ritala, and M. Leskelä Appl. Surf. Sci. 161 2000 385
60. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, T. Uustare, M. Ritala, and M. Leskelä Thin Solid Films 370 2000 163
61. K. Kukli, J. Aarik, A. Aidla, O. Kohan, T. Uustare, and V. Sammelselg Thin Solid Films 260 1995 135
62. A. Tarre, J. Aarik, H. Mändar, A. Niilisk, R. Pärna, T. Uustare, A. Rosental, and V. Sammelselg Appl. Surf. Sci. 254 2008 5149
63. V. Sammelselg, J. Aarik, A. Aidla, A. Kasikov, E. Heikinheimo, M. Peussa, and L. Niinistö J. Anal. At. Spectrom. 14 1999 523
64. H. Mändar, T. Uustare, J. Aarik, A. Tarre, and A. Rosental Thin Solid Films 515 2007 4570
65. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, and V. Sammelselg J. Cryst. Growth. 220 2000 531
66. V. Sammelselg, A. Rosental, A. Tarre, L. Niinistö, K. Heiskanen, K. Ilmonen, L.-S. Johansson, and T. Uustare Appl. Surf. Sci. 134 1998 78
67. J. Aarik, J. Karlis, H. Mändar, T. Uustare, and V. Sammelselg Appl. Surf. Sci. 181 2001 339
68. V. Sammelselg, E. Rauhala, K. Arstila, A. Zakharov, J. Aarik, A. Kikas, J. Karlis, A. Tarre, A. Seppälä, J. Asari, and I. Martinson Microchim. Acta 139 2002 165
69. J. Aarik, A. Kasikov, M. Kirm, S. Lange, T. Uustare, and H. Mändar Proc. SPIE 5946 2005 1
70. S. Dueñas, H. Castán, H. García, A. de Castro, L. Bailón, K. Kukli, A. Aidla, J. Aarik, H. Mändar, T. Uustare, J. Lu, and A. Hårsta J. Appl. Phys. 99 2006 054902
71. K. Kukli, M. Ritala, R. Matero, and M. Leskelä J. Cryst. Growth 212 2000 459
72. J. Aarik, K. Kukli, A. Aidla, and L. Pung Appl. Surf. Sci. 103 1996 331
73. H. Keune, M. Augustin, D. Demus, and E. Taeger Cimica: Ein Wissensspeicher 1972 VEB Deutscher Verlag Leipzig (573 pp.)