Atomic layer etching: What canwe learn from atomic layer deposition?

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volumn 4, Issue 6, 2015, Pages N5023-N5032

  Faraz, T ^a   Roozeboom, F ^a   Knoops, H C M ^a   Kessels, W M M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84945908456     PISSN: 21628769     EISSN: 21628777     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.0051506jss     Document Type: Article

References (76)

1. G. Moore, Electronics 38, 8 (1965).
2. International Technology Roadmap for Semiconductors, 2013 Edition, Executive Summary.
3. R. Chau, S. Datta, M. Doczy, B. Doyle, J. Kavalieros, and M. Metz, IEEE Electron Device Lett. 25, 408 (2004).
4. M. T. Bohr, R. S. Chau, T. Ghani, and K. Mistry, IEEE Spectrum 44 (10), 29 (2007).
5. M. Radosavljevic, B. Chu-Kung, S. Corcoran, G. Dewey, M. K. Hudait, J. M. Fastenau, J. Kavalieros, W. K. Liu, D. Lubyshev, M. Metz, K. Millard, N. Mukherjee, W. Rachmady, U. Shah, and R. Chau, Tech. Dig. IEDM, 319 (2009).
6. K. J. Kuhn, U. Avci, A. Cappellani, M. D. Giles, M. Haverty, S. Kim, R. Kotlyar, S. Manpatruni, D. Nikonov, C. Pawashe, M. Radosavljevic, R. Rios, S. Shankar, R. Vedula, R. Chau, and I. Young, Tech. Dig. IEDM, 171 (2012).
7. C.-H. Jan, U. Bhattacharya, R. Brain, S.-J. Choi, G. Curello, G. Gupta, W. Hafez, M. Jang, M.Kang, K.Komeyli, T. Leo, N. Nidhi, L. Pan, J. Park, K. Phoa, A. Rahman, C. Staus, H. Tashiro, C. Tsai, P. Vandervoorn, L. Yang, J.-Y. Yeh, and P. Bai, Tech. Dig. IEDM, 44 (2012).
8. C.-Y. Lu, J. Nanoscience Nanotechnology 12, 7604 (2012).
9. Handbook of 3-D Integration: Technology and Applications of 3D Integrated Circuits, (P. Garrou, C. Bower, and P. Ramm, eds.), Wiley-VCH Verlag, Weinheim (2008).
10. T. Suntola, Mater. Sci. Reports 4, 261 (1989).
11. M. Leskelä and M. Ritala, Thin Solid Films 409, 138 (2002).
12. R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 97, 121301 (2005).
13. S. M. George, Chem. Rev. 110, 111 (2010).
14. T. Suntola and J. Antson, US Pat. 4058430 A (1977).
15. G. N. Parsons, J. W. Elam, S. M. George, S. Haukka, H. Jeon, W. M. M. Kessels, M. Leskelä, P. Poodt, M. Ritala, and S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. A 31, 050818 (2013).
16. H. B. Profijt, S. E. Potts, M. C. M. van de Sanden, andW. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A 29, 050801 (2011).
17. P. Poodt, D. C. Cameron, E. Dickey, S. M. George, V. Kuznetsov, G. N. Parsons, F. Roozeboom, G. Sundaram, and A. Vermeer, J. Vac. Sci. Technol. A 30, 010802 (2012).
18. V. M. Donnelly and A. Kornblit, J. Vac. Sci. Technol. A 31, 050825 (2013).
19. C. A. Mack, Proc. of SPIE 9189, 91890D (2014).
20. M. N. Yoder, US Pat. 4, 756, 794 A (1988).
21. Y. Horiike, T. Tanaka, M. Nakano, S. Iseda, H. Sakaue, A. Nagata, H. Shindo, S. Miyazaki, and M. Hirose, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1844 (1990).
22. T. Matsuura, J. Murota, Y. Sawada, and T. Ohmi, Appl. Phys. Lett. 63, 2803 (1993).
23. Y. Aoyagi, K. Shinmura, K. Kawasaki, T. Tanaka, K. Gamo, S. Namba, and I. Nakamoto, Appl. Phys. Lett. 60, 968 (1992).
24. A. Agarwal and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A 27, 37 (2009).
25. S. D. Athavale and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 966 (1995).
26. P. A. Maki and D. J. Ehrlich, Appl. Phys. Lett. 55, 91 (1989).
27. T. Meguro, M. Hamagaki, S. Modaressi, T. Hara, Y. Aoyagi, M. Ishii, and Y. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 56, 1552 (1990).
28. T. Meguro, M. Ishii, K. Kodama, Y. Yamamoto, K. Gamo, and Y. Aoyagi, Thin Solid Films 225, 136 (1993).
29. K. K. Ko and S. W. Pang, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2275 (1993).
30. M. Ishii, T. Meguro, K. Gamo, T. Sugano, and Y. Aoyagi, Jap. J. Appl. Phys. 32, 6178 (1993).
31. H. Sakaue, K. Asami, T. Ichihara, S. Ishizuka, K. Kawamura, and Y. Horiike, MRS Symp. Proc. 222, 195 (1991).
32. K. Suzue, T. Matsuura, J. Murota, Y. Sawada, and T. Ohmi, Appl. Surf. Sci. 82, 422 (1994).
33. S. D. Athavale and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3702 (1996).
34. S. D. Park, D. H. Lee, and G. Y.Yeom, Electrochem. Solid. State Lett. 8, C106 (2005).
35. S. D. Park, C. K. Oh, D. H. Lee, and G. Y. Yeom, Electrochem. Solid. State Lett. 8, C177 (2005).
36. R. A. Gottscho and K. J. Kanarik, APS 64th Annual Gaseous Electronics Conference, Salt Lake City, UT (2011).
37. V. M. Donnelly and D. J. Economou, US Pat. 20110139748 A1 (2011).
38. S. D. Park, W. S. Lim, B. J. Park, H. C. Lee, J. W. Bae, and G. Y. Yeom, Electrochem. Solid-State Lett. 11, H71 (2008).
39. K. Min, C. Park, C. Kang, C. Park, B. Park, Y. Kim, B. Lee, J. C. Lee, G. Bersuker, P. Kirsch, R. Jammy, and G. Yeom, Solid-State Electron. 82, 82 (2013).
40. D. Metzler, R. L. Bruce, S. Engelmann, E. A. Joseph, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 32, 020603 (2014).
41. D. Hausmann, J. Becker, S. L. Wang, and R. G. Gordon, Science 298, 402 (2002).
42. B. B. Burton, M. P. Boleslawski, A. T. Desombre, and S. M. George, Chem. Mater. 20, 7031 (2008).
43. J. W. Klaus, S. J. Ferro, and S. M. George, Appl. Surf. Sci. 162, 479 (2000).
44. T. Aaltonen, A. Rahtu, M. Ritala, and M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett. 6, C130 (2003).
45. H. C. M. Knoops, A. J. M. Mackus, M. E. Donders, M. C. M. van de Sanden, P. H. L. Notten, and W. M. M. Kessels, Electrochem. Solid. State Lett. 12, G34 (2009).
46. M. Chang and J. Yodovsky, US patent 8, 633, 115B2 (2014).
47. S. E. Potts and W. M. M. Kessels, Coord. Chem. Rev. 257, 3254 (2013).
48. H. C. M. Knoops, S. E. Potts, A. A. Bol, and W. M. M. Kessels, in Handbook of Crystal Growth (T. Kuech ed.), Elsevier (2015).
49. Y. Lee and S. M. George, ACS Nano 9, 2061 (2015).
50. J. W. Coburn and H. F. Winters, J. Appl. Phys. 50, 3189, (1979).
51. A. J. M. Mackus, A. A. Bol, and W. M. M. Kessels, Nanoscale 6, 10941 (2014).
52. A. J. M. Mackus, D. Garica-Alonso, H. C. M. Knoops, A. A. Bol, and W. M. M. Kessels, Chem. Mater. 25, 1769 (2013).
53. T. Tynell and M. Karppinen, Semicond. Sci. Technol. 29, 043001 (2014).
54. M. Vehkamäki, T. Hatanpää, T. Hänninen, M. Ritala, and M. Leskelä, Electrochem. Solid. State Lett. 2, 504 (1999).
55. S.-B. Wang and A. E. Wendt, J. Appl. Phys. 88, 643 (2000).
56. H. B. Profijt, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Electrochem. Solid. State Lett. 15, G1 (2012).
57. H. B. Profijt, M. C. M. van de Sanden, andW. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A 31, 01A106 (2013).
58. S. B. S. Heil, P. Kudlacek, E. Langereis, R. Engeln, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Appl. Phys. Lett. 89, 131505 (2006).
59. H. C. M. Knoops, E. Langereis, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A 30, 01A101 (2012).
60. F. Roozeboom, B. Kniknie, A. M. Lankhorst, G. Winands, R. Knaapen, M. Smets, P. Poodt, G. Dingemans, W. Keuning, and W. M. M. Kessels, IOP Conf. Ser.: Mater. Sci. Eng. 41, 012001 (2012).
61. F. Roozeboom, F. van den Bruele, Y. Creyghton, P. Poodt, and W. M. M. Kessels, submitted for publication (in this JSS Focus Issue).
62. W. M. M. Kessels and M. Putkonen, MRS Bulletin 36, 907 (2011).
63. K. J. Kanarik, T. Lill, E. A. Hudson, S. Sriraman, S. Tan, J. Marks, V. Vahedi, and R. A. Gottscho, J. Vac. Sci. Technol. A 33, 020802 (2015).
64. M. Ylilammi, Thin Solid Films 279, 124 (1996).
65. J. Päiväsaari, M. Putkonen, and L. Niinistö, Thin Solid Films 472, 275 (2005).
66. R. L. Puurunen, Chem. Vap. Deposition 9, 327 (2003).
67. Y. Wu, S. E. Potts, P. M. Hermkens, H. C. M. Knoops, F. Roozeboom, and W. M. M. Kessels, Chem. Mater. 25, 4619 (2013).
68. A. C. Dillon, A. W. Ott, J. D. Way, and S. M. George, Surf. Sci. 322, 230 (1995).
69. R. L. Puurunen, Appl. Surf. Sci. 245, 6 (2005).
70. D. Garcia-Alonso, S. E. Potts, C. A. A. van Helvoirt, M. A. Verheijen, and W. M. M. Kessels, J. Mater. Chem. C (2015).
71. S. E. Potts, W. Keuning, E. Langereis, G. Dingemans, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Electrochem. Soc. 157, P66 (2010).
72. A. Delabie, R. L. Puurunen, B. Brijs, M. Caymax, T. Conard, B. Onsia, O. Richard, W. Vandervorst, C. Zhao, M. M. Heyns, M. Meuris, M. M. Viitanen, H. H. Brongersma, M. de Ridder, L. V. Goncharova, E. Garfunkel, T. Gustafsson, and W. Tsai, J. Appl. Phys. 97, 064104 (2005).
73. A. Satta, A. Vantomme, J. Schuhmacher, C. M. Whelan, V. Sutcliffe, and K. Maex, Appl. Phys. Lett. 84, 4571 (2004).
74. E. Langereis, H. C. M. Knoops, A. J. M. Mackus, F. Roozeboom, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Appl. Phys. 102, 083517 (2007).
75. W. M. M. Kessels, H. C. M. Knoops, S. A. F. Dielissen, A. J. M. Mackus, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Phys. Lett. 95, 013114 (2009).
76. M. J. Weber, A. J. M. Mackus, M. A. Verheijen, V. Longo, A. A. Bol, and W. M. M. Kessels, J. Phys. Chem. C 118, 8702 (2014).