Morphology of GaN(0001) and GaN(0001̄) surfaces: Persistence of surface clusters

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 21, Issue 2, 2003, Pages 506-514

  Manske, Westley T ^a   Ratkovich, Anthony S ^a   Lemke, Chris J ^a   McEllistrem, Marcus T ^a  

^a UNIVERSITY OF WISCONSIN EAU CLAIRE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ELECTRONIC STRUCTURE; ETCHING; LOW ENERGY ELECTRON DIFFRACTION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SPUTTERING; SURFACE PROPERTIES;

SURFACE CLUSTERS;

GALLIUM NITRIDE;

EID: 0037351589     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1554925     Document Type: Article

References (77)

1. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L16 (1993).
2. S. Nakamura, J. Cryst. Growth 145, 911 (1994).
3. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, J. Appl. Phys. 76, 8189 (1994).
4. S. Lester, F. Ponce, M. Craford, D. Steigerwald, Appl. Phys. Lett. 66, 1249 (1995).
5. H. Morkoc and S. N. Mohammad, Science 267, 51 (1995).
6. H. Morkoc, S. Strite, G. Gao, M. Lin, B. Sverdlov, and M. Burns, J. Appl. Phys. 76, 1363 (1994).
7. A. Zukauskas, M. Shur, and R. Gaska, MRS Bull. 26, 764 (2001).
8. A. Bergh, G. Craford, A. Duggal, R. Haitz, Phys. Today 54, 42 (2001).
9. S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyuku, Y. Sugimoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 35, L74 (1996).
10. S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyuku, and Y. Sugimoto, Appl. Phys. Lett. 68, 2105 (1996).
11. T. Mon, T. Ohwaki, Y. Taga, N. Shibata, M. Koike, and K. Manabe, Thin Solid Films 287, 184 (1996).
12. S. W. King, E. P. Carlson, R. J. Therrien, J. A. Christman, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, J. Appl. Phys. 86, 5584 (1999).
13. C. Bungaro, K. Rapcewicz, and J. Bernholc, Phys. Rev. B 59, 9771 (1999).
14. C. I. Wu and A. Kahn, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2218 (1998).
15. F. A. Ponce, D. Cherns, W. T. Young, and J. W. Steeds, Appl. Phys. Lett. 69, 770 (1996).
16. S. Nakamura, Science 281, 956 (1998).
17. H. J. Queisser and E. E. Haller, Science 281, 945 (1998).
18. S. Evoy, H. G. Craighead, S. Keller, U. K. Mishra, and S. P. DenBaars, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 29 (1999).
19. O-H. Nam, M. Bremser, T. Zheleva, and R. Davis, Appl. Phys. Lett. 71, 2638 (1997).
20. S. Strite and H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1237 (1992).
21. V. Bermudez, D. Koleske, and A. Wickenden, Appl. Surf. Sci. 126, 69 (1998).
22. F. Ponce, D. Bour, W. Young, M. Saunders, and J. Steeds, Appl. Phys. Lett. 69, 337 (1996).
23. A. Munkholm, G. B. Stephenson, J. A. Eastman, C. Thompson, P. Fini, J. S. Speck, O. Auciello, P. H. Fuoss, and S. P. DenBaars, Phys. Rev. Lett. 83, 741 (1999).
24. V. J. Bellitto, B. D. Thoms, D. D. Koleske, A. E. Wickenden, and R. L. Henry, Surf. Sci. 430, 80 (1999).
25. A. R. Smith, R. M. Feenstra, D. W. Greve, M.-S. Shin, M. Skowronski, J. Neugebauer, and J. E. Northrup, Surf. Sci. 423, 70 (1999).
26. S. Y. Karpov, R. A. Talalaev, Y. N. Makarov, N. Grandjean, J. Massies, and B. Damilano, Surf. Sci. 450, 191 (2000).
27. X. Q. Shen, T. Ide, S. H. Cho, M. Shimizu, S. Hara, and H. Okumura, Appl. Phys. Lett. 77, 4013 (2000).
28. R. M. Feenstra, H. Chen, V. Ramachandran, A. R. Smith, and D. W. Greve, Appl. Surf. Sci. 166, 165 (2000).
29. A. Smith, R. Feenstra, D. Greve, M. Shin, M. Skowronski, J. Neugebauer, and J. Northrup, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2242 (1998).
30. Q. Xue, Q. Xue, R. Kakhtizin, Y. Hasegawa, I. Tsong, T. Sakurai, and T. Ohno, Phys. Rev. B 59, 12604 (1999).
31. R. Held, G. Nowak, B. Ishuang, S. Seutter, A. Parkhomovsky, A. Dabiran, I. Grzegory, and S. Porowski, J. Appl. Phys. 85, 7697 (1999).
32. Q. K. Xue, Q. Z. Xue, R. Z. Bakhtizin, Y. Hasegawa, I. S. T. Tsong, and T. Sakurai, Phys. Rev. Lett. 82, 3074 (1999).
33. Y. Nakada and H. Okumura, J. Cryst. Growth 189/190, 370 (1998).
34. A. R. Smith, R. M. Feenstra, D. W. Greve, J. Neugebauer, and J. E. Northrup, Phys. Rev. Lett. 79, 3934 (1997).
35. A. R. Smith, V. Ramachandran, R. M. Feenstra, D. W. Greve, M.-S. Shin, M. Skowronski, J. Neugebauer, and J. E. Northrup, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1641 (1998).
36. S. Gwo, H. Tokumoto, and S. Miwa, Appl. Phys. Lett. 71, 362 (1997).
37. A. Kazimirov, N. Faleev, H. Temkin, M. J. Bezyk, V. Dmitriev, and Y. Melnik, J. Appl. Phys. 89, 6092 (2001).
38. A. Kazimirov, G. Scherb, J. Zegenhagen, T.-L. Lee, M. J. Bedzyk, M. K. Kelly, H. Angerer, O. Ambacher, J. Appl. Phys. 84, 1703 (1998).
39. M. Seelmann-Eggebert, J. L. Weyher, H. Obloh, H. Zimmerman, A. Rar, and S. Porowski, Appl. Phys. Lett. 71, 2635 (1997).
40. V. Ramachandran, C. D. Lee, and R. M. Feenstra, Phys. Rev. Lett. 84, 4014 (2000).
41. B. Garni, J. Ma, M. Perkins, J. Liu, T. F. Kuech, and M. G. Lagally, Appl. Phys. Lett. 68, 1380 (1996).
42. C. B. Vartuli, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, J. D. MacKenzie, and E. S. Lambers, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3523 (1996).
43. W. E. Packard, J. D. Dow, K. Doverspike, R. Kaplan, and R. Nicolaides, J. Mater. Res. 12, 646 (1997).
44. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, C. B. Vartuli, J. W. Lee, J. D. MacKenzie, R. G. Wilson, R. J. Shul, F. Ren, and J. M. Zavada, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 831 (1996).
45. V. J. Bellitto, B. D. Thoms, D. D. Koleske, A. E. Wickenden, R. L. Henry, Phys. Rev. B 60, 4816 (1999).
46. C. Kruse, S. Einfeldt, T. Bottcher, D. Hommel, D. Rudloff, and J. Chisten, Appl. Phys. Lett. 78, 3827 (2001).
47. R. W. Hunt et al., Physica B 185, 415 (1993).
48. P. Ryan, Y.-C. Chao, J. Downes, C. McGuiness, K. E. Smith, A. V. Sam-path, and T. D. Moustakas, Surf. Sci. 467, L827 (2000).
49. Y.-C. Chao, C. B. Stagarescu, J. E. Downes, P. Ryan, K. E. Smith, Phys. Rev. B 59, R15586 (1999).
50. C. I. Wu, A. Kahn, N. Taskar, D. Dorman, and D. Gallagher, J. Appl. Phys. 83, 4249 (1998).
51. K. E. Smith, L. C. Duda, C. B. Stagarescu, J. Downes, D. Korakakis, R. Singh, T. D. Moustakas, J. Guo, and J. Nordgren, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2250 (1998).
52. S. S. Dhesi, C. B. Stagarescu, and K. E. Smith, Phys. Rev. B 56, 10271 (1997).
53. J. Ahn, M. M. Sung, J. W. Rabalais, D. D. Koleske, and A. E. Wickenden, Chem. Phys. 107, 9577 (1997).
54. M. M. Sung, J. Ahn, V. Bykov, J. W. Rabalais, D. D. Koleske, and A. E. Wickenden. Phys. Rev. B 54, 14652 (1996).
55. V. M. Bermudez, Chem. Phys. Lett. 317, 290 (2000).
56. V. M. Bermudez and J. P. Long, Surf. Sci. 450, 98 (2000).
57. V. Bermudez, J. Appl. Phys. 80, 1190 (1996).
58. V. J. Bellitto, B. D. Thoms, D. D. Koleske, A. E. Wickenden, and R. L Henry, Phys. Rev. B 60, 4821 (1999).
59. S. P. Grabowski, H. Nienhaus, and W. Monch, Eur. Phys. J. B 16, 3 (2000).
60. S. P. Grabowski, T. U. Kampen, H. Nienhaus, and W. Monch, Appl. Surf. Sci. 123/124, 33 (1998).
61. V. J. Bellitto, Y. Yang, B. D. Thoms, D. D. Koleske, A. E. Wickenden, and R. L. Henry, Surf. Sci. 442, L1019 (1999).
62. R. Shekhar and K. F. Jensen, Surf. Sci. 381, L581 (1997).
63. A. Iller, P. Konarski, J. Marks, I. Grzegory, and M. Bockowski, Electron Technol. 30, 210 (1997).
64. S. V. Novikov et al., J. Cryst. Growth 146, 340 (1995).
65. F. S. Tautz, S. Sloboshanin, U. Stark, and J. A. Schaefer, J. Phys.: Condens. Matter 11, 8035 (1999).
66. U. Starke, S. Sloboshanin, F. S. Tautz, A. Seubert, and J. A. Schaefer, Phys. Status Solidi A 177, 5 (2000).
67. S. Sloboshanin, F. S. Tautz, V. M. Polyakov, U. Starke, A. S. Usikov, B. J. Ber, and J. A. Schaefer, Surf. Sci. 427/428, 250 (1999).
68. T. Stasser, C. Solterbeck, F. Starrost, and W. Schattke, Phys. Rev. B 60, 11577 (1999).
69. C.-M. Chiang, S. M. Gates, A. Bensaoula, and J. A. Schultz, Chem. Phys. Lett. 246, 275 (1995).
70. J. Fritsch, O. F. Sankey, K. E. Schmidt, and J. B. Page, Surf. Sci. 427/428, 298 (1999).
71. H.-T. Lam and J. M. Vohs, Surf. Sci. 426, 199 (1999).
72. O. Janzen, C. Hahn, T. U. Kampen, and W. Monch, Eur. Phys. J. B 7, 1 (1999).
73. J. E. Northrup, J. Neugebauer, R. M Feenstra, and A. R. Smith, Phys. Rev. B 61, 9932 (2000).
74. P. Boguslawski, E. L. Briggs, and J. Bernholc, Phys. Rev. B 51, 17255 (1995).
75. B. J. Min, C. T. Chan, and K. M Ho, Phys. Rev. B 45, 1159 (1992).
76. M. McEllistrem and J. M. White, J. Vac. Sci. Technol. A13, 1448 (1995).
77. T. Zywietz, J. Neugebauer, and M. Scheffler, Appl. Phys. Lett. 73, 487 (1998).