Atomic layer deposition of Cu with a carbene-stabilized Cu(i) silylamide

Journal of Materials Chemistry C

Volumn 2, Issue 43, 2014, Pages 9205-9214

  Hagen, Dirk J ^a   Povey, Ian M ^a   Rushworth, Simon ^a   Wrench, Jacqueline S ^a   Keeney, Lynette ^a   Schmidt, Michael ^a   Petkov, Nikolay ^a   Barry, Seán T ^b   Coyle, Jason P ^b   Pemble, Martyn E ^a,c  

^a UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^b CARLETON UNIVERSITY   (Canada)

^c UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84908038197     PISSN: 20507534     EISSN: 20507526     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4tc01418a     Document Type: Article

References (84)

1. H. Kim P. C. McIntyre J. Korean Phys. Soc. 2006 48 5 17
2. M. M. Frank ECS Trans. 2007 11 187 200
3. D. N. Goldstein J. A. McCormick S. M. George J. Phys. Chem. C 2008 112 19530 19539
4. R. L. Puurunen J. Appl. Phys. 2005 97 121301
5. J. A. van Delft D. Garcia-Alonso W. M. M. Kessels Semicond. Sci. Technol. 2012 27 074002
6. G. Dingemans W. M. M. Kessels J. Vac. Sci. Technol., A 2012 30 040802
7. S. M. George Chem. Rev. 2010 110 111 131
8. R. W. Johnson A. Hultqvist S. F. Bent Mater. Today 2014 17 236 246
9. H. Kim H.-B.-R. Lee W.-J. Maeng Thin Solid Films 2009 517 2563 2580
10. M. Knez K. Nielsch L. Niinist Adv. Mater. 2007 19 3425 3438
11. M. Leskela M. Ritala Thin Solid Films 2002 409 138 146
12. V. Miikkulainen M. Leskela M. Ritala R. L. Puurunen J. Appl. Phys. 2013 113 021301
13. H. B. Profijt S. E. Potts M. C. M. van de Sanden W. M. M. Kessels J. Vac. Sci. Technol., A 2011 29 050801
14. K. B. Ramos M. J. Saly Y. J. Chabal Coord. Chem. Rev. 2013 257 3271 3281
15. K. Yong J. Jeong Korean J. Chem. Eng. 2002 19 451 462
16. F. Zaera J. Mater. Chem. 2008 18 3521 3526
17. S. M. Gates Chem. Rev. 1996 96 1519 1532
18. K. Choy Prog. Mater. Sci. 2003 48 57 170
19. J. R. Creighton J. E. Parmeter Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 1993 18 175 238
20. P. O'Brien N. L. Pickett D. J. Ottway Chem. Vap. Deposition 2002 8 237 249
21. U. Helmersson M. Lattemann J. Bohlmark A. P. Ehiasarian J. T. Gudmundsson Thin Solid Films 2006 513 1 24
22. J. T. Gudmundsson J. Phys.: Conf. Ser. 2008 100 082002
23. M. Koh W. Mizubayashi K. Iwamoto H. Murakami T. Ono M. Tsuno T. Mihara K. Shibahara S. Miyazaki M. Hirose IEEE Trans. Electron Devices 2001 48 259 264
24. ITRS 2011, Front End Processes, 2011
25. S. Klejna S. D. Elliott J. Nanosci. Nanotechnol. 2011 11 8246 8250
26. S. Klejna S. D. Elliott J. Phys. Chem. 2012 116 643 654
27. C. L. Hinkle A. M. Sonnet E. M. Vogel S. McDonnell G. J. Hughes M. Milojevic B. Lee F. S. Aguirre-Tostado K. J. Choi H. C. Kim J. Kim R. M. Wallace Appl. Phys. Lett. 2008 92 071901
28. M. L. Huang Y. C. Chang C. H. Chang Y. J. Lee P. Chang J. Kwo T. B. Wu M. Hong Appl. Phys. Lett. 2005 87 252104
29. H. C. M. Knoops A. J. M. Mackus M. E. Donders M. C. M. van de Sanden P. H. L. Notten W. M. M. Kessels ECS Trans. 2008 16 209 218
30. T. Aaltonen M. Ritala V. Sammelselg M. Leskelae J. Electrochem. Soc. 2004 151 G489 G492
31. J. Heo S.-J. Won D. Eom S. Y. Lee Y. B. Ahn C. S. Hwang H. J. Kim Electrochem. Solid-State Lett. 2008 11 H210 H213
32. T. Aaltonen M. Ritala M. Leskela Electrochem. Solid-State Lett. 2005 8 C99 C101
33. J. Hamalainen T. Sajavaara E. Puukilainen M. Ritala M. Leskela Chem. Mater. 2012 24 55 60
34. C. Wilson J. McCormick A. Cavanagh D. Goldstein A. Weimer S. George Thin Solid Films 2008 516 6175 6185
35. ITRS 2011, Interconnect, 2011
36. T. Toerndahl M. Ottosson J.-O. Carlsson Thin Solid Films 2004 458 129 136
37. T. Toerndahl J. Lub M. Ottossona J.-O. Carlssona J. Cryst. Growth 2005 276 102 110
38. M. Juppo M. Ritala M. Leskela J. Vac. Sci. Technol., A 1997 15 2330 2333
39. L. Wu E. Eisenbraun J. Electrochem. Soc. 2009 156 H734 H739
40. L. Wu E. Eisenbraun Electrochem. Solid-State Lett. 2008 11 H107 H110
41. M. Utriainen M. Kroger-Laukkanen L.-S. Johansson L. Niinisto Appl. Surf. Sci. 2000 157 151 158
42. I. J. Hsu B. E. McCandless C. Weiland B. G. Willis J. Vac. Sci. Technol., A 2009 27 660 667
43. P. Martensson J.-O. Carlsson J. Electrochem. Soc. 1998 145 2926 2931
44. C. Jezewski W. A. Lanford C. J. Wiegand J. P. Singh P.-I. Wang J. J. Senkevich T.-M. Lua J. Electrochem. Soc. 2005 152 C60 C64
45. R. Solanki B. Pathangey Electrochem. Solid-State Lett. 2000 3 479 480
46. D. Hagen J. Connolly R. Nagle I. Povey S. Rushworth P. Carolan P. Ma M. Pemble Surf. Coat. Technol. 2013 230 3 12
47. C. Dussarrat, C. Lansalot-Matras, V. M. Omarjee and A. V. Korolev, 2012, US Pat., No. 2012/0321817 A1
48. J. Mao E. Eisenbraun V. Omarjee A. Korolev C. Dussarrat ECS Trans. 2011 35 125 132
49. B. H. Lee J. K. Hwang J. W. Nam S. U. Lee J. T. Kim S.-M. Koo A. Baunemann R. A. Fischer M. M. Sung Angew. Chem., Int. Ed. 2009 121 4606 4609
50. T. J. Knisley T. C. Ariyasena T. Sajavaara M. J. Saly C. H. Winter Chem. Mater. 2011 23 4417 4419
51. J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts and A. K. Hochberg, VLSI Multilevel Interconnection Conference, 1991, Proceedings., Eighth International IEEE, 1991, pp. 123-129
52. S. L. Cohen M. Liehr S. Kasi Appl. Phys. Lett. 1992 60 50 52
53. S. L. Cohen M. Liehr S. Kasi Appl. Phys. Lett. 1992 60 1585 1587
54. K.-K. Choi S.-W. Rhee J. Electrochem. Soc. 2001 148 C473 C478
55. A. R. Kim H. J. Park K. H. Jeong J. G. Lee H. S. Nam E. G. Lee C. H. Kang Thin Solid Films 2009 517 3827 3830
56. J. A. Norman D. A. Roberts A. K. Hochberg P. Smith G. A. Petersen J. E. Parmeter C. A. Apblett T. R. Omstead Thin Solid Films 1995 262 46 51
57. J. S. Thompson L. Zhang J. P. Wyre D. J. Brill K. G. Lloyd Thin Solid Films 2009 517 2845 2850
58. J. S. Thompson L. Zhang J. P. Wyre D. Brill Z. Li Organometallics 2012 31 7884 7894
59. C. J. Jones, d and f block chemistry, Wiley Interscience, 2002
60. V. Krisyuk L. Aloui N. Prudhomme S. Sysoev F. Senocq D. Samelor C. Vahlas Electrochem. Solid-State Lett. 2011 14 D26 D29
61. J. P. Coyle G. Dey E. R. Sirianni M. L. Kemell G. P. A. Yap M. Ritala M. Leskela S. D. Elliott S. T. Barry Chem. Mater. 2013 25 1232 1238
62. O. Chyan T. N. Arunagiri T. Ponnuswamy J. Electrochem. Soc. 2003 150 C347 C350
63. D. Goodman T. E. Madey M. Ono J. T. Yates Jr J. Appl. Phys. 1977 50 279 290
64. P. J. F. Harris Int. Mater. Rev. 1995 40 97 115
65. C. G. Granqvist R. A. Buhrman Appl. Phys. Lett. 1975 27 693 694
66. C. Granqvist R. Buhrman J. Catal. 1976 42 477 479
67. F. Fillot Z. Tokei G. Beyer Surf. Sci. 2007 601 986 993
68. T. P. Moffat M. Walker P. J. Chen J. E. Bonevich W. F. Egelhoff L. Richter C. Witt T. Aaltonen M. Ritala M. Leskela D. Josella J. Electrochem. Soc. 2006 153 C37 C50
69. T. Waechtler S. Oswald N. Roth A. Jakob H. Lang R. Ecke S. E. Schulz T. Gessner A. Moskvinova S. Schulze M. Hietscholde J. Electrochem. Soc. 2009 156 H453 H459
70. T. Waechtler S.-F. Ding L. Hofmann R. Mothes Q. Xie S. Oswald C. Detavernier S. E. Schulz X.-P. Qu H. Lang T. Gessner Microelectron. Eng. 2011 88 684 689
71. F. Senocq A. Turgambaeva N. Prudhomme U. Patil V. Krisyuk D. Samelor A. Gleizes C. Vahlas Surf. Coat. Technol. 2007 201 9131 9134
72. A. Tungler T. Tarnai L. Hegediis K. Fodor T. Mathe Platinum Met. Rev. 1998 42 108 115
73. F. Harraz S. El-Hout H. Killa I. Ibrahim J. Catal. 2012 286 184 192
74. T. Theivasanthi M. Alagar Arch. Phys. Res. 2010 1 112 117
75. Z. Li A. Rahtu R. G. Gordon J. Electrochem. Soc. 2006 153 C787 C794
76. Z. Li R. G. Gordon D. B. Farmer Y. Lin J. Vlassak Electrochem. Solid-State Lett. 2005 8 G182 G185
77. A. R. Denton N. W. Ashcroft Phys. Rev. A 1991 43 3161 3164
78. M. Kiyomiya N. Momma I. Yasumori Bull. Chem. Soc. Jpn. 1974 47 1852 1857
79. J. Tabatabaei B. Sakakini M. Watson K. Waugh Catal. Lett. 1999 59 151 155
80. H. Kim T. Koseki T. Ohba T. Ohta Y. Kojima H. Sato Y. Shimogaki J. Electrochem. Soc. 2005 152 G594 G600
81. A. Baskaran P. Smereka J. Appl. Phys. 2012 111 044321
82. J. van der Merwe Surf. Sci. 2000 449 151 166
83. P. Zhang Y. Sui G. Xiao Y. Wang C. Wang B. Liu G. Zoua B. Zou J. Mater. Chem. A 2013 1 1632
84. M. Jin H. Zhang Z. Xieb Y. Xia Energy Environ. Sci. 2012 5 6352