Lanthanide N, N-dimethylaminodiboranates as a new class of highly volatile chemical vapor deposition precursors

Inorganic Chemistry

Volumn 51, Issue 13, 2012, Pages 7050-7065

  Daly, Scott R ^a   Kim, Do Young ^a   Girolami, Gregory S ^a  

^a UNIVERSITY OF ILLINOIS AT URBANA CHAMPAIGN   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84863317921     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic201852j     Document Type: Article

References (154)

1. MacManus-Driscoll, J. L. Adv. Mater. 1997, 9, 457-473
2. Etourneau, J. J. Less-Common Met. 1985, 110, 267-281
3. Broers, A. N. Rev. Sci. Instrum. 1969, 40, 1040-1045
4. Mumaw, V. R.; Munger, B. L. In Proceedings of the 35th Annual Meeting of the Electron Microscopy Society of America; 1977; Vol. 35, pp 64-65.
5. Joy, D. C.; Schmidt, P. H. Low work function hexaboride electron source. U.S. Patent 4,200,555, April 29, 1980.
6. Gasgnier, M. J. Mater. Sci. 1991, 26, 1989-1999
7. Collocott, S. J.; Dunlop, J. B.; Lovatt, H. C.; Ramsden, V. S. Mater. Sci. Forum 1999, 315-317, 77-83
8. Buenzli, J.-C. G.; Piguet, C. Chem. Soc. Rev. 2005, 34, 1048-1077
9. Monocorgé, R. Springer Ser. Mater. Sci. 2005, 83, 320-378
10. Srivastava, A. M. Uses of phosphors in display technologies. Handbook of Luminescence, Display Materials, and Devices; Nalwa, H. S.; Rohwer, L. S., Eds.; American Scientific Publishers: Los Angeles, CA, 2003; Vol. 3, pp 79-100.
11. Haerkoenen, G.; Leppaenen, M.; Soininen, E.; Toernqvist, R.; Viljanen, J. J. Alloys Compd. 1995, 225, 552-554
12. Tiitta, M.; Niinistö, L. Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 167-182
13. Leskelä, M. J. Alloys Compd. 1998, 275-277, 702-708
14. Bénalloul, P.; Barthou, C.; Benoit, J. J. Alloys Compd. 1998, 275-277, 709-714
15. Tanabe, S. C. R. Chim. 2002, 5, 815-824
16. Kido, J.; Okamoto, Y. Chem. Rev. 2002, 102, 2357-2368
17. de Bettencourt-Dias, A. Dalton Trans. 2007, 2229-2241
18. Escribano, P.; Julian-Lopez, B.; Planelles-Arago, J.; Cordoncillo, E.; Viana, B.; Sanchez, C. J. Mater. Chem. 2008, 18, 23-40
19. Carlos, L. D.; Ferreira, R. A. S.; de Zea Bermudez, V.; Ribeiro, S. J. L. Adv. Mater. 2009, 21, 509-534
20. Binnemans, K. Chem. Rev. 2009, 109, 4283-4374
21. Scullin, M. L.; Yu, C.; Huijben, M.; Mukerjee, S.; Seidel, J.; Zhan, Q.; Moore, J.; Majumdar, A.; Ramesh, R. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 202113/1-202113/3
22. The International Technology Roadmap for Semiconductors. http://public.itrs.net/, 2010.
23. Leskelä, M.; Kukli, K.; Ritala, M. J. Alloys Compd. 2006, 418, 27-34
24. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243-5275
25. Wallace, R. M.; Wilk, G. Mat. Res. Soc. Bull. 2002, 27, 192-197
26. Robertson, J. Eur. Phys. J.: Appl. Phys. 2004, 28, 265-291
27. Locquet, J.-P.; Marchiori, C.; Sousa, M.; Fompeyrine, J.; Seo, J. W. J. Appl. Phys. 2006, 100, 051610/1-051610/14
28. Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Kukli, K.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. Mater. Sci. Eng., B 2005, B118, 97-104
29. Yanguas-Gil, A.; Yang, Y.; Kumar, N.; Abelson, J. R. J. Vac. Sci. Technol., A 2009, 27, 1235-1243
30. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110, 111-131
31. Aspinall, H. C. Top. Appl. Phys. 2007, 106, 53-72
32. Bradley, D. C.; Ghotra, J. S.; Hart, F. A. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1973, 1021-1023
33. Kukli, K.; Ritala, M.; Pilvi, T.; Sajavaara, T.; Leskelä, M.; Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Gilmer, D. C.; Tobin, P. J. Chem. Mater. 2004, 16, 5162-5168
34. Triyoso, D. H.; Hegde, R. I.; Grant, J. M.; Schaeffer, J. K.; Roan, D.; White, B. E., Jr.; Tobin, P. J. J. Vac. Sci. Technol., B 2005, 23, 288-297
35. Kukli, K.; Ritala, M.; Pore, V.; Leskelä, M.; Sajavaara, T.; Hegde, R. I.; Gilmer, D. C.; Tobin, P. J.; Jones, A. C.; Aspinall, H. C. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 158-164
36. Scarel, G.; Wiemer, C.; Tallarida, G.; Spiga, S.; Seguini, G.; Bonera, E.; Fanciulli, M.; Lebedinskii, Y.; Zenkevich, A.; Pavia, G.; Fedushkin, I. L.; Fukin, G. K.; Domrachev, G. A. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, F271-F276
37. Leskelä, M.; Niinistö, L.; Nykanen, E.; Soininen, P.; Tiitta, M. Thermochim. Acta 1991, 175, 91-98
38. Putkonen, M.; Sajavaara, T.; Johansson, L.-S.; Nunistö, L. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 44-50
39. Päiväsaari, J.; Putkonen, M.; Sajavaara, T.; Niinistö, L. J. Alloys Compd. 2004, 374, 124-128
40. Niinistö, J.; Petrova, N.; Putkonen, M.; Niinistö, L.; Arstila, K.; Sajavaara, T. J. Cryst. Growth 2005, 285, 191-200
41. Päiväsaari, J.; Putkonen, M.; Niinistö, L. Thin Solid Films 2005, 472, 275-281
42. Frohlich, K.; Luptak, R.; Dobrocka, E.; Husekova, K.; Cico, K.; Rosova, A.; Lukosius, M.; Abrutis, A.; Pisecny, P.; Espinos, J. P. Mater. Sci. Semicond. Process. 2007, 9, 1065-1072
43. Myllymäki, P.; Roeckerath, M.; Lopes, J. M.; Schubert, J.; Mizohata, K.; Putkonen, M.; Niinistö, L. J. Mater. Chem. 2010, 20, 4207-4212
44. Roeckerath, M.; Heeg, T.; Lopes, J. M. J.; Schubert, J.; Mantl, S.; Besmehn, A.; Myllymäki, P.; Niinistö, L. Thin Solid Films 2008, 517, 201-203
45. Wilkinson, G.; Birmingham, J. M. J. Am. Chem. Soc. 1954, 76, 6210
46. Birmingham, J. M.; Wilkinson, G. J. Am. Chem. Soc. 1956, 78, 42-44
47. Niinistö, J.; Putkonen, M.; Niinistö, L. Chem. Mater. 2004, 16, 2953-2958
48. Scarel, G.; Bonera, E.; Wiemer, C.; Tallarida, G.; Spiga, S.; Fanciulli, M.; Fedushkin, I. L.; Schumann, H.; Lebedinskii, Y.; Zenkevich, A. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 630-632
49. Malvestuto, M.; Scarel, G.; Wiemer, C.; Fanciulli, M.; D'Acapito, F.; Boscherini, F. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 2006, 246, 90-95
50. Losurdo, M.; Giangregorio, M. M.; Bruno, G.; Yang, D.; Irene, E. A.; Suvorova, A. A.; Saunders, M. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 091914/1-091914/3
51. Nolan, M.; Elliott, S. D. Chem. Mater. 2010, 22, 117-129
52. Lim, B. S.; Rahtu, A.; de Rouffignac, P.; Gordon, R. G. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3957-3959
53. Päiväsaari, J.; Dezelah, C. L. I. V.; Back, D.; El-Kaderi, H. M.; Heeg, M. J.; Putkonen, M.; Niinistö, L.; Winter, C. H. J. Mater. Chem. 2005, 15, 4224-4233
54. Kwon, J.; Dai, M.; Halls, M. D.; Langereis, E.; Chabal, Y. J.; Gordon, R. G. J. Phys. Chem. C 2008, 113, 654-660
55. Bochkarev, M. N.; Maleev, A. A.; Balashova, T. V.; Fukin, G. K.; Baranov, E. V.; Efimova, Y. A.; Petrov, B. I.; Ilichev, V. A. Inorg. Chim. Acta 2008, 361, 2533-2539
56. Edelmann, F. T. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 2253-2268
57. Milanov, A. P.; Fischer, R. A.; Devi, A. Inorg. Chem. 2008, 47, 11405-11416
58. Milanov, A. P.; Thiede, T. B.; Devi, A.; Fischer, R. A. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 17062-17063
59. Milanov, A. P.; Toader, T.; Parala, H.; Barreca, D.; Gasparotto, A.; Bock, C.; Becker, H.-W.; Ngwashi, D. K.; Cross, R.; Paul, S.; Kunze, U.; Fischer, R. A.; Devi, A. Chem. Mater. 2009, 21, 5443-5455
60. Belot, J. A.; Wang, A.; McNeely, R. J.; Liable-Sands, L.; Rheingold, A. L.; Marks, T. J. Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 65-69
61. Edleman, N. L.; Wang, A.; Belot, J. A.; Metz, A. W.; Babcock, J. R.; Kawaoka, A. M.; Ni, J.; Metz, M. V.; Flaschenriem, C. J.; Stern, C. L.; Liable-Sands, L. M.; Rheingold, A. L.; Markworth, P. R.; Chang, R. P. H.; Chudzik, M. P.; Kannewurf, C. R.; Marks, T. J. Inorg. Chem. 2002, 41, 5005-5023
62. Herrmann, W. A.; Anwander, R.; Denk, M. Chem. Ber. 1992, 125, 2399-2405
63. Aspinall, H. C.; Gaskell, J.; Williams, P. A.; Jones, A. C.; Chalker, P. R.; Marshall, P. A.; Bickley, J. F.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 235-238
64. Aspinall, H. C.; Gaskell, J.; Williams, P. A.; Jones, A. C.; Chalker, P. R.; Marshall, P. A.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 13-17
65. Aspinall, H. C.; Gaskell, J.; Williams, P. A.; Jones, A. C.; Chalker, P. R.; Marshall, P. A.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 83-89
66. Aspinall, H. C.; Gaskell, J. M.; Loo, Y. F.; Jones, A. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 301-305
67. Loo, Y. F.; Potter, R. J.; Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Gaskell, J. M.; Chalker, P. R.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 306-310
68. Potter, R. J.; Chalker, P. R.; Manning, T. D.; Aspinall, H. C.; Loo, Y. F.; Jones, A. C.; Smith, L. M.; Critchlow, G. W.; Schumacher, M. Chem. Vap. Deposition 2005, 11, 159-169
69. Aspinall, H. C.; Bickley, J. F.; Gaskell, J. M.; Jones, A. C.; Labat, G.; Chalker, P. R.; Williams, P. A. Inorg. Chem. 2007, 46, 5852-5860
70. Niinistö, L.; Päiväsaari, J.; Niinistö, J.; Putkonen, M.; Nieminen, M. Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1443-1452
71. Deacon, G. B.; MacKinnon, P.; Dickson, R. S.; Pain, G. N.; West, B. O. Appl. Organomet. Chem. 1990, 4, 439-449
72. Gun'ko, Y. K.; Edelmann, F. T. Comments Inorg. Chem. 1997, 19, 153-184
73. Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Kukli, K.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3101-3112
74. Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Manning, T. D.; Loo, Y. F.; O'Kane, R.; Gaskell, J. M.; Smith, L. M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 83-98
75. Lo Nigro, R.; Malandrino, G.; Toro, R. G.; Fragalà, I. L. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 109-124
76. Malandrino, G.; Fragalà, I. L. Coord. Chem. Rev. 2006, 250, 1605-1620
77. Päiväsaari, J.; Niinistö, J.; Myllymäki, P.; Dezelah, C. I. V.; Winter, C. H.; Putkonen, M.; Nieminen, M.; Niinistö, L. Top. Appl. Phys. 2007, 106, 15-32
78. Jensen, J. A.; Gozum, J. E.; Pollina, D. M.; Girolami, G. S. J. Am. Chem. Soc. 1988, 110, 1643-1644
79. Kumar, N.; Yang, Y.; Noh, W.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. Chem. Mater. 2007, 19, 3802-3807
80. Kumar, N.; Yanguas-Gil, A.; Daly, S. R.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 17660-17661
81. Sung, J.; Goedde, D. M.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3904-3911
82. Jayaraman, S.; Yang, Y.; Kim, D. Y.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Vac. Sci. Technol., A 2005, 23, 1619-1625
83. Jayaraman, S.; Gerbi, J. E.; Yang, Y.; Kim, D. Y.; Chatterjee, A.; Bellon, P.; Girolami, G. S.; Chevalier, J. P.; Abelson, J. R. Surf. Coat. Technol. 2006, 200, 6629-6633
84. Yang, Y.; Jayaraman, S.; Kim, D. Y.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. Chem. Mater. 2006, 18, 5088-5096
85. Yang, Y.; Jayaraman, S.; Kim, D. Y.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Cryst. Growth 2006, 294, 389-395
86. Yang, Y.; Jayaraman, S.; Sperling, B.; Kim, D. Y.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Vac. Sci. Technol., A 2007, 25, 200-206
87. Goedde, D. M.; Girolami, G. S. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 12230-12231
88. Jayaraman, S.; Klein, E. J.; Yang, Y.; Kim, D. Y.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. J. Vac. Sci. Technol., A 2005, 23, 631-633
89. Goedde, D. M.; Windler, G. K.; Girolami, G. S. Inorg. Chem. 2007, 46, 2814-2823
90. Makhaev, V. D.; Borisov, A. P.; Semenenko, K. N. Russ. J. Inorg. Chem. 1986, 31, 908-910
91. Zange, E. Chem. Ber. 1960, 93, 652-657
92. Mirsaidov, U.; Shaimuradov, I. B.; Khikmatov, M. Russ. J. Inorg. Chem. 1986, 31, 753-754
93. Shaimuradov, I. B.; Badalov, A. B.; Marufi, V. I.; Mirsaidov, U. Russ. J. Inorg. Chem. 1991, 36, 773
94. Lobkovskii, é. B.; Kravchenko, S. E.; Kravchenko, O. V. J. Struct. Chem. USSR 1983, 23, 582-586
95. Shinomoto, R.; Zalkin, A.; Edelstein, N. M. Inorg. Chim. Acta 1987, 139, 97-101
96. Mirsaidov, U.; Rotenberg, T. G.; Dymova, T. N. Dokl. Akad. Nauk Tadzh. SSR 1976, 19, 30-33; Chem. Abstr. 85:136374
97. White, J. P., III; Deng, H.; Shore, S. G. Inorg. Chem. 1991, 30, 2337-2342
98. Keller, P. C. Inorg. Chem. 1971, 10, 2256-2259
99. Nöth, H.; Thomas, S. Eur. J. Inorg. Chem. 1999, 1373-1379
100. Girolami, G. S.; Kim, D. Y.; Abelson, J. R.; Kumar, N.; Yang, Y.; Daly, S. U.S. Patent Appl. 59728, April 9, 2008.
101. Kim, D. Y.; Girolami, G. S. Inorg. Chem. 2010, 49, 4942-4948
102. Daly, S. R.; Piccoli, P. M. B.; Schultz, A. J.; Todorova, T. K.; Gagliardi, L.; Girolami, G. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 3379-3381
103. Daly, S. R.; Girolami, G. S. Chem. Commun. 2010, 46, 407-408
104. Daly, S. R.; Girolami, G. S. Inorg. Chem. 2010, 49, 5157-5166
105. Marks, T. J.; Kolb, J. R. Chem. Rev. 1977, 77, 263-293
106. Ephritikhine, M. Chem. Rev. 1997, 97, 2193-2242
107. Makhaev, V. D. Russ. Chem. Rev. 2000, 69, 727-746
108. Kumar, N.; Yanguas-Gil, A.; Daly, S. R.; Girolami, G. S.; Abelson, J. R. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 144107/1-144107/3
109. Daly, S. R.; Kim, D. Y.; Yang, Y.; Abelson, J. R.; Girolami, G. S. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 2106-2107
110. See Kepert, D. L. Inorganic Stereochemistry; Springer-Verlag: Berlin, 1982; Inorganic Chemistry Concepts, Vol. 6, section 11 C.
111. Clark, R. J. H.; Lewis, J.; Machin, D. J.; Nyholm, R. S. J. Chem. Soc. 1963, 379-387
112. Deacon, G. B.; Evans, D. J.; Junk, P. C. Z. Anorg. Allg. Chem. 2002, 628, 2033-2036
113. Shannon, R. D. Acta Crystallogr., Sect. A 1976, A32, 751-767
114. Makhaev, V. D.; Borisov, A. P. Russ. J. Inorg. Chem. 1999, 44, 1411-1413
115. Daly, S. R.; Girolami, G. S. Inorg. Chem. 2010, 49, 4578-4585
116. Deng, D.; Zheng, X.; Qian, C.; Sun, J.; Zhang, L. J. Organomet. Chem. 1994, 466, 95-100
117. Neculai, D.; Roesky, H. W.; Neculai, A. M.; Magull, J.; Schmidt, H.-G.; Noltemeyer, M. J. Organomet. Chem. 2002, 643-644, 47-52
118. Schumann, H.; Keitsch, M. R.; Muhle, S. H. Acta Crystallogr., Sect. C: Cryst. Struct. Commun. 2000, C56, 48-49
119. Barbier-Baudry, D.; Blacque, O.; Hafid, A.; Nyassi, A.; Sitzmann, H.; Visseaux, M. Eur. J. Inorg. Chem. 2000, 2333-2336
120. Trifonov, A. A.; Skvortsov, G. G.; Lyubov, D. M.; Fukin, G. K.; Fedorova, E. A.; Bochkarev, M. N. Russ. Chem. Bull. 2005, 54, 2511-2518
121. Skvortsov, G. G.; Yakovenko, M. V.; Fukin, G. K.; Cherkasov, A. V.; Trifonov, A. A. Russ. Chem. Bull. 2007, 56, 1742-1748
122. Bonnet, F.; Visseaux, M.; Hafid, A.; Baudry-Barbier, D.; Kubicki, M. M.; Vigier, E. Inorg. Chem. Commun. 2007, 10, 690-694
123. Lobkovskii, é. B. J. Struct. Chem. USSR 1983, 24, 224-230
124. Segal, B. G.; Lippard, S. J. Inorg. Chem. 1978, 17, 844-850
125. Schumann, H.; Keitsch, M. R.; Demtschuk, J.; Muehle, S. Z. Anorg. Allg. Chem. 1998, 624, 1811-1818
126. Qian, C.-T.; Zou, G.; Nie, W.-L.; Sun, J.; Lemenovskii, D. A.; Borzov, M. V. Polyhedron 2000, 19, 1955-1959
127. Wang, H.; Wang, H.; Li, H.-W.; Xie, Z. Organometallics 2004, 23, 875-885
128. Robert, D.; Kondracka, M.; Okuda, J. Dalton Trans. 2008, 2667-2669
129. Yuan, F.; Yang, J.; Xiong, L. J. Organomet. Chem. 2006, 691, 2534-2539
130. Yuan, F.; Zhu, Y.; Xiong, L. J. Organomet. Chem. 2006, 691, 3377-3382
131. Peters, J. A.; Huskens, J.; Raber, D. J. Prog. Nucl. Magn. Reson. Spectrosc. 1996, 28, 283-350
132. Bertini, I.; Turano, P.; Vila, A. J. Chem. Rev. 1993, 93, 2833-2932
133. Bleaney, B. J. Magn. Reson. 1972, 8, 91-100
134. Golding, R. M.; Halton, M. P. Aust. J. Chem. 1972, 25, 2577-2581
135. Golding, R. M.; Pyykko, P. Mol. Phys. 1973, 26, 1389-1396
136. Pinkerton, A. A.; Rossier, M.; Spiliadis, S. J. Magn. Reson. 1985, 64, 420-425
137. Reilley, C. N.; Good, B. W.; Allendoerfer, R. D. Anal. Chem. 1976, 48, 1446-1458
138. Elgavish, G. A.; Reuben, J. J. Am. Chem. Soc. 1977, 99, 5590-5591
139. Reuben, J.; Elgavish, G. A. J. Magn. Reson. 1980, 39, 421-430
140. Lanthanum was used to determine LIS values for the larger paramagnetic lanthanides Ce-Sm and lutetium was used to determine the LIS values for the smaller lanthanides Tb-Yb. The data for the samarium complex was excluded from the LIS plots using eqs 3 and 4 because it yielded poor linear regressions. Poor fits in LIS plots have been previously attributed to samarium complexes because of its very small 〈 S 〉 value (0.06). See: Ren, J.; Zhang, S.; Sherry, A. D.; Geraldes, C. F. G. C. Inorg. Chim. Acta 2002, 339, 273-282
141. Reuben, J. J. Magn. Reson. 1982, 50, 233-236
142. Geraldes, C. F. G. C.; Sherry, A. D.; Kiefer, G. E. J. Magn. Reson. 1992, 97, 290-304
143. Marques, M. P. M.; Geraldes, C. F. G. C.; Sherry, A. D.; Merbach, A. E.; Powell, H.; Pubanz, D.; Aime, S.; Botta, M. J. Alloys Compd. 1995, 225, 303-307
144. Forsberg, J. H.; Delaney, R. M.; Zhao, Q.; Harakas, G.; Chandran, R. Inorg. Chem. 1995, 34, 3705-3715
145. Ren, J.; Zhang, S.; Sherry, A. D.; Geraldes, C. F. G. C. Inorg. Chim. Acta 2002, 339, 273-282
146. Bag, P.; Floerke, U.; Nag, K. Dalton Trans. 2006, 3236-3248
147. Ren, J.; Sherry, A. D. J. Magn. Reson., Ser. B 1996, 111, 178-182
148. Bernstein, E. R.; Hamilton, W. C.; Keiderling, T. A.; La Placa, S. J.; Lippard, S. J.; Mayerle, J. J. Inorg. Chem. 1972, 11, 3009-3016
149. Haaland, A.; Shorokhov, D. J.; Tutukin, A. V.; Volden, H. V.; Swang, O.; McGrady, G. S.; Kaltsoyannis, N.; Downs, A. J.; Tang, C. Y.; Turner, J. F. C. Inorg. Chem. 2002, 41, 6646-6655
150. Phillips, W. D.; Miller, H. C.; Muetterties, E. L. J. Am. Chem. Soc. 1959, 81, 4496-4500
151. Aspinall, H. C.; Black, J.; Dodd, I.; Harding, M. M.; Winkley, S. J. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1993, 709-714
152. Thompson, M. K.; Lough, A. J.; White, A. J. P.; Williams, D. J.; Kahwa, I. A. Inorg. Chem. 2003, 42, 4828-4841
153. Lama, M.; Mamula, O.; Kottas, G. S.; Rizzo, F.; De Cola, L.; Nakamura, A.; Kuroda, R.; Stoeckli-Evans, H. Chem. - Eur. J. 2007, 13, 7358-7373
154. Brumaghim, J. L.; Priepot, J. G.; Girolami, G. S. Organometallics 1999, 18, 2139-2144