Photo-curable resin for UV-nanoimprint technology

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 22, Issue 2, 2009, Pages 133-145

  Sakai, Nobuji ^a  

^a TOYO GOSEI CO LTD   (Japan)

Author keywords

Adhesive force; Electro deposition; Etching; Mold; Photo curable resin; Radical polymerisation; Release agent; UV nanoimprint; UV NIL

Indexed keywords

EID: 70350136028     PISSN: 09149244     EISSN: 13496336     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.22.133     Document Type: Article

References (48)

1. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett., 67, 3114 (1995).
2. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, J. Vac. Sci. Technol., B 14, 4129 (1996).
3. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Science, 272, 85 (1996).
4. J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg, J. Vac. Sci. Technoi., B 14, 4124(1996).
5. S. Fijimori, and M. Kondo, JP Patent, S53-22427(1978).
6. M. Kondo, H. Yasuda, and K. Kubodera, JP Patent, S54-22389(1979).
7. T. Bailey, B.J. Choi, M. Colburn, A. Grot, M. Meissl, S. Shaya, J.G. Ekerdt, S.V. Sreenivasan, and C.G. Willson, J. Vac. Sci. Technol., B18, 6, 3572 (2000).
8. M. Colbum, A. Grot, B. J. Choi, M. Amistoso, T. Bailey, S. V.Sreenivasan, J. G. Ekerdt, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 19,2162 (2001).
9. S. Johnson, R. Burns, E. K. Kim, G. Schmid, M. Dicky, J. Meiring, S. Burns, N. Stacey, C. G. Wilson, D. Convey, Y. Wei, P. Fejes, K. Gehoski, D. Mancini, K. Nordquist, W. J. Dauksher and D. J. Resnick, J. Photopolym. Sci. Technol., 17, 3, 417 (2004).
10. G. Young, W. Wu, H. Lee, S. Y. Wang, W. M. Tong and R. S. Williams, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 5, 565 (2005).
11. A. Miyauchi, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 4, 523 (2005).
12. H. Shinohara, M. Fukuhara, T. Hirasawa, J. Mizuno and S. Shoji, J. Photopolym. Sci. Technol., 21,4,591 (2008).
13. M. Fukuhara, H. Ono, T. Hirasawa, M. Ohtaguchi, N.Sakai, J. Mizuno, and S. Shoji, J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 4, 549 (2007).
14. H. Goto, A. Hagiwara, K. Ishibashi, M. Kokubo, H. Okuyama and S. Fukuyama, J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 4, 559 (2007).
15. K. Sogo, M. Nakajima and Y. Hirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 19, 5, 647 (2006).
16. M. Kurihara, J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 4, 563 (2007).
17. H. Ina, K. Kasumi, E. Kawakami, and K. Uda, Proc. SPIE, 6517, 65170M (2007).
18. M. Colburn, I. Suez, B. J. Choi, M. Meissl, T. Bailey, S. V. Sreenivasan, J. G. Ekerdt, and C. G Willson, J. Vac. Sci. Technol, B 19, 6, 2685(2001).
19. Toyo Gosei Co., LTD. "Business Guide : Research & Development", (online), available from, (accessed2009-04-01).
20. F. Xu, N. Stacey, M. Watts, V. Truskett, I. McMackin, J. Choi, P. Schumaker, E. Thompson, D. Babbs, S.V. Sreenivasan, C.G. Willson, and N. Schumaker, Proc. SPIE, 5374, 232(2004).
21. N. Sakai, J. Taniguchi, K. Kawaguchi, M. Ohtaguchi, and T. Hirasawa, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 4, 531 (2005).
22. H. Ito, F. A. Houle, and R. A. Dipetro, Proc.SPIE, 6153, 61531A(2006).
23. H. Ito, J. Photopolym. Sci. Technol.,20, 3, 319 (2007).
24. E. K. Kim, N. A. Stacey, B. J. Smith, M. D. Dickey, S. C. Johnson, B. C. Trinque, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol., B22, 131(2004).
25. S. Iyoshi, H. Miyake, K. Nakamatsu, and S. Matsui, J. Photopolym. Sci. Technol., 21, 4, 573 (2008).
26. E. C. Hagberg, M. Malkoch, Y. Ling, C. J. Hawker, and K. R. Carter, Nano Letters, 7, 2, 233(2007).
27. Y Kawaguchi, F. Nonaka, and Y. Sanada, Microelectr. Eng., 84, 973(2007).
28. B. K. Long, B. K. Keitz and C. G. Willson, J. Mater. Chem., 17, 3575(2007).
29. J. Taniguchi, T. Kawasaki, Y. Tokano, Y. Kogo, I. Miyamoto, M. Komuro, H. Hiroshima, N. Sakai, and T. Tada, Jpn. J. Appl. Phys., 41, 4194 (2002).
30. T. Bailey, B.J. Choi, M. Colburn, A. Grot, M. Meissl, S. Shaya, J.G. Ekerdt, S.V. Sreenivasan, and C.G. Willson, J. Vac. Sci. Technol., B18, 6, 3572 (2000).
31. Y. Hirai, S. Yoshida, A. Okamoto, Y Tanaka, M. Endo, S. Irie, H. Nakagawa, and M. Sasago, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 457-462 (2001).
32. E. P. Chan, and A. J. Crosby, J. Vac. Sci. Technol., B 24, 6, 2716(2006).
33. F. A. Houle, D. C. Miller, A. Fornof, H. Trung, S. Raoux, R. Sooriyakumaran, H. Ito, and M. Hart, J. Photopolym. Sci. Technol., 21, 4, 563 (2008).
34. Y. Tada, H. Yoshida, and A. Miyauchi, J. Photopolym. Sci. Technol, 20, 4, 545 (2007).
35. H. Schmitt, L. Frey, H. Ryssel, M. Rommel and C. Lehrer, J. Vac. Sci. Technol, B 25, 3, 785(2007).
36. F. A. Houle, A. Fornof, D. C. Miller, S. Raoux, H. Truong, E. Simonyi, C. Jahnes, S. Rossnagel, Proc. SPIE, 6921, 69210B (2008).
37. A. Sekiguchi, Y. Kono, and Y. Hirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 4, 543(2005).
38. F. Hua, Y Sun, A. Gaur, M. A. Meitl, L. Bilhaut, L. Rotkina, J. Wang, P. Geil, M. Shim, A. Shimm and J. A. Rogers, Nano Lett., 4, 12, 2476(2004).
39. F. Hua, A. Gaur, Y. Sun, M. Word, N. Jin, I. Adesida, M. Shim, A. Shim, and J. A. Rogers, Nanotechnology, 5, 3, 301(2006).
40. S. Johnson, R. Burns, E. K. Kim, G. Schmid, M. Dicky, J. Meiring, S. Burns, N. Stacey, C. G Wilson, D. Convey, Y. Wei, P. Fejes, K. Gehoski, D. Mancini, K. Nordquist, W. J. Dauksher, and D. J. Resnick, J. Photopolym. Sci. Technol, 17, 3,417(2004).
41. H. Hiroshima, J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 4, 537(2005).
42. C. B. Brooks, D, L. LaBrake, and N. Khusnatdinov, Proc. SPIE, 6921, 6921 IK (2008).
43. J. Katayama, S. Yamaki, M. Mitsuyama, and M. Hanabata, J. Photopolym. Sci. Technol., 19, 3, 397(2006).
44. F. A. Houle, A. Fornof, R. Sooriyakumaran, H. Truong, D. C. Miller, M. I. Sanchez, B. Davis, T. Magbitang, R. D. Allen, M. W. Hart, and G. Dubois, Proc. SPIE, 6519, 65191C (2007).
45. S. H. Ahn, J. Kim, and L. J. Guo. J. Vac. Sci. Technol., B 25, 6, 2388(2007).
46. M. Ogino, M. Kaji, and H. Rai,RAI, JP Patent 2007-186570(2007) (unexamined).
47. C. G. Willson, and B. C. Trinque, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 4, 621(2003).
48. I. Yoneda, S. Mikami, T. Ota, T. Koshiba, M. Ito, T. Nakasugi, T. Hisashiki. Proc. SPIE, 6921, 692104(2008).