Fabrication of 3D metal dot arrays by geometrically structured dynamic shadowing lithography

Langmuir

Volumn 27, Issue 22, 2011, Pages 13806-13812

  Ye, Shengrong ^a   Routzahn, Aaron L ^a   Carroll, R Lloyd ^a  

^a WEST VIRGINIA UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BIOSENSING; CATALYTIC BEHAVIOR; DIFFERENT LENGTH SCALE; DOT ARRAY; HIGH THROUGHPUT; MICRO AND NANOSTRUCTURES; NANO-DEVICE FABRICATION; NANOSPHERE LITHOGRAPHY; SHAPE AND SIZE; SIZE AND SHAPE; STRUCTURAL EVOLUTION; TWO-DIMENSIONAL PATTERNING; ULTRASENSITIVE; VERTICAL GROWTH;

LITHOGRAPHY; SPHERES;

THREE DIMENSIONAL;

EID: 80755159536     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la2027785     Document Type: Article

References (83)

1. Cui, Z. Nanofabrications: Principles, Capability, and Limits; Springer: New York, 2008.
2. In Nanofabrication: Fundamentals and Applications; Tseng, A. A., Ed.; World Scientific: Singapore, 2008.
3. Ito, T.; Okazaki, S. Nature 2000, 406, 1027-1031
4. Peercy, P. S. Nature 2000, 406, 1023-1026
5. Mack, C. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication; Wiley: England, 2008.
6. Gwyn, C. W.; Stulen, R.; Sweeney, D.; Attwood, D. J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3142-3149
7. Stulen, R. H.; Sweeney, D. W. IEEE J. Quantum Electron. 1999, 35, 694-699
8. Silverman, J. P. J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 2117-2124
9. Heuberger, A. J. Vac. Sci. Technol. B 1988, 6, 107-121
10. Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D. Chem. Rev. 1999, 99, 1801-1822
11. Mendes, P. M.; Jacke, S.; Critchley, K.; Plaza, J.; Chen, Y.; Nikitin, K.; Palmer, R. E.; Preece, J. A.; Evans, S. D.; Fitzmaurice, D. Langmuir 2004, 20, 3766-3768
12. Donthu, S.; Pan, Z.; Myers, B.; Shekhawat, G.; Wu, N.; Dravid, V. Nano Lett. 2005, 5, 1710-1715
13. Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Renstrom, P. J. J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 4129-4133
14. Guo, L. J. Adv. Mater. 2007, 19, 495-513
15. Zankovych, S.; Hoffmann, T.; Seekamp, J.; Bruch, J.-U.; Torres, C. M. S. Nanotechnology 2001, 12, 91-95
16. Sun, S.; Chong, K. S. L.; Leggett, G. J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 2414-2415
17. Alkaisi, M. M.; Blaikie, R. J.; McNab, S. J.; Cheung, R.; Cumming, D. R. S. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3560-3563
18. Aizenberg, J.; Rogers, J. A.; Paul, K. E.; Whitesides, G. M. Appl. Opt. 1998, 37, 2145-2152
19. Solak, H. H.; David, C.; Gobrecht, J.; Golovkina, V.; Cerrina, F.; Kim, S. O.; Nealey, P. F. Microelectron. Eng. 2003, 67-68, 56-62
20. Lu, C.; Lipson, R. H. Laser Photonics Rev. 2010, 4, 568-580
21. Stroscio, J. A.; Eigler, D. M. Science 1991, 254, 1319-1326
22. Ross, C. B.; Sun, L.; Crooks, R. M. Langmuir 1993, 9, 632-636
23. Liu, G.-Y.; Xu, S.; Qian, Y. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 457-466
24. Piner, R. D.; Zhu, J.; Xu, F.; Hong, S.; Mirkin, C. A. Science 1999, 283, 661-663
25. Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5599-5611
26. Hulteen, J. C.; Van Duyne, R. P. J. Vac. Sci. Technol. A 1995, 13, 1553-1558
27. Jensen, T. R.; Malinsky, M. D.; Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 10549-10556
28. Kosiorek, A.; Kandulski, W.; Chudzinski, P.; Kempa, K.; Giersig, M. Nano Lett. 2004, 4, 1359-1363
29. Haynes, C. L.; McFarland, A. D.; Smith, M. T.; Hulteen, J. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1898-1902
30. Kosiorek, A.; Kandulski, W.; Glaczynska, H.; Giersig, M. Small 2005, 1, 439-444
31. Sarkar, D. K.; Farzaneh, M. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 3758-3761
32. Gwinner, M. C.; Koroknay, E.; Fu, L.; Patoka, P.; Kandulski, W.; Giersig, M.; Giessen, H. Small 2009, 5, 400-406
33. Tan, B. J. Y.; Sow, C. H.; Koh, T. S.; Chin, K. C.; Wee, A. T. S.; Ong, C. K. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11100-11109
34. Li, C.; Hong, G.; Qi, L. Chem. Mater. 2009, 22, 476-481
35. Heo, C.-J.; Kim, S.-H.; Jang, S. G.; Lee, S. Y.; Yang, S.-M. Adv. Mater. 2009, 21, 1726-1731
36. Hajiaboli, A. R.; Cui, B.; Kahrizi, M.; Truong, V.-V. Phys. Status Solidi A 2009, 206, 976-979
37. Whitney, A. V.; Myers, B. D.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2004, 4, 1507-1511
38. Chen, L.-Y.; Huang, Y.-Y.; Chang, C.-H.; Sun, Y.-H.; Cheng, Y.-W.; Ke, M.-Y.; Chen, C.-P.; Huang, J. Opt. Express 2010, 18, 7664-7669
39. Cheung, C. L.; Nikolic, R. J.; Reinhardt, C. E.; Wang, T. F. Nanotechnology 2006, 17, 1339-1343
40. Zeng, H.; Xu, X.; Bando, Y.; Gautam, U. K.; Zhai, T.; Fang, X.; Liu, B.; Golberg, D. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 3165-3172
41. Li, L.; Zhai, T.; Zeng, H.; Fang, X.; Bando, Y.; Golberg, D. J. Mater. Chem. 2011, 21, 40-56
42. Zheng, Y. B.; Huang, T. J. J. Assoc. Lab. Autom. 2008, 13, 215-226
43. Hicks, E. M.; Zhang, X.; Zou, S.; Lyandres, O.; Spears, K. G.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 22351-22358
44. Sherry, L. J.; Jin, R.; Mirkin, C. A.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2006, 6, 2060-2065
45. Jensen, T. R.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 2394-2401
46. Haes, A. J.; Zhao, J.; Zou, S.; Own, C. S.; Marks, L. D.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11158-11162
47. Ormonde, A. D.; Hicks, E. C. M.; Castillo, J.; Van Duyne, R. P. Langmuir 2004, 20, 6927-6931
48. Hulteen, J. C.; Treichel, D. A.; Smith, M. T.; Duval, M. L.; Jensen, T. R.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 3854-3863
49. Malinsky, M. D.; Kelly, K. L.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 2343-2350
50. Jensen, T. R.; Duval, M. L.; Kelly, K. L.; Lazarides, A. A.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 9846-9853
51. Malinsky, M. D.; Kelly, K. L.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 1471-1482
52. Hicks, E. M.; Lyandres, O.; Hall, W. P.; Zou, S.; Glucksberg, M. R.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 4116-4124
53. Willets, K. A.; Van Duyne, R. P. Annu. Rev. Phys. Chem. 2007, 58, 267-297
54. Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7426-7433
55. McFarland, A. D.; Young, M. A.; Dieringer, J. A.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11279-11285
56. Haes, A. J.; Hall, W. P.; Chang, L.; Klein, W. L.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2004, 4, 1029-1034
57. Haes, A. J.; Van Duyne, R. P. Anal. Bioanal. Chem. 2004, 379, 920-930
58. Haes, A. J.; Haynes, C. L.; McFarland, A. D.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P.; Zou, S. MRS Bull. 2005, 30, 368-375
59. Haes, A. J.; Zou, S.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 109-116
60. Haes, A. J.; Chang, L.; Klein, W. L.; Van Duyne, R. P. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2264-2271
61. Riboh, J. C.; Haes, A. J.; McFarland, A. D.; Ranjit Yonzon, C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 1772-1780
62. Haes, A. J.; Zou, S.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 6961-6968
63. Haes, A. J.; Van Duyne, R. P. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 10596-10604
64. McFarland, A. D.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2003, 3, 1057-1062
65. Hall, W. P.; Modica, J.; Anker, J.; Lin, Y.; Mrksich, M.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2011, 11, 1098-1105
66. Yi, D. K.; Kim, D.-Y. Chem. Commun. 2003, 39, 982-983
67. Cai, Y.; Ocko, B. M. Langmuir 2005, 21, 9274-9279
68. Kempa, K.; Kimball, B.; Rybczynski, J.; Huang, Z. P.; Wu, P. F.; Steeves, D.; Sennett, M.; Giersig, M.; Rao, D. V. G. L. N.; Carnahan, D. L.; Wang, D. Z.; Lao, J. Y.; Li, W. Z.; Ren, Z. F. Nano Lett. 2003, 3, 13-18
69. Ryu, K.; Badmaev, A.; Gomez, L.; Ishikawa, F.; Lei, B.; Zhou, C. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 10104-10105
70. Zhou, S.; Mcllwrath, K.; Jackson, G.; Eichhorn, B. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 1780-1781
71. Matthew, M. H.; Michael, J. B. J. Vac. Sci. Technol. A 2007, 25, 1317-1335
72. Robbie, K.; Sit, J. C.; Brett, M. J. J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 1115-1122
73. Robbie, K.; Brett, M. J. J. Vac. Sci. Technol. A 1997, 15, 1460-1465
74. Spindt, C. A.; Holland, C. E.; Brodie, I.; Mooney, J. B.; Westerberg, E. R. IEEE Trans. Electron Dev. 1989, 36, 225-228
75. Dolatshahi-Pirouz, A.; Hovgaard, M. B.; Rechendorff, K.; Chevallier, J.; Foss, M.; Besenbacher, F. Phys. Rev. B 2008, 77, 115427
76. Dolatshahi-Pirouz, A.; Sutherland, D. S.; Foss, M.; Besenbacher, F. Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 2226-2230
77. Karabacak, T.; Wang, G. C.; Lu, T. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2004, 22, 1778-1784
78. Meakin, P. Phys. Rev. A 1988, 38, 994
79. Tang, F.; Karabacak, T.; Li, L.; Pelliccione, M.; Wang, G. C.; Lu, T. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2007, 25, 160-166
80. Tang, F.; Liu, D. L.; Ye, D. X.; Zhao, Y. P.; Lu, T. M.; Wang, G. C.; Vijayaraghavan, A. J. Appl. Phys. 2003, 93, 4194-4200
81. Venables, J. A.; Spiller, G. D. T.; Hanbucken, M. Rep. Prog. Phys. 1984, 47, 399-459
82. Wang, X.; Li, N.; Pfefferle, L. D.; Haller, G. L. Catal. Today 2009, 146, 160-164
83. Dellamorte, J. C.; Lauterbach, J.; Barteau, M. A. Appl. Catal., A 2011, 391, 281-288