Growth of Zno/Al2O3 alloy films using atomic layer deposition techniques

Chemistry of Materials

Volumn 15, Issue 4, 2003, Pages 1020-1028

  Elam, J W ^a   George, S M ^a,b  

^a UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

^b UCB 450   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM OXIDE; ZINC OXIDE;

ARTICLE; ATOMIC EMISSION SPECTROMETRY; CHEMICAL COMPOSITION; CHEMICAL REACTION; CRYSTALLIZATION; FILM; GROWTH RATE; SURFACE PROPERTY; TECHNIQUE; THICKNESS;

EID: 0037465334     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm020607+     Document Type: Article

References (69)

1. Kattelus, H.; Ylilammi, M.; Saarilahti, J.; Antson, J.; Lindfors, S. Thin Solid Films 1993, 225, 296.
2. Stromme, M.; Niklasson, G. A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Kukli, K. J. Appl. Phys. 2001, 90, 4532.
3. Fujiwara, H.; Nabeta, T.; Shimizu, I. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 2474.
4. Chu, X.; Wong, M. S.; Sproul, W. D.; Barnett, S. A. J. Mater. Res. 1999, 14, 2500.
5. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Appl. Phys. 1999, 86, 5656.
6. Elam, J. W.; Sechrist, Z. A.; George, S. M. Thin Solid Films 2002, 414, 43.
7. Suntola, T.; Hyvarinen, J. Ann. Rev. Mater. Sci. 1985, 15, 177.
8. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
9. Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grasserbauer, M. Thin Solid Films 1994, 249, 155.
10. Kukli, K.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 3737.
11. Hartmann, J. M.; Charleux, M.; Mariette, H.; Rouviere, J. L. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 142.
12. Ishii, M.; Iwai, S.; Kawata, H.; Ueki, T.; Aoyagi, Y. J. Cryst. Growth 1997, 180, 15.
13. Kumagai, H.; Toyoda, K.; Kobayashi, K.; Obara, M.; Iimura, Y. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2338.
14. Zhang, H.; Solanki, R.; Roberds, B.; Bai, G.; Banerjee, I. J. Appl. Phys. 2000, 87, 1921.
15. Kukli, K.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, F35.
16. Zhang, H.; Solanki, R. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, F63.
17. McDermott, B. T.; Reid, K. G.; El-Masry, N. A.; Bedair, S. M.; Duncan, W. M.; Yin, X.; Pollak, F. H. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 1172.
18. Fujiwara, H.; Nabeta, T.; Kiryu, H.; Shimizu, I. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 4381.
19. Asikainen, T.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 3538.
20. Boutros, K. S.; McIntosh, F. G.; Roberts, J. C.; Bedair, S. M.; Piner, E. L.; El-Masry, N. A. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 1856.
21. Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M.; Rauhala, E. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 154.
22. Seim, H.; Nieminen, M.; Niinisto, L.; Fjellvag, H.; Johansson, L.-S. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 243.
23. Seim, H.; Molsa, H.; Nieminen, M.; Fjellvag, H.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 1997, 7, 449.
24. Nilsen, O.; Peussa, M.; Fjellvag, H.; Niinisto, L.; Kjekshus, A. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1781.
25. Vehkamaki, M.; Hatanpaa, T.; Hanninen, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Electrochem. Solid-State Lett. 1999, 2, 504.
26. Song, J. H.; Sim, E. D.; Baek, K. S.; Chang, S. K. J. Cryst. Growth 2000, 214, 460.
27. Schuisky, M.; Kukli, K.; Ritala, M.; Harsta, A.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 139.
28. Juppo, M.; Alen, P.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 211.
29. Haukka, S.; Lindblad, M.; Suntola, T. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 23.
30. Nieminen, M.; Sajavaara, T.; Rauhala, E.; Putkonen, M.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 2001, 11, 2340.
31. Rahtu, A.; Hanninen, T.; Ritala, M. J. Phys. IV 2001, 11, 923.
32. Suntola, T.; Jorma, A. Method for Producing Compound Thin Films. U.S. Patent 4058430, 1977.
33. Viirola, H.; Niinisto, L. Thin Solid Films 1994, 251, 127.
34. Kong, W.; Fogarty, J.; Solanki, R. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 670.
35. Elers, K.-E.; Ritala, M.; Leskela, M.; Rauhala, E. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 468.
36. Jung, D.; Leonard, M.; El-Masry, N. E.; Bedair, S. M. J. Electron. Mater. 1995, 24, 75.
37. Yousfi, E. B.; Weinberger, B.; Donsanti, F.; Cowache, P.; Lincot, D. Thin Solid Films 2001, 387, 29.
38. Lujala, V.; Skarp, J.; Tammenmaa, M.; Suntola, T. Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 34.
39. Yamada, A.; Sang, B.; Konagai, M. Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 216.
40. Ott, A. W.; Chang, R. P. H. Mater. Chem. Phys. 1999, 58, 132.
41. Yousfi, E. B.; Fouache, J.; Lincot, D. Appl. Phys. Lett. 2000, 153, 223.
42. Ott, A. W.; Klaus, J. W.; Johnson, J. M.; George, S. M. Thin Solid Films 1997, 292, 135.
43. Higashi, G. S.; Fleming, C. G. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 1963.
44. Ritala, M.; Saloniemi, H.; Leskela, M.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grasserbauer, M. Thin Solid Films 1996, 286, 54.
45. Ericsson, P.; Bengtsson, S.; Skarp, J. Microelectron. Eng. 1997, 36, 91.
46. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Sajavaara, T. Thin Solid Films 2000, 368, 1.
47. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981.
48. Gosset, L. G.; Damlencourt, J.-F.; Renault, O.; Rouchon, D.; Holliger, P.; Ermolie, A.; Trimaille, I.; Ganem, J.-J.; Martin, F.; Semeria, M.-N. J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 17.
49. Ritala, M.; Leskela, M.; Nykanen, E.; Soininen, P.; Niinisto, L. Thin Solid Films 1993, 225, 288.
50. Weast, R. C.; Astle, M. J. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 63rd ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 1982-1983.
51. Jensen, J. M.; Oelkers, A. B.; Toivola, R.; Johnson, D. C.; Elam, J. W.; George, S. M. Chem. Mater. 2002, 14, 2276.
52. Rahtu, A.; Alaranta, T.; Ritala, M. Langmuir 2001, 17, 6506.
53. Aarik, J.; Aidla, A.; Kukli, K.; UUstare, T. J. Cryst. Growth 1994, 114, 116.
54. Aarik, J.; Aidla, A.; Jaek, A.; Leskela, M.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 1994, 4, 1239.
55. Lee, J.-M.; Chang, K. M.; Kim, K.-K.; Choi, W.-K.; Park, S.-J. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, G1.
56. Zhanpeisov, N. U.; Zhidomirov, G. M.; Baerns, M. J. Mol. Catal. A: Chem. 1995, 99, 35.
57. Pandey, R.; Gale, J. D.; Sampath, S. K.; Recio, J. M. J. Am. Ceram. Soc. 1999, 82, 3337.
58. Peri, J. B. J. Phys. Chem. 1965, 69, 211.
59. Peri, J. B. J. Phys. Chem. 1965, 69, 220.
60. Dillon, A. C.; Ott, A. W.; Way, J. D.; George, S. M. Surf. Sci. 1995, 322, 230.
61. Atherton, K.; Newbold, G.; Hockey, J. A. Discuss. Faraday Soc. 1971, 52, 33.
62. Mattmann, G.; Oswald, H. R.; Schweizer, F. Helv. Chim. Acta 1972, 55, 1249.
63. Topoglidis, E.; Cass, A. E. G.; O'Regan, B.; Durrant, J. R. J. Electroanal. Chem. 2001, 517, 20.
64. Baohong, L.; Hu, R.; Deng, J. Anal. Chim. Acta 1997, 341, 161.
65. Schaep, J.; Vandecasteele, C.; Peeters, B.; Luyten, J.; Dotremont, C.; Roels, D. J. Membr. Sci. 1999, 163, 29.
66. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 2000, 162-163, 280.
67. Sato, H.; Minami, T.; Takata, S.; Miyata, T.; Ishii, M. Thin Solid Films 1993, 236, 14.
68. Kim, H.; Pique, A.; Horwitz, J. S.; Murata, H.; Kafafi, Z. H.; Gilmore, C. M.; Chrisey, D. B. Thin Solid Films 2000, 377-378, 798.
69. Schuisky, M.; Elam, J. W.; George, S. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 88, 180.