Effect of water dose on the atomic layer deposition rate of oxide thin films

Thin Solid Films

Volumn 368, Issue 1, 2000, Pages 1-7

  Matero, Raija ^a   Rahtu, Antti ^a   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a   Sajavaara, Timo ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; FILM GROWTH; SEMICONDUCTING ALUMINUM COMPOUNDS; WATER;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

THIN FILMS;

EID: 0033739843     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0040-6090(00)00890-7     Document Type: Article

References (35)

1. Suntola T. Mater. Sci. Rep. 4:1989;261.
2. Leskelä M., Ritala M. J. Phys. IV. 5:1995;C5-937.
3. Niinistö L., Ritala M., Leskelä M. Mater. Sci. Eng. B. 41:1996;23.
4. Ritala M. Appl. Surf. Sci. 112:1997;223.
5. Ritala M., Leskelä M., Dekker J.-P., Mutsaers C., Soininen P.J., Skarp J. Chem. Vap. Deposit. 5:1999;7.
6. George S.M., Ott A.W., Klaus J.W. J. Phys. Chem. 100:1996;13121.
7. Ott A.W., McCarley K.C., Klaus J.W., Way J.D., George S.M. Appl. Surf. Sci. 107:1996;128.
8. Ott A.W., Klaus J.W., Johnson J.M., George S.M. Thin Solid Films. 292:1997;135.
9. Ott A.W., Johnson J.M., Klaus J.W., George S.M. Appl. Surf. Sci. 112:1997;205.
10. Ritala M., Asikainen T., Leskelä M. Electrochem. Solid-State Lett. 1:1998;156.
11. Lindblad M., Haukka S., Kytökivi A., Lakomaa E.-L., Rautiainen A., Suntola T. Appl. Surf. Sci. 121/122:1997;286.
12. Haukka S., Lakomaa E.-L., Root A. J. Phys. Chem. 97:1993;5085.
13. Haukka S., Lakomaa E.-L., Jylhä O., Vilhunen J., Hornyzkyj S. Langmuir. 9:1993;3497.
14. Kytökivi A., Lakomaa E.-L., Root A., Österholm H., Jacobs J.-P., Brongersma H. Langmuir. 13:1997;2717.
15. Parfitt G.D. Prog. Surf. Membr. Sci. 11:1976;181.
16. Jones P., Hockey J.A. J. Chem. Soc. Faraday Trans. I. 68:1972;907.
17. Ritala M., Saloniemi H., Leskelä M., Prohaska T., Friedbacher G., Grasserbauer M. Thin Solid Films. 286:1996;54.
18. Ritala M., Leskelä M. Appl. Surf. Sci. 75:1994;333.
19. Ritala M., Leskelä M., Nykänen E., Soininen P., Niinistö L. Thin Solid Films. 225:1993;288.
20. Ritala M., Leskelä M., Rauhala E. Chem. Mater. 6:1994;556.
21. Ritala M., Leskelä M., Niinistö L., Haussalo P. Chem. Mater. 5:1993;1174.
22. Kattelus H., Ylilammi M., Salmi J., Ranta-aho T., Nykänen E., Suni I. MRS Symp. Proc. 284:1993;511.
23. Kukli K., Ritala M., Leskelä M. J. Electrochem. Soc. 142:1995;1671.
24. Asikainen T., Ritala M., Leskelä M. J. Electrochem. Soc. 141:1994;3210.
25. Viirola H., Niinistö L. Thin Solid Films. 249:1994;144.
26. Asikainen T., Ritala M., Leskelä M. J. Electrochem. Soc. 142:1995;3538.
27. Suntola T. Thin Solid Films. 216:1992;84.
28. Ylilammi M., Ranta-aho T. Thin Solid Films. 232:1993;56.
29. Jokinen J., Haussalo P., Keinonen J., Ritala M., Riihelä D., Leskelä M. Thin Solid Films. 289:1996;159.
30. Higashi G.S., Flemming C.G. Appl. Phys. Lett. 55:1989;1963.
31. Otterman C.R., Bange K., Wagner W., Laube M., Rauch F. Surf. Interface Anal. 19:1992;435.
32. R. Matero, M. Ritala, M. Leskelä, T. Salo, J. Aromaa, O. Forsén, J. Jokinen, T. Sajavaara, to be published.
33. Kukli K., Ritala M., Leskelä M., Jokinen J. J. Vac. Sci. Technol. A. 15:1997;2214.
34. Kukli K., Ihanus J., Ritala M., Leskelä M. J. Electrochem. Soc. 144:1997;300.
35. Utriainen M., Kovács K., Campbell J.M., Niinistö L., Réti F. J. Electrochem. Soc. 146:1999;189.