Effect of polyatomic ion structure on thin-film growth: Experiments and molecular dynamics simulations

Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 9, 2000, Pages 5004-5016

  Wijesundara, Muthu B J ^a   Ji, Yuan ^b   Ni, Boris ^b   Sinnott, Susan B ^b,c   Hanley, Luke ^a  

^a UNIVERSITY OF ILLINOIS AT CHICAGO   (United States)

^b UNIVERSITY OF KENTUCKY   (United States)

^c University of Florida   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000511577     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1315329     Document Type: Article

References (90)

1. E. T. Ada, O. Kornienko, and L. Hanley, J. Phys. Chem. B 102, 3959 (1998).
2. P. Nowak, N. S. McIntyre, D. H. Hunter, I. Bello, and W. M. Lau, Surf. Interface Anal. 23, 873 (1995).
3. L. Hanley, H. Lim, D. G. Schultz, S. Garbis, C. Yu, E. T. Ada, and M. B. J. Wijesundara, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 157, 174 (1999).
4. E. Chanson et al., J. Appl. Phys. 81, 6513 (1997).
5. J. Melgailis, A. A. Mondelli, I. L. Berry, and R. Mohondro, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 927 (1998).
6. K. J. Boyd, D. Marton, J. W. Rabalais, and Y. Lifshitz, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 455 (1998).
7. E. H. Lee, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 151, 29 (1999).
8. S. Netcheva and P. Bertrand, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 151, 129 (1999).
9. N. Toyoda, H. Kitani, J. Matsuo, and I. Yamada, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 121, 484 (1997).
10. L. Qi and S. B. Sinnott, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1293 (1998).
11. D. Takeuehi, N. Shimada, J. Matsuo, and I. Yamada, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 121, 345 (1997).
12. H. Usui, Thin Solid Films 365, 22 (2000).
13. F. W. McLafferty and D. B. Stauffer, The Wiley/NBS Registry of Mass Spectral Data (Wiley, New York, 1989).
14. I. Bello, W. H. Chang, and W. M. Lau, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1425 (1994).
15. D. Strongin and J. Mowlem, Chem. Phys. Lett. 187, 281 (1991).
16. A. A. Tsekouras, M. J. Iedema, G. B. Ellison, and J. P. Cowin, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 174, 219 (1998).
17. H. Luo, S. A. Miller, R. G. Cooks, and S. J. Pachuta, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 174, 193 (1998).
18. S. B. Wainhaus, H. Lim, D. G. Schultz, and L. Hanley, J. Chem. Phys. 106, 10329 (1997).
19. J. A. Burroughs and L. Hanley, Anal. Chem. 66, 3644 (1994).
20. E. T. Ada, L. Hanley, S. Etchin, J. Melngailis, W. J. Dressick. M.-S. Chen, and J. M. Calvert, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2189 (1995).
21. W. Jacob, Thin Solid Films 326, 1 (1998).
22. T. Ast, J. D. E. Riederer, S. A. Miller, M. Morris, and R. G. Cooks, Org. Mass Spectrom. 28, 1021 (1993).
23. W. R. Koppers, M. A. Gleeson, J. Lourenco, T. L. Weeding, J. Los, and A. W. Kleyn, J. Chem. Phys. 110, 2588 (1999).
24. C. Mair, T. Fiegele, R. Worgotter, J. H. Futrell, and T. D. Mark, Int. J. Mass Spectrom. Ion Processes 177, 105 (1998).
25. E. E. Johnson and B. D. Ratner, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 81, 303 (1996).
26. F. F. Shi, J. Macromol. Sci. Rev. Macromol. Chem. C 36, 795 (1996).
27. C.-M. Chan, T.-M. Ko, and H. Hiraoka, Surf. Sci. Rep. 24, 1 (1996).
28. D. T. Clark, W. J. Feast, P. J. Tweedale, and H. R. Thomas, J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed. 18, 1651 (1980).
29. M. Strobel, S. Corn, C. S. Lyons, and G. A. Korba, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 25, 1295 (1987).
30. K. H. R. Kirmse, A. E. Wendt, G. S. Oehrlein, and Y. Zhang, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1287 (1994).
31. J. W. Coburn, Appl. Phys. A: Solids Surf. 59, 451 (1994).
32. D. C. Gray, V. Mohindra, and H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 354 (1994).
33. M. Horie, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2490 (1995).
34. W. W. Stoffels, E. Stoffels, and K. Tachibana, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 87 (1998).
35. J. Hopkins and J. P. S. Badyal, J. Phys. Chem. 99, 4261 (1995).
36. L. M. Han, R. B. Timmons, W. W. Lee, Y. Chen, and Z. Hu, J. Appl. Phys. 84, 439 (1998).
37. C. B. Labelle and K. K. Gleason. J. Vac. Sci. Technol. A 17, 445 (1999).
38. T. R. Gengenbach and H. J. Griesser, Surf. Interface Anal. 26, 498 (1998).
39. H. Y. Kim and H. K. Yasuda, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1837 (1997).
40. H.-U. Poll and S. Schreiter, Surf. Coat. Technol. 93, 105 (1997).
41. K. Wiesemann, Pure Appl. Chem. 68, 1029 (1996).
42. L. J. Gerenser, in Plasma Surface Modification of Polymers, edited by M. Strobel, C. Lyons, and K. L. Mittal (VSP, 1994), pp. 43-64.
43. D. W. Brenner and J. A. Harrison, Ceram. Bull. 71, 1821 (1992).
44. D. B. Graves, M. J. Kushner, J. W. Gallagher, A. Garscadden, G. O. Oehrlein, and A. V. Phelps, Database Needs for Modeling and Simulation of Plasma Processing. Report by the panel on database needs in plasma processing. National Research Council (National Academy, Washington, D.C., 1996).
45. C A. Nichols, J. R. Woodworth, and J. W. Hamilton, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3389 (1998).
46. W. Scharzenbach, G. Cunge, and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 7562 (1999).
47. K. S. S. Lau and K. K. Gleason, J. Phys. Chem. B 102, 5977 (1998).
48. F. Quaranta, A. Valentini, P. Favia, R. Lamendola, and R. d'Agostino, Appl. Phys. Lett. 63, 10 (1993).
49. M. A. Golub, T. Wydeven, and A. L. Johnson, Langmuir 14, 2217 (1998).
50. G. J. Leggett and J. C. Vickerman, Anal. Chem. 63, 561 (1991).
51. H.-K. Hu, J. A. Schultz, and J. W. Rabalais, J. Phys. Chem. 86, 3364 (1982).
52. M. Strobel, P. A. Thomas, and C. S. Lyons, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 25, 3343 (1987).
53. R. M. France and R. D. Short, Langmuir 14, 4827 (1998).
54. M. B. J. Wijesundara, L. Hanley, B. Ni, and S. B. Sinnott, Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 97, 23 (2000).
55. Practical Surface Analysis, edited by D. Briggs and M. P. Seah (Wiley, New York, 1990), Vol. 1.
56. J. H. Scofield, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 8, 129 (1976).
57. M. P. Allen and D. J. Tildesley, Computer Simulation of Liquids (Oxford University Press, New York, 1987).
58. D. W. Brenner, Phys. Rev. B 42, 9458 (1990).
59. S. B. Sinnott, L. Qi, O. A. Shenderova, and D. W. Brenner, in Advances in Classical Trajectory Methods, edited by W. Hase (JAI Press, Stanford, Ct, 1999), Vol. IV, pp. 1-26.
60. P. de Sainte Claire, K. Son, W. L. Hase, and D. W. Brenner, J. Phys. Chem. 100, 1761 (1996).
61. E. R. Williams, J. G. C. Jones, L. Fang, R. N. Zare, B. J. Garrison, and D. W. Brenner, J. Am. Chem. Soc. 114, 3207 (1992).
62. D. R. Alfonso, S. E. Ulloa, and D. W. Brenner. Phys. Rev. B 49, 4948 (1994).
63. G. M. Loudon, Organic Chemistry (Addison-Wesley, Reading, MA, 1984).
64. D. T. Clark, D. B. Adams, A. Dilks, J. Peeling, and H. R. Thomas, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 8, 51 (1976).
65. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy (Perkin-Elmer, Eden Prairie, MO, 1992).
66. V. S. Smentkowski, J. J. Yates, Jr., X. Chen, and W. A. Goddard III, Surf. Sci. 370, 209 (1997).
67. D. T. Clark and A. Dilks, J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed. 15, 15 (1977).
68. P. M. A. Sherwood, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 2783 (1992).
69. J. W. Lee, T. H. Kim, S. H. Kim, C. Y. Kim, Y. H. Yoon, J. S. Lee, and J. G. Han, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 121, 474 (1997).
70. J. Riga, J.-J. Pireaux, and J. J. Verbist, Mol. Phys. 34, 131 (1977).
71. D. T. Clark, W. J. Feast, W. K. R. Musgrave, and I. Ritchie, J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed. 113, 857 (1975).
72. M. D. Garrison, R. Luginbuhl, R. M. Overney, and B. D. Ratner, Thin Solid Films 352, 13 (1999).
73. B. S. Freiser and J. L. Beauchamp, J. Am. Chem. Soc. 96, 6260 (1974).
74. D. G. Schultz, S. B. Wainhaus, L. Hanley, P. de Sainte Claire, and W. L. Hase, J. Chem. Phys. 106, 10337 (1997).
75. L. Hanley, H. Lim, D. G. Schultz, S. B. Wainhaus, P. de Sainte Claire, and W. L. Hase, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 125, 218 (1997).
76. J. A. Burroughs, S. B. Wainhaus, and L. Hanley, J. Phys. Chem. 98, 10913 (1994).
77. N. Wade, T. Pradeep, J. Shen, and R. G. Cooks, Rapid Commun. Mass Spectrom. 13, 986 (1999).
78. D. C. Gray, H. H. Sawin, and J. W. Butterbaugh, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 779 (1991).
79. H. Z. Wang, M. W. Rembold, and J. Q. Wang. J. Appl. Polym. Sci. 49, 701 (1993).
80. M. Inayoshi, M. Ito, M. Hori, T. Goto, and M. Hiramatsu, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 233 (1998).
81. N. M. Mackie, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 101, 9425 (1997).
82. T. Sikola, D. G. Armour, and J. A. Van den Berg, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3156 (1996).
83. R. Jayaraman, R. T. McGrath, and G. A. Hebner, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1545 (1999).
84. J. P. Booth, G. Cunge, P. Chabert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 85, 3097 (1999).
85. J. K. Olthoff and Y. Wang, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1552 (1999).
86. Y. Wang, E. C. Benck, M. Misakian, M. Edamura, and J. K. Olthoff, J. Appl. Phys. 87, 2114 (2000).
87. R. Chen, V. Gorelik, and M. S. Silverstein, J. Appl. Phys. 56, 615 (1995).
88. S. Samukawa and T. Mukai, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2463 (1999).
89. T. Schwarz-Selinger, A. von Keudall, and W. Jacob, J. Appl. Phys. 86, 3988 (1999).
90. G. Gunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 3952 (1999).